「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a spin coat apparatus capable of reducing nonuniformity of a film thickness generated when a viscosity of a used solution is low and increasing the film thickness without nonuniformity of the film thickness even in a solution of a low concentration in a spin coat film formation on a substrate having a recession/projection, and a spin coat method.例文帳に追加

凹凸を有する基板上へのスピンコート成膜において、使用溶液の粘度が低い場合に生じる膜厚ムラを低減し、また低濃度の溶液でも膜厚ムラの無く膜厚を増加できるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresists removing solution excellent in ability to remove residue such as a degenerated photoresist film produced after ashing and residue on etching (metal deposition) and excellent in property of preventing the corrosion of a substrate in rising with water and to provide a method for removing a photoresist using the removing solution.例文帳に追加

アッシング処理後に生じるホトレジスト変質膜、エッチング残渣物（金属デポジション）等の残渣物の剥離性に優れ、かつ、水でのリンス処理時、基板の防食性に優れるホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ordinary temperature curable photocatalyst having high adhesion strength, photocatalytic action and photocatalyst film strength, a method for manufacturing the same, a coating solution for the substrate layer of the photocatalyst, a coating solution for a photocatalyst film and a functional body using the same.例文帳に追加

付着強度、光触媒作用および光触媒膜強度が高い常温硬化性の光触媒体、光触媒体の製造方法、、光触媒体の下地層用塗布液、光触媒膜用塗布液およびこれを用いた機能体を提供する。 - 特許庁

A solution, wherein a polyimide precursor material and a photocurable resin precursor having a tertiary amine are dissolved in a volatile solvent having polarity, is prepared, and after forming a film by applying the solution onto a substrate, a part of the solvent is evaporated from the film.例文帳に追加

極性を有する揮発性の溶媒に、ポリイミド前駆体の材料と、三級アミンを有する光硬化性樹脂前駆体を溶解させた溶液を作製し、この溶液を基板上に塗布することにより膜を形成した後、溶媒の一部を膜から蒸発させる。 - 特許庁

Thereafter, the buffer layer is dissolved with an etching solution by introducing the etching solution capable of dissolving the buffer layer selectively against the nitride semiconductor crystal into the inner part of the void spaces to separate the nitride semiconductor from the dissimilar substrate.例文帳に追加

次に、前記バッファ層を前記窒化物半導体結晶に対して選択的に溶解させ得るエッチング液を前記空隙の内部に導入し、該エッチング液によって前記バッファ層を溶解させて、前記窒化物半導体結晶を前記異種基板から分離させる。 - 特許庁

The polybenzoxazole film is produced by using a solution of a polyimide having a phenylene group having a substituted or unsubstituted OH group at the ortho site of the imide group, casting the solution on a substrate in the form of a film and heat-treating the film to form an oxazole ring.例文帳に追加

イミド基に対してオルト位に置換または無置換の−ＯＨ基を持つフェニレン基を有するポリイミドの溶液を基板上にフィルム状にキャストした後、加熱処理することによりオキサゾール環を形成することを特徴とするポリベンゾオキサゾールフィルムの製造方法。 - 特許庁

The polybenzoxazole film is produced by using a solution of a polyamide having a phenylene group having a substituted or unsubstituted OH group at the ortho site of the amide group, casting the solution on a substrate in the form of a film and heat-treating the film to form an oxazole ring.例文帳に追加

アミド基に対してオルト位に置換または無置換の−ＯＨ基を持つフェニレン基を有するポリアミドの溶液を基板上にフィルム状にキャストした後、加熱処理することによりオキサゾール環を形成することを特徴とするポリベンゾオキサゾールフィルムの製造方法。 - 特許庁

When the molecule having charge is bonded to a substrate, an electrolyte is allowed to coexist in a solution containing the molecule and, by adjusting the screening effect due to the electrolyte and considering the effective size of the molecule in the solution, the deposit density of the molecule is controlled.例文帳に追加

