「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A substrate 2 having translucency and a metal precursor solution to be turned into the metal film 3 are prepared.例文帳に追加

透光性を有する基板２を用意するとともに、金属膜３となる金属前駆体溶液を用意する。 - 特許庁

When the solution is dried and the ethanol is vaporized, a thin conductive and hydrophilic film remains on the substrate.例文帳に追加

溶液が乾燥してエタノールが蒸発すると、伝導性及び親水性粒子の薄層が基板上に残る。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus which is readily arranged and prevents scattering of mist of processing solution from a processing tool.例文帳に追加

構成が容易でかつ処理ツールから処理液のミストが飛散することがない基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can satisfactorily supply a chemical solution into the opening of a processing cup.例文帳に追加

処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

It comprises treating a recycled substrate with a water solution with a pH<7 after a cleaning stage.例文帳に追加

該方法は、清浄化段階の後に、ｐＨ＜７を有する水溶液でリサイクルされる基質を処理することを含む。 - 特許庁

Consequently, while an electrolytic solution is supplied, a current is supplied through the ball assembly to polish the substrate 114.例文帳に追加

これによって電解液を供給しつつボールアッセンブリを介して電流を流し、基板１１４を研磨する。 - 特許庁

This cell cultural product contains a substrate material and a coating attached on the same by a coating solution.例文帳に追加

本発明の細胞培養用生成物は、基質と、その上にコーティング溶液より付着したコーティングとを含む。 - 特許庁

To prevent the adhesion of a resist, a mixture of a developing solution and the resist, etc., to a resist pattern on a semiconductor substrate.例文帳に追加

レジスト、現像液レジストの混合物などが半導体基板上のレジストパターンへの付着を防ぐようにする。 - 特許庁

To provide a substrate treating device which can accurately detect the remaining amount of a treating solution in a trap tank.例文帳に追加

トラップタンク内の処理液の残量を正確に検出することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In an HF electrolytic aqueous solution, a semiconductor substrate 11 is anodized with a silicon nitride film as a mask.例文帳に追加

ＨＦ電界水溶液中において、シリコン窒化膜をマスクとして半導体基板１１を陽極酸化する。 - 特許庁

The carbon substrate is added to the solution, and heated and refluxed in the neighborhood of the boiling point of the alcohol under an inactive gas atmosphere.例文帳に追加

その溶液にカーボン基体を加え，不活性ガス雰囲気中で，アルコールの沸点近傍で加熱還流する。 - 特許庁

The plating is carried out after the silane coupling agent is decomposed and removed by dipping the substrate in a mixed solution of water and an organic solvent.例文帳に追加

水と有機溶剤の混合溶液に浸漬して、シランカップリング剤を分解、除去した後めっきする。 - 特許庁

To provide a DRAW type optical disk substrate exhibiting appropriate wettability with a dyestuff solution and having satisfactory signal characteristics and productivity.例文帳に追加

色素溶液との適切な濡れ性を示し、信号特性や生産性が良好な追記型光ディスク基板。 - 特許庁

To prevent an HF aqueous solution from infiltrating into the interior from between a silicon substrate 1 and a resist 11 during cleaning.例文帳に追加

洗浄時にＨＦ水溶液が、シリコン基板１とレジスト１１の間から内部に染み込むことを防止する。 - 特許庁

Thus, the effect of the temperature distribution in the atmosphere on the solution 42 and the semiconductor substrate 35 is averaged.例文帳に追加

こうして、溶液４２および半導体基板３５が受ける雰囲気温度分布の影響を平均化させる。 - 特許庁

The aqueous solution is also used to prepare the surface of the substrate prior to the development of the resist coating layer.例文帳に追加

この処理溶液は、レジスト被覆層の現像前に基材の表面を調整するためにも用いられる。 - 特許庁

Thereafter, the solution is ejected on the surface of the silicon substrate by an ink jet method so as to arrange droplets.例文帳に追加

その後に、シリコン基板１の表面に対して、インクジェット法で溶液の吐出を行い、液滴を配置する。 - 特許庁

The method includes adding citric acid solution into the liquid medium of a semiconductor substrate cleaning system.例文帳に追加

