「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

A Ge-based substrate or an SiGe-based substrate of the semiconductor film is cleaned by a hydrochloric acid solution or a hydrochloric acid added with hydrofluoric acid, the cleaned substrate is annealed by hydrogen in a CVD deposition apparatus, and finally a deposition gas is introduced into the CVD layer apparatus.例文帳に追加

半導体膜の製造方法は、Ｇｅ系基板あるいはＳｉＧｅ基板を塩酸溶液あるいは弗酸添加塩酸溶液で洗浄し、洗浄後の基板をＣＶＤ成膜装置内で水素アニールし、ＣＶＤ層装置内に成膜ガスを導入し、半導体膜を形成する。 - 特許庁

A resist solution added with a photo-acid generating agent in a resin is applied onto two sheets of substrates to prepare resist-applied substrate samples, the plurality of resist-applied substrate samples is irradiated thereafter with a laser beam to expose the resist to the beam, one side of the exposed resist-applied substrate samples is kept in a low temperature, and the other is heated.例文帳に追加

樹脂に光酸発生剤を添加したレジスト溶液を、２枚の基板上に塗布してレジスト塗布基板サンプルを作成した後、複数のレジスト塗布基板サンプルに、レーザー光を照射してレジストを露光し、露光したレジスト塗布基板サンプルの一方を低温に保持し、他方を加熱する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium, by which the sticking of foreign matters on the glass substrate can be prevented and the glass substrate can be manufactured at a high manufacturing efficiency by suppressing the contamination of peripheral parts of a treating tank or a cleaning tank by a solution for a chemical tempering treatment to the minimum.例文帳に追加

処理槽や洗浄槽の周辺の化学強化処理液による汚染を最小限に抑えることで、ガラス基板への異物の付着を防止することができ、高い生産効率で製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

In the method, a semiconductor substrate is cleaned by a silicon etching alkali or acid solution, a surface of the cleaned semiconductor substrate is oxidized by an oxidizing composition including one or more oxidizing agent and having a pH of higher than 7, and the oxidized semiconductor substrate is textured by a texturing composition.例文帳に追加

半導体基体をケイ素エッチングアルカリもしくは酸溶液で清浄化し、清浄化された半導体基体の表面を、１種以上の酸化剤を含み、７を超えるｐＨを有する酸化性組成物で酸化し、酸化された半導体基体をテクスチャ化組成物でテクスチャ化する。 - 特許庁

This method submerges a crystal silicon substrate in an alkaline solution and provides anisotropic etching on a surface of the substrate to form a projection-recess structure on the surface for concave-convex substrate fabrication.例文帳に追加

アルカリ性溶液中に結晶系シリコン基板を浸漬し、該基板の表面を異方性エッチングすることにより、該基板の表面に凹凸構造を形成して凹凸基板を製造する方法であって、アルカリ性溶液に、以下の一般式（１）で表わされる添加剤が含有されている。 - 特許庁

The dye-sensitized solar battery includes a lower substrate and an upper substrate separated from each other, a semiconductor electrode layer arranged on the lower substrate, a dye layer adsorbed on a surface of the semiconductor electrode layer, and electrolyte solution arranged between the lower and the upper substrates.例文帳に追加

この染料感応太陽電池は、互いに離隔した下部基板及び上部基板と、下部基板上に配置された半導体電極層と、半導体電極層の表面に吸着された染料層と、下部及び上部基板間に配置される電解質溶液とを含む。 - 特許庁

A self-organizing monomolecular film (SAM) 12 is patterned on a glass substrate 14 by a micro-contact printing method, and then, silver nanoparticles 24 are deposited locally on a pattern substrate 16 by a silver mirror reaction, wherein a dispersant is added to a solution containing silver complex ions, to thereby produce a SERS substrate 18.例文帳に追加

マイクロコンタクトプリント法により自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）（１２）をガラス基板１４上にパターニングした後、銀の錯イオンを含む溶液に分散剤を加えた銀鏡反応によりパターン基板１６上に銀ナノ粒子２４を局所的に析出させて、ＳＥＲＳ基板１８を作成する。 - 特許庁

This polishing apparatus polishes a surface of a substrate SB by relatively moving the substrate SB and polishing cloth CL while the surface of the substrate SB is being pressed against the polishing cloth CL supplied with a polishing solution SLp, and has a polishing head HD, and a metal supply part MS1.例文帳に追加