電荷を有する分子を基板に付着させるに際し、その分子を含んだ溶液に電解質を共存させ、電解質によるスクリーニング効果を調整すること、および、溶液中の分子の実効サイズを考慮することにより、分子の付着密度をコントロールする。 - 特許庁

When the operation lever 40 equipped with a rack 41 biting to the pinion 39 is allowed to move back and forth, the solution tank housing 32 is rotated and the solution is automatically brought into contact with and wiped off from the semiconductor substrates 46, 47 on the substrate-holding stand 31.例文帳に追加

そして、ピニオン３９に歯合するラック４１が設けられた操作棒４０を進退させると、溶液槽収納部３２が回転し、基板保持台３１上の半導体基板４６,４７に対する溶液の接触と拭い取りとが自動的に行われる。 - 特許庁

The respective piezoelectric elements 412 are vibrated and controlled so that progressive waves in the direction of the slit 41b (-Z direction) can be formed in the elastic bodies 411a and 411b, a resist solution is pumped by the progressive waves, and a treatment solution is discharged from the slit 41b to a substrate.例文帳に追加

各圧電素子４１２を振動させ、弾性体４１１ａ，４１１ｂに、スリット４１ｂ方向（−Ｚ方向）への進行波を形成するよう制御し、その進行波によりレジスト液をポンピングして、スリット４１ｂから基板に向けて処理液を吐出する。 - 特許庁

The positive lithographic printing original plate is produced by applying a coating solution containing (a) self-water-dispersible resin fine particles, (b) a photothermal conversion agent and (c) a heat-crosslinkable resin on a hydrophilic surface of a substrate and drying the applied solution at a temperature higher than 110°C.例文帳に追加

（ａ）自己水分散性樹脂微粒子、（ｂ）光熱変換剤、および（ｃ）熱架橋性樹脂を含んで成る塗布溶液を、基板の親水性面上に塗布し、その後 １１０℃より高い温度で乾燥させることによって製造されたポジ型平版印刷版原版。 - 特許庁

To produce a cellulose acylate film that can be peeled off from a substrate in the producing process by preparing a solution in which a cellulose acylate is dissolved in an organic solvent in a stable state and provide an excellent cellulose acylate film that has a good surface condition by the use of the solution.例文帳に追加

セルロースアシレートが有機溶剤に安定な状態で溶解している溶液を得、かつそれによって優れたセルロースアシレートフイルムを得るに際して、その製造工程で支持体からセルロースアシレーフイルムを容易に剥ぎ取り、面状の良いセルロースアシレートフイルムを得る。 - 特許庁

The heat exchanger substrate made of the Al alloy is subjected to pretreatment with an aqueous solution for pretreatment having a pH value of <9.0, is thereafter subjected to etching treatment with an alkaline aqueous solution having a pH value of ≥9.0, and is further subjected to chemical conversion treatment/and hydrophilicity application treatment.例文帳に追加

Ａｌ合金製熱交換器基体にｐＨ値が９．０未満の前処理用水溶液による前処理を施し、その後にｐＨ値が９．０以上のアルカリ性水溶液によるエッチング処理を施し、さらに化成処理及び／又は親水性付与処理を施す。 - 特許庁

This method enables the polishing of a film to be polished by moving a polishing plate and a substrate having the film to be polished relatively in the state of pressurizing the substrate to a polishing cloth of the polishing plate while feeding the metal-polishing solution onto the polishing cloth.例文帳に追加

研磨定盤の研磨布上に前記の金属用研磨液を供給しながら、被研磨膜を有する基板を研磨布に押圧した状態で研磨定盤と基板を相対的に動かすことによって被研磨膜を研磨する研磨方法。 - 特許庁

A manufacturing method for a photo-electrode structure includes the steps of: disposing a light-scattering layer including a nanowire on a photo-negative electrode substrate; and applying an inorganic binder solution on the light-scattering layer to fix the light-scattering layer on the photo-negative electrode substrate.例文帳に追加

光負極基板上にナノワイヤを含む光散乱層を配置する段階と、該光散乱層に無機バインダ溶液を塗布し、該光散乱層を該光負極基板上に固定させる段階と、を含む光電極構造体の製造方法である。 - 特許庁