本発明の方法は、半導体基板洗浄システムの液体媒質にクエン酸溶液を添加することを含む。 - 特許庁

The coating material can be removed from the substrate by being brought into contact with an alkaline aqueous solution of a pH of ≥8.例文帳に追加

塗膜は、ｐＨ８以上のアルカリ水溶液に接触させることによって基板から除去可能である。 - 特許庁

There is formed, on a substrate, a concave groove having a fixed width, length, and depth where the solution is located on a surface.例文帳に追加

溶液が表面に位置する一定の横幅と奥行きと深さとの凹溝が基体に形成されている。 - 特許庁

To provide an apparatus for efficiently and inexpensively applying a solution on a large-sized substrate with safety and space saving.例文帳に追加

効率よく、かつ低コストで溶液を大型基板上に安全かつ省スペースで塗布する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a robot hand capable of stably holding a substrate such as an enlarged glass substrate easy to bend, on the hand without flexure and forming a film in uniform thickness on the glass substrate in the same condition of an applied solution on the whole surface of the glass substrate.例文帳に追加

大型化されたガラス基板の様な撓みやすい基板を撓みなく安定してハンド上に保持することができ、塗布液がガラス基板全面で同一の条件で、ガラス基板に均一な厚さに成膜が出来るロボットハンドの提供。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus and a method of treating a substrate with which satisfactory treatment on the surface of the substrate can be carried out by feeding thoroughly mixed sulfuric acid and hydrogen-peroxide aqueous solution to the surface of the substrate.例文帳に追加

十分に混合された硫酸および過酸化水素水を基板の表面に供給することができ、これにより、基板の表面に良好な処理を施すことが基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A substrate treatment apparatus 1 comprises a liquid nozzle 16 for horizontally transporting a substrate 2 and simultaneously forming a liquid layer X of a developer solution on the upper face of the substrate and removal means for removing the liquid layer X formed on the substrate 2.例文帳に追加

基板処理装置１は、基板２を水平搬送しながらその上面に現像液の液層Ｘを形成するための液ノズル１６と、基板２上に形成された液層Ｘを除去するための除去手段とを備える。 - 特許庁

The thickness of the functional element substrate 14 is specified to ≥4 mm and ≤15 mm and a substrate holding base 13 maintains the substrate 14 nearly horizontally by positioning the surface to be applied with the liquid drop 2 of the solution of the substrate 14 so as to face upward.例文帳に追加

機能性素子基板１４の厚さを４ｍｍ以上、１５ｍｍ以下とするとともに、基板保持台１３は、基板１４の前記溶液の液滴２が付与される面を上向きにして前記基板１４をほぼ水平に保持する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing device which are capable of improving uniformity in the surface of substrate processing, in a case when the substrate with polysilicon formed on the surface thereof is processed by processing solution containing nitrohydrofluoric acid.例文帳に追加

表面にポリシリコンが形成された基板を、フッ硝酸を含む処理液によって処理する場合において、基板処理の面内均一性を向上させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate peripheral processing device and a substrate peripheral processing method which can achieve properly etch-remove a copper film from the substrate peripheral portion corresponding to states of an etching solution and to provide a substrate peripheral processing device and a method which do not need to prepare a plurality of recipes corresponding to the thickness of the copper thin films.例文帳に追加

エッチング液の状態に応じた適切な処理を行って、基板の周縁部の銅膜を良好にエッチング除去することができる基板周縁処理装置および基板周縁処理方法を提供する。 - 特許庁

In the film deposition apparatus for forming a solid film on a substrate using a vaporized gas formed by jetting a material solution, and using this vaporized gas, the raw material solution temperatures of two or more material solution jetting nozzles connected to a raw material solution vaporizer can be controlled independently.例文帳に追加

原料溶液を噴出して気化ガスとし、この気化ガスを使用して基板上に固体膜を形成する成膜装置において、原料溶液気化器に接続された２以上の原料溶液噴出ノズルの原料溶液温度を、それぞれ独立に制御することができるようにする。 - 特許庁

To realize highly efficient solution process and particularly realize highly efficient simultaneous solution process of a plurality of substrates by fully utilizing sufficient processing capability of bubbles to the processing surface at the time of solution processing through introduction of bubbles under the condition that the substrate is soaked in the solution.例文帳に追加