研磨装置は、研磨液ＳＬｐが供給された研磨布ＣＬに基板ＳＢの表面を押付けながら基板ＳＢと研磨布ＣＬとを相対運動させることにより、基板ＳＢの表面を研磨する研磨装置であって、研磨ヘッドＨＤと、金属供給部ＭＳ１とを有している。 - 特許庁

The metallic film pattern can be fabricated by transferring an alkanethiol monomolecular film pattern 51 by a stamping method to a substrate 40 after formation of a catalyst layer; immersing the substrate in an aqueous solution for lowering the catalytic activity of the catalyst layer 60, stripping the monomolecular film pattern from the catalyst layer and then immersing the substrate in an electroless plating bath to form a metallic film.例文帳に追加

触媒層形成後に、スタンプ法でアルカンチオール単分子膜パターン５１を基体４０に転写、前記触媒層６０の触媒活性を低下する水溶液に浸漬、単分子膜パターンの剥離、無電解めっき浴に浸漬し形成を行う金属膜パターン製造方法。 - 特許庁

The metal film is formed on the surface of the substrate by contacting the surface of the substrate, preferably cooled to a prescribed temperature of ≤15°C, to the processing liquid whose temperature is adjusted to ≤15°C to activate the surface, and then contacting the activated surface of the substrate to a plating solution.例文帳に追加

液温を１５℃以下に調整した処理液に、好ましくは１５℃以下の所定の温度に冷却した基板の表面を接触させて該表面を活性化させ、この活性化させた基板の表面をめっき液に接触させて該表面に金属膜を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a heat dissipation substrate for electric circuit in which a metal film is formed on an aluminum substrate having an insulating film formed on the surface by anodization, surface of the aluminum substrate is subjected to electrolytic surface roughening using water solution of hydrochloric acid and then subjected to anodization.例文帳に追加

表面に陽極酸化処理により形成された絶縁膜を有するアルミニウム基板上に金属皮膜を形成する電気回路用放熱基板の製造方法において、アルミニウム基板の表面に、塩酸水溶液を用いて電解粗面化処理を施し、次に陽極酸化処理を施す。 - 特許庁

To provide a cleaning method of a semiconductor substrate which is capable of cleaning the semiconductor substrate in the optimum clean state, while improving the cleaning efficiency of the semiconductor substrate in spite of the number of semiconductor substrates to be cleaned and the kind, concentration or the like of chemical solution employed for the cleaning.例文帳に追加

洗浄すべき半導体基板の枚数や洗浄に用いられる薬液の種類および濃度等に拘らず、半導体基板の洗浄効率を向上させつつ半導体基板を適正な清浄な状態に洗浄できる半導体基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, the polishing cloth is manufactured by heating and drying the substrate after impregnating the substrate in resin solution, and a pressurization processing of at least a surface side (a side to be a polishing surface) of the substrate is performed by using flat-plate shaped press members 2 and 3, for instance, after the heating and drying (process S10).例文帳に追加

その製造方法では、基材を、樹脂溶液に含浸した後、加熱乾燥して研磨布を製造するが、加熱乾燥後に、基材の少なくとも表面側（研磨面となる側）を、例えば、平板状のプレス部材２，３を用いて加圧処理（工程Ｓ１０）する。 - 特許庁

In the method for determining the degradation of the lubricant, an indicator solution obtained by dissolving an indicator in a protic solvent is held by a substrate, and then the lubricant is attached to the surface of the substrate, and a proton dissociation of the indicator is caused to take place on the substrate, thereby determining the degradation of the lubricant.例文帳に追加

指示薬をプロトン性溶媒に溶解した指示薬溶液を基材に保持させ、その基材表面に潤滑油を付着させ、基材上で指示薬のプロトン解離を生起させることにより、潤滑油の劣化を判定することを特徴とする潤滑油の劣化判定方法。 - 特許庁

A controller 190 control a transportation mechanism 180 corresponding to the measurement result of the sensor 130b and moves the heater 110 at a prescribed speed while keeping the distance between the glass substrate 1 and the die 130 to apply the organic solution 2 to the glass substrate 1 and to form an organic thin film on the substrate.例文帳に追加