To provide an apparatus for substrate treatment which can effectively clean/remove the upheaval part of a coating solution formed near the end fringe of the substrate without installing a special peripheral exposure device, etc., and provide a device for cleaning the end fringe.例文帳に追加

特別な周辺露光装置等を配設することなく、基板の端縁付近に形成された塗布液の隆起部を有効に洗浄除去することが可能な基板処理装置および端縁洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The plating equipment is characterized in that a resistance imparting means 6 for imparting a resistance to a current flowing between an anode 7 and a substrate 8 to be plated serving as a cathode, which are immersed in a plating solution, is provided between the anode 7 and the substrate 8 to be plated.例文帳に追加

めっき液に浸漬させたアノード７と、カソードとなる被めっき基板８との間に流れる電流に対して抵抗を付与する抵抗付与手段６が、前記アノード７と前記被めっき基板８との間に設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To preferentially promote only a reaction participating in the formation of a film on a substrate surface by reducing a reaction for producing fine particles without directly participating in the formation of the film in a reactional solution and suppressing the formation of the film onto a part other than the substrate surface.例文帳に追加

反応液中において、被膜形成に直接関与しない微粒子生成反応を低減し、また基材表面以外への被膜形成を抑制して、基材表面における被膜形成に関与した反応だけを優先的に促進させる。 - 特許庁

Regarding the horizontally carrying electroless copper plating process, in a treatment stage directly before a substrate is charged into an electroless copper plating liquid, as reaction promotion treatment, the substrate is treated with an alkali aqueous solution of formalin, and a roll with grooves is used as a carrier roll after the reaction promotion treatment.例文帳に追加

水平搬送無電解銅めっき工程において、無電解銅めっき液に入る直前の処理工程で、反応促進処理として、ホルマリンのアルカリ水溶液で基板を処理し、反応促進処理後の搬送ロールに用いる溝付ロール。 - 特許庁

To provide a photo development apparatus which maximizes productivity even with a minimum number of photo backup apparatuses, by unifying the developing solution to be used for a photo development apparatus for a color filter substrate, and to provide a method for fabricating a color filter substrate by using the apparatus.例文帳に追加

カラーフィルター基板のフォト装備に利用される現像液を一元化することにより、最小限のフォトバックアップ装備でも生産力の極大化が可能であるフォト装備及びこれを利用したカラーフィルター基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This treatment method is characterized by heating a substrate 8 of aluminum or an aluminum alloy to 200-250°C, and spraying an organometallic solution 2 diluted in an organic solvent onto the heated surface, to form the metal oxide film on the surface of the substrate 8.例文帳に追加

アルミニウムまたはアルミニウム合金の基材８を２００〜２５０℃に加熱し、その加熱した表面に、有機溶剤で希釈した有機金属溶液２を噴霧して、該基材８の表面に金属酸化物の皮膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a curable resin which gives a curable resin composition which is curable at low temperatures, can be developed with an aqueous dilute alkali solution by a photo method, and is suitable as a solder resist for a printed circuit board or as an interlayer insulation film for a build-up substrate or a chip mounted substrate.例文帳に追加

低温硬化性で、フォト法による希アルカリ水による現像が可能で、プリント配線板のソルダーレジストやビルドアップ基板やチップ実装基板用の層間絶縁膜として好適な硬化性樹脂及び組成物を提供する。 - 特許庁

As the aromatic polymer film substrate and the grafted aromatic polymer film substrate endowed with the crosslinked structure are insoluble in a sulfonating solution, these film substrates are directly sulfonated to give the crosslinked aromatic polymer electrolyte membrane.例文帳に追加

架橋構造を付与した芳香族高分子フィルム基材、及びグラフト芳香族高分子フィルム基材はスルホン化溶液に不溶であるため、これらのフィルム基材を直接スルホン化することで架橋芳香族高分子電解質膜を得ることが可能となる。 - 特許庁