基板を液体内に浸漬させた状態で気泡を導入して液体処理を行う場合に、気泡が被処理面に対して十分な処理能力を発揮することで、液体処理の効率化を図ること、特に複数の基板を同時に液体処理する場合の効率化を図ること。 - 特許庁

This method for producing the hydrogen with the microorganism is characterized by culturing the microorganism having a formate dehydrogenation enzyme gene and a hydrogenase gene in a formate-containing culture solution under an aerobic condition, adding a reduced state solution for producing the hydrogen to the culture solution, and then supplying an organic substrate to the solution.例文帳に追加

蟻酸脱水素酵素遺伝子およびヒドロゲナーゼ遺伝子を有する微生物を、好気的条件下の蟻酸類含有培養液中で培養後、還元状態にある水素発生用溶液に加え、該溶液に有機性基質を供給することを特徴とする生物的水素製造方法。 - 特許庁

The electrolyte solution having a capability to make the Si substrate 101 porous is used as the first electrolyte solution 131 and the electrolyte solution not having the capability of making the conductive partition wall 108 substantially porous is used as the second electrolyte solution 141.例文帳に追加

第１の電解質溶液１３１として、Ｓｉ基板１０１を多孔質化する能力を有する電解質溶液を使用し、第２の電解質溶液１４１として、実質的に導電性隔壁１０８を多孔質化する能力を有しない電解質溶液を使用する。 - 特許庁

The plating equipment is equipped with a plating tank 50 for holding a plating solution 45, a head section 47 holding a substrate W connected to a cathode in at least the plating solution 45, an anode 48 arranged within the plating tank 50, and a plating solution jet nozzle 53 for supplying the plating solution 45 to the plating tank 50.例文帳に追加

めっき液４５を保持するめっき槽５０と、カソードに接続された基板Ｗを少なくともめっき液４５中で保持するヘッド部４７と、めっき槽５０の内部に配置されるアノード４８と、めっき液４５をめっき槽５０に供給するめっき液噴出ノズル５３とを備える。 - 特許庁

The thin film formation method of forming an even and thin film includes steps of evenly applying a chemical solution containing particulates of thin film materials to one face of a substrate and drying the chemical solution by exposing the substrate to prescribed temperature atmosphere before the particulates of the thin film materials dispersed in the chemical solution applied to the substrate are agglomerated.例文帳に追加

基板の一面に薄膜材料の微粒子を分散させた薬液を均一に塗布する工程と、該基板に塗布された薬液中に分散している薄膜材料の微粒子が凝集する前に、上記基板を所定の温度雰囲気中に曝して上記薬液を乾燥させる工程と、を実行し均一な薄膜を形成するものである。 - 特許庁

A liquid processing method includes: a solution warming step of warming a water-repellent agent solution; a water-repellent processing step of supplying the warmed water-repellent agent solution to a substrate; a rinse step of supplying a rinse liquid to the substrate after the water-repellent processing step; and a drying step of removing the rinse liquid by rotating the substrate.例文帳に追加

撥水化剤溶液を加温する溶液加温工程と、加温された前記撥水化剤溶液を基板に対して供給する撥水化処理工程と、前記撥水化処理工程後の前記基板に対し、リンス液を供給するリンス工程と、前記基板を回転させて、前記リンス液を除去する乾燥工程と、を含む液処理方法が提供される。 - 特許庁

Pure water is fed from a pure water feed nozzle 40 to the surface center of a rotating rectangular LCD substrate G to form a pure water thin film, a developing solution is fed from a developing solution feed nozzle 42 to the surface center of the rotating LCD substrate G where a thin pure water film has been formed to form a developing solution thin film on the surface of the substrate G.例文帳に追加

回転される矩形状のＬＣＤ基板Ｇ表面の中心部に純水供給ノズル４０から純水を供給して、純水の薄膜を形成し、回転されると共に、純水の薄膜が形成されたＬＣＤ基板Ｇ表面の中心部に現像液供給ノズル４２から現像液を供給して、現像液の薄膜を形成する。 - 特許庁