コントローラ１９０は、センサ１３０ｂの測定結果に応じて、移動機構１８０を制御し、ガラス基板１とダイ１３０との距離を一定に保ちながら、所定速度でヒータ１１０を移動させて、ガラス基板１上に有機溶液２を塗布して有機薄膜を形成する。 - 特許庁

In the method for producing an electrophotographic photoreceptor by disposing at least a photoconductive layer on an electrically conductive substrate, the photoconductive layer is disposed on the substrate after a step for bringing the substrate into contact with a malic acid-containing aqueous solution.例文帳に追加

導電性基体上に少なくとも光導電層を設けてなる電子写真感光体の製造法において、前記導電性基体をリンゴ酸を含有する水溶液と接触させる工程の後に、前記光導電層を設ける電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

A resist coating unit(CT) 22 being one form of a apparatus for coating the substrate with a coating solution has a spin chuck 40 holding the substrate G almost horizontally, a cup 44b provided so as to surround the spin chuck 40 and a solvent discharge nozzle 73b for supplying the liquid to the substrate G.例文帳に追加

基板に塗布液を塗布する処理装置の一形態であるレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２は、基板Ｇを略水平に保持するスピンチャック４０と、スピンチャック４０を囲繞するように設けられたカップ４４ｂと、基板Ｇに処理液を供給する溶剤吐出ノズル７３ｂを有する。 - 特許庁

To provide a coating method which enables reduction in the amount of a resist solution applied to a substrate when a resist film is formed to the substrate and omits a wasteful part such as a flange part or the like in the outer periphery of the substrate, a coating apparatus and a manufacturing method for a mold for molding an optical element.例文帳に追加

基材にレジスト膜を形成する際に塗布するレジスト溶液が少量で済みしかも基材の外周におけるつば部等の無駄な部分を省略することのできる塗布方法、塗布装置及び光学素子用成形金型の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing the multi-component glass substrate has a cleaning process to polish the multi-component glass substrate by an abrasive consisting mainly of cerium oxide and treat the polished multi-component glass substrate with a fluorine compound-based solution having a pH of 3-7.例文帳に追加

多成分系ガラス基板を酸化セリウムを主成分とする研磨剤により研磨した後、フッ素系溶液で処理する洗浄工程を有する多成分系ガラス基板の製造方法において、 前記フッ素系溶液は、ｐＨが３以上７以下であることを特徴とする。 - 特許庁

This plating apparatus comprises: a plating tank 40 for accommodating a plating solution 42; substrate-supporting parts 50 and 52 for supporting a substrate 30 to be plated and placing it in the plating tank 40; and a masking mechanism 5 provided with masking parts 20 for masking a portion which is not to be plated in the peripheral part of the substrate 30 to be plated.例文帳に追加

めっき液４２を収容するめっき槽４０と、めっき槽４０の中に被めっき基板３０を配置して支持する基板支持部５０，５２と、被めっき基板３０の周縁部のめっきを施さない非めっき部をマスクするマスク部品２０を備えたマスキング機構５とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film comprises preheating the tabular substrate, making the preheated tabular substrate adsorbed onto the hot plate, and atomizing the solution containing the raw material of the thin film to the surface of the tabular substrate adsorbed on the hot plate.例文帳に追加

また、板状の基板を予備加熱する工程と、予備加熱された板状の基板をホットプレート上に吸着する工程と、ホットプレート上に吸着された板状の基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁

This manufacturing method of a substrate for organic electroluminescence used for an organic electroluminescent element provided with a glass substrate 11 having a diffraction grating 12 has a process for forming the diffraction grating 12 by applying a dispersion solution of fine particles to the surface of the glass substrate 11.例文帳に追加

回折格子１２を有するガラス基板１１を備える有機エレクトロルミネセンス素子に用いられる有機エレクトロルミネセンス用基板の製造方法において、ガラス基板１１上に微粒子の分散液を塗布することによって、回折格子１２を形成する工程を有する。 - 特許庁

The thin film production device comprises: a means 18 for preheating a planar substrate; a means for sucking the preheated planar substrate on a hot plate 19; and a means 20 for spraying a solution comprising the raw material for a thin film on the surface of the planar substrate sucked on the hot plate 19.例文帳に追加