Alternatively, another version of this method comprises coating a substrate 15 with the lubricant solution S comprising the solid lubricant, the thermosetting resin and the solvent to form a lubricant film F followed by holding the substrate 15 at a specified temperature for a specified time and then heating and curing the film F.例文帳に追加

また固体潤滑剤、熱硬化性樹脂、溶剤を含む潤滑剤溶液Ｓを基材１５に塗布して潤滑皮膜Ｆを形成した後、該基材１５を所定温度で所定時間保持し、その後前記潤滑皮膜Ｆを加熱し硬化させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus etc., capable of suppressing a decrease in capability of removing contaminant by a mixed liquid of a sulfuric acid and a hydrogen peroxide solution in a process of removing the contaminant from a substrate to be processed using the mixed liquid.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水との混合液を用いて被処理基板から汚染物質を除去する処理にあたり、前記混合液による汚染物質の除去能の低下を抑制することが可能な基板処理装置などを提供する。 - 特許庁

The etching liquid contains an alkaline solution being used at the time of wet etching a silicon substrate, especially a silicon substrate having an (100) face, and at least one kind of metal selected from Pb, Al, Ca, Cu, Ni, Zn and Sn.例文帳に追加

シリコン基板、特に表面が（１００）面であるシリコン基板をウェットエッチングする際に用いられるアルカリ性溶液を含有すると共に、Ｐｂ、Ａｌ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ又はＳｎの少なくとも１種の金属を含有したエッチング液とする。 - 特許庁

To equalize variation of discharge amounts of individual nozzles due to individual differences of the nozzles, on the basis of landing areas of droplets discharged from the individual nozzles and landing on a substrate, even when there is a variation in contact angles of a coating solution to individual areas of a substrate for inspection.例文帳に追加

検査用基板の各領域間で塗布液との接触角にばらつきがあっても、各ノズルから吐出されて基板に着弾する液滴の着弾面積に基づいて、各ノズルの個体差に起因する各ノズルの吐出量を均等化すること。 - 特許庁

A feed path 5 which feeds a cleaning solution such as an organic solvent or water is provided inside a cleaning device 2, an upper and a lower edge 6 and 7 are made to protrude toward a substrate W, and a substrate insertion slit 8 is provided between the edges 6 and 7.例文帳に追加

洗浄装置２は、内部に有機溶剤や水などの洗浄液の供給路５が形成され、また基板Ｗに向かって上下のエッジ部６，７が突出し、これら上下のエッジ部６，７間に基板挿入スリット８が形成されている。 - 特許庁

Alternatively, after a resist film was peeled from the surface of the substrate by using the mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution, ultrasonic vibration is given to the SC1, and the SC1 that has been given ultrasonic vibration is supplied to the surface of the substrate.例文帳に追加

または、硫酸と過酸化水素水との混合液によって基板の表面からレジスト膜が剥離された後に、超音波振動ＳＣ１工程が行われて、基板の表面に超音波振動が付与されたＳＣ１が供給される。 - 特許庁

Thereafter, the whole area of the non-polished surface of the glass substrate G is sucked and fixed to the table 12 through the dryness preventing liquid, and all edge parts of the non-polished surface of the glass substrate G is sucked and fixed to the table 12 through the buffering solution.例文帳に追加

この後、ガラス基板Ｇの非研磨面の全域を、前記乾燥防止用液を介してテーブル１２に吸着固定するとともに、ガラス基板Ｇの非研磨面の全縁部を、前記緩衝液を介してテーブル１２に吸着固定する。 - 特許庁

In a method for cleaning the surface of the magnetic recording medium substrate, the fabric is impregnated with water and/or an aqueous solution of organic acid based detergent and is made to make contact with the surface of the magnetic recording medium substrate for cleaning.例文帳に追加

前記洗浄加工布に、水及び／又は有機酸系洗浄剤の水溶液を浸透させ、磁気記録媒体用基板表面に該洗浄加工布を接触させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板表面の洗浄方法。 - 特許庁

The dye-sensitized solar cell has an electrolytic solution 17 containing a dye-