The resist solution application processing apparatus is provided with a reduced-pressure dryer 14 for performing the reduced-pressure drying of a substrate 100 to which a resist solution is applied, a baking device 16 for heating the substrate 100 dried in a reduced-pressure state to solidify the resist solution and a carrying robot 15 for carrying the substrate 100 between the reduced-pressure dryer 14 and the baking device 16.例文帳に追加

レジスト液が表面に塗布された基板１００を減圧乾燥する減圧乾燥機１４と、前記減圧乾燥された基板１００を加熱して前記レジスト液を固化させるベーキング装置１６と、減圧乾燥機１４と前記ベーキング装置１６の間で基板を搬送する搬送ロボット１５を備えるレジスト液塗布処理装置である。 - 特許庁

The substrate surface is spin coated with a dyestuff solution by changing the coating weight so as to meet the area or position of the information bit area on the substrate surface, by which the substrate surface is provided with a light absorption layer.例文帳に追加

色素溶液をこの基板表面の情報ピット域の面積または位置にあわせて塗布量を変化させて上記基板表面にスピンコートすることにより光吸収層を設けた。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for preventing a solution from scattering at the notch section of a substrate, and at the same time, for sure cleaning of the notch section and a bevel section, and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板のノッチ部における溶液の飛散を防止するとともに、ノッチ部及びべベル部の洗浄を確実に行うことができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

Because the etching solution discharge film 22 has no substrate carrying force, a carrier 24 such as a belt conveyor having a member 23 for pushing an end part of the substrate from behind can be provided on the symmetrical position of the substrate 3.例文帳に追加

エッチング液吐出膜２２には基板搬送力がないので、基板３の対称位置に基板の端部を後押しする部材２３を有するベルトコンベア等の搬送装置２４を設けることもできる。 - 特許庁

The substrate 3 is prepared having a functional group 2 given on its surface, and a solution containing the nanowire 1 is contacted with the surface of the substrate 3 to join the nanowire 1 with the substrate 3 through the functional group 2.例文帳に追加

表面に官能基２が付された基板３を用意し、ナノワイヤ１を含有する溶液と基板３の表面とを接触させて、ナノワイヤ１と基板３とを官能基２を介して結合させる。 - 特許庁

A substrate is subjected to etching and ashing in succession with a photoresist pattern formed on the substrate as a mask, the photoresist pattern is removed using the removing solution and then the substrate is rinsed with water.例文帳に追加

そして、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとして、該基板にエッチング、続いてアッシング処理をした後、上記剥離液を用いてホトレジストパターンを剥離し、次いで基板を水でリンス処理する。 - 特許庁

To chemical-treat a substrate while easily avoiding gases from remaining on the surface of the substrate and the composition and temperature of the chemical solution from varying between the edge part and the central part of the substrate.例文帳に追加

基板の表面に気体が残ったり、薬液組成並びにその温度が基板の端部と中央部で異なったりすることを容易に回避しつつ薬液処理を行うことができるようにする。 - 特許庁

The method for manufacturing the sensor solid substrate includes a process for bringing the solid substrate into contact with a mixed liquid of two or more organic solvents not containing a polymer after the solid substrate is brought into contact with the hydrophobic polymer solution.例文帳に追加

固体基板を疎水性ポリマー溶液に接触させた後に前記ポリマーを含まない２種以上の有機溶剤の混合液に接触させる工程を含む、センサー用固体基板の製造方法。 - 特許庁

The silicon substrate can be manufactured by the manufacturing method including a step of bonding the cyano groups to the dangling bonds existing on the surface of the silicon substrate by treating the silicon substrate in a solution.例文帳に追加

このシリコン基板は、（ｉ）シリコン基板を溶液で処理することによって、シリコン基板の表面に存在する未結合手にシアノ基を結合させる工程を含む製造方法によって製造できる。 - 特許庁

For example, a Cu thin film 102 is formed on a substrate 101 such as a YSZ substrate or an MgO substrate and then an amorphous LaCuOS thin film 103 is grown by solution vaporization CVD.例文帳に追加

例えば、ＹＳＺ基板やＭｇＯ基板などからなる基板１０１上にＣｕ薄膜１０２を形成した後、溶液気化ＣＶＤ法によりアモルファスＬａＣｕＯＳ薄膜１０３を成長させる。 - 特許庁