板状の基板を予備加熱する手段１８と、予備加熱された板状の基板をホットプレート１９上に吸着する手段と、ホットプレート１９上に吸着された板状の基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する手段２０とを含む薄膜の製造装置である。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin film is composed of a process of preheating the plate type substrate, a process of attracting the preheated plate type substrate on the hot plate, and a process of spraying the solution containing the raw material of the thin film on the surface of the plate type substrate attracted on the hot plate.例文帳に追加

また、板状の基板を予備加熱する工程と、予備加熱された板状の基板をホットプレート上に吸着する工程と、ホットプレート上に吸着された板状の基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁

Upon determination that the substrate S is stagnating at the position of the opening 15 based on the detection of the transport state of the substrate S by the detection mechanism 7, the controller 60 operates the outflow prevention device 20 in order to prevent the developing solution from leaking out from the development processing chamber 121 along the surface of the substrate S.例文帳に追加

コントローラ６０は、検出機構７による基板Ｓの搬送状態の検出に基づき基板Ｓが開口部１５の位置で停滞していると判断した場合には、基板Ｓを伝って現像液が処理室１２１から漏出するのを防止すべく流出阻止装置２０を作動させる。 - 特許庁

The apparatus is equipped with a means to produce the mist of the catalyst solution, a means to electrify the mist, and a means to electrify the entire photomask substrate or a part of the substrate into the opposite polarity to the mist, so that the photocatalyst film can be deposited in at least the light-transmitting pattern region of the photomask substrate.例文帳に追加

触媒溶液のミストを発生させる手段と、前記ミストを帯電させる手段と、フォトマスク基板全体もしくは部分的に前記ミストとは逆極性に帯電させる手段とを有し、フォトマスク基板の少なくとも光透過パターン領域に光触媒膜を成膜可能としている。 - 特許庁

After a step 12 is formed on the surface side of an insulating substrate 11, a silicon containing tin-lead alloy solution 14 consisting of a silicon containing tin fused solution or silicon containing tin-lead fused solution is applied to the surface side of the insulating substrate 11.例文帳に追加

絶縁基体１１の表面側に段差１２を形成した後、絶縁基体１１の表面側にシリコンを含むスズ溶融液もしくはシリコンを含むスズ鉛合金溶融液からなるシリコン含有スズ系金属溶融液１４を塗布し、その後冷却処理により、段差１２を起点にしてシリコン含有スズ系金属溶融液１４中のシリコンを結晶成長させ、シリコン層１５を形成するシリコン層の製造方法である。 - 特許庁

In the method of forming the organic semiconductor film formed with an organic semiconductor material thin film on the substrate by supplying, coating and drying the organic semiconductor material solution onto the substrate, at application of the organic semiconductor material solution, the organic semiconductor material solution containing an insoluble matter is used, and after coating, the organic semiconductor film to be formed is subjected to heat treatment.例文帳に追加

有機半導体材料溶液を基板上に供給、塗布して、乾燥させることにより、有機半導体材料薄膜を基板上に形成する有機半導体膜の形成方法において、有機半導体材料溶液の塗布時に、不溶物を含む有機半導体材料溶液を用い、かつ、塗布後、形成される有機半導体膜に熱処理を施すことを特徴とする有機半導体膜の形成方法。 - 特許庁

In the method for forming the recording layer containing at least formazane or its metal complex on a substrate, the recording layer is formed on the substrate by a spin coating method, dyestuff scattered in the spin coater is recovered by using the same solvent as an applying solvent, component concentration of the recovered solution is detected by liquid chromatography and then is adjusted to reutilize the solution as an application solution.例文帳に追加

基板上に少なくともホルマザンもしくはその金属錯体を含有する記録層を形成する方法において、基板上にスピンコート法にて該記録層を形成すると共に、スピンコーター内の飛散色素を塗布溶媒と同一の溶媒で回収し、液体クロマトグラフィーにて成分濃度を検出、調整した後、塗布液として再利用することを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The substrate coating method includes: a first process of forming a coating film by coating a coating solution 20 from a slit nozzle 31; a second process of standing by without coating the coating solution 20 on the next substrate; and a third process of discharging the coating solution 20 onto a roller part 50 that is disposed below the slit nozzle 31 with an interval from the discharge opening 30 thereof.例文帳に追加

スリットノズル３１から塗布液２０を塗布して塗布膜を形成する第１の工程と、次なる基板上に塗布液２０を塗布せずに待機する第２の工程と、スリットノズル３１の下方位置にその吐出口３０から間隔を経て配置されるローラ部５０に塗布液２０を吐出する第３の工程と、を含み、第２の工程において、スリットノズル３１からローラ部５０へ塗布液２０を吐出させる。 - 特許庁

The substrate for array usable when immobilizing a material for capturing a detection target substance on the surface of a carrier insoluble in a solution and having impermeability of the solution, adding a specimen solution containing the detection target substance to allow the immobilized capturing material to capture the substance, and detecting the capturing condition visualized by color development, includes a white whole substrate or a white site to which the capturing material is immobilized.例文帳に追加

溶液不溶性かつ溶液不透過性の担体表面に検出対象物質を捕捉する物質を固定化し、該検対象物質を含む検体溶液を添加し、固定化した捕捉する物質に捕捉させ、その捕捉の状態を発色による可視化により検出する際に用いるアレイ用基板であって、基板全体又は、捕捉物質が固定化された部位が白色であるアレイ用基板。 - 特許庁

The method for producing the optical recording medium includes: a step of coating a dye solution on a substrate by a spin coating method to form a dye recording layer, wherein the substrate is rotated at a rotation speed lower than during a period from the beginning to the end of the supply of the dye solution in the sequence from beginning to the end of the supply of the dye solution.例文帳に追加

基板上に、スピンコート法により色素溶液を吐出して塗布し、塗布後乾燥させ色素記録層を形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、前記色素溶液吐出開始から乾燥完了までのシーケンスに、基板を、前記色素溶液の吐出開始時又は吐出終了時の回転速度よりも低速とするステップを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

This thin film forming device 1A forms the thin film by drying the film forming material solution 3 applied on the substrate 5, and has a microwave generator 11 for generating a microwave 9 for dielectrically heating the solvent of the film forming material solution 3, and a horn antenna 13 for irradiating the film forming material solution 3 applied on the substrate 5 with the microwave 9 generated by the microwave generator 11.例文帳に追加

この薄膜形成装置１Ａは、基板５上に塗布された製膜用材料溶液３を乾燥させて薄膜に形成するものであって、製膜用材料溶液３の溶媒を誘電加熱するためのマイクロ波９を発生するマイクロ波発生器１１と、マイクロ波発生器１１で発生したマイクロ波９を基板５上に塗布された製膜用材料溶液３に照射するホーンアンテナ１３とを備える。 - 特許庁

To provide an apparatus, in which when slit scan development slit scan rinsing is performed, even if a rinse solution discharge nozzle is separated from the upper surface of a substrate and is moved horizontally, the rinse solution discharged from a slit-shaped discharge outlet is prevented from turning into shower.例文帳に追加

スリットスキャン現像・スリットスキャンリンスを行う場合に、リンス液吐出ノズルを基板の上面から離して水平移動させてもスリット状吐出口から吐出されるリンス液がシャワー状とならないようにすることができる装置を提供する。 - 特許庁

This method for producing a thin oxide film comprises applying a raw material solution on the surface of a substrate and firing it to form the thin oxide film, characterized in that a polar organic low molecular compound is added in the raw material solution.例文帳に追加

本発明の酸化物薄膜の製造方法は、原料溶液を基板表面に塗布し焼成して酸化物薄膜を形成する方法であって、この原料溶液に極性有機低分子化合物が添加されていることを特徴とする。 - 特許庁

This method has a step of forming the base layer F1 on a substrate P, a step of applying a solution containing metallic particles and a diffusion stabilizer on the base layer F1, and a step of thermally treating the applied solution to form a conductive layer F2.例文帳に追加

基板Ｐ上に下地層Ｆ１を形成する工程と、金属微粒子及び分散安定剤を含む溶液を下地層Ｆ１上に塗布する工程と、塗布した溶液を加熱処理して導電層Ｆ２を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The amorphous chalcogenide solid active electrolytic layer is prepared by obtaining a solution of a hydrazine-based precursor to a metal chalcogenide; applying the solution onto a substrate; and thereafter annealing the precursor to convert the precursor to the amorphous metal chalcogenide.例文帳に追加

アモルファス・カルコゲニド固体活性電解層は、金属カルコゲニドのヒドラジン・ベースの前駆物質の溶液を得、該溶液を基材上に塗布し、しかる後、前駆物質をアニールして該前駆物質をアモルファス金属カルコゲニドに変換することによって調製される。 - 特許庁

A lower electrode layer 2 consisting of ITO is deposited on a substrate 1 and a dispersion system solution wherein migration particles 10a and 10b are dispersed in a fluorine solvent is applied in a liquid drop state onto the lower electrode layer to deposit a dispersion system solution phase 3.例文帳に追加

まず、基板１上にＩＴＯから成る下部電極層２を形成し、その上に泳動粒子１０ａ，１０ｂがフッ素系溶剤に分散されて成る分散系溶液を液滴状態で塗布し、分散系溶液相３を被着させる。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device comprises a step of forming a metal film containing nickel on a semiconductor substrate by using an electroplating method, and a step of washing away the metal film with a hydrochloric acid solution or a sulfuric acid solution.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板上にニッケルを含む金属膜をめっき法により形成する工程と、前記金属膜を塩酸または硫酸で洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a high-density flexible substrate of high heat resistance, which is photosensitive and can be developed by alkaline water solution such as alkalescent water solution so as to be post-baked as it is to obtain an insulation coat without requiring post baking at a high temperature.例文帳に追加

高温でのポストベ−クを必要とせず、感光性で弱アルカリ水溶液のようなアルカリ水溶液で現像可能で、そのままポストベ−クして絶縁性の被膜が得られる高耐熱性の高密度フレキシブル基板の製法を提供する。 - 特許庁

Since the solution L passes through the gap formed between the surface Ws and the upper surface of the filter 27 and having a low flow passage resistance, the solution L smoothly flows from the central part to the peripheral section of the substrate W through the gap and the in- plane uniformity of the thickness of the plated film is improved.例文帳に追加

流路抵抗が小さい三次元フィルタ２７の上面との隙間を通ることになるので、メッキ液Ｌはその隙間を通って基板Ｗの中央部から周辺部に円滑に流れ、膜厚の面内均一性を高められる。 - 特許庁

The method for manufacturing a plastic lens includes: a dyeing step 11 of immersing a plastic lens being in a substrate state or a state of having a hard coat layer formed thereon, into a dyeing solution; and a cleaning step 12 of bringing the plastic lens into contact with a cleaning solution after the dyeing step.例文帳に追加

基材の状態、または、ハードコート層が成膜された状態のプラスチックレンズを染色液に浸漬させる染色工程１１と、染色工程の後、プラスチックレンズを洗浄液に接触させる洗浄工程１２とを有する。 - 特許庁

A buffering solution is sprayed toward the table 12 from a second nozzle group 30 installed above the table transport path to apply the buffering solution to regions 34A, 34B, 36A, 36B at edge parts of the suction region 26 of the non-polished surface of the glass substrate G.例文帳に追加

そして、テーブル搬送路の上方に設置した第２のノズル群３０からテーブル１２に向けて緩衝液を噴霧し、ガラス基板Ｇの非研磨面の吸着領域２６の縁部の領域３４Ａ、３４Ｂ、３６Ａ、３６Ｂに緩衝液を塗布する。 - 特許庁

The plural anode heads 30-1, 2 are positioned in order at specified places on the face of the substrate W, a plating solution is injected on the face from a plating solution feed pipe 102, and the face is plated in plural stages.例文帳に追加

複数のアノードヘッド３０−１，２を基板Ｗの被めっき面上の所定位置に順番に位置せしめると共に、めっき液供給管１０２から被めっき面上にめっき液を注入することで被めっき面に複数段のめっきを行う。 - 特許庁

It creates a transparent conductive film patternized by being developed into an alkali aqueous solution and by burning above 500°C after coating and drying the coating solution on the substrate, arranging a photo mask on the drying film, and irradiating an ultraviolet rays and exposing to the light.例文帳に追加

この塗布液を基板上に塗布・乾燥し、乾燥膜上にフォトマスクを設置し、紫外線を照射して露光した後、アルカリ水溶液にて現像して、５００℃以上で焼成することによって、パターン化された透明導電膜が作成される。 - 特許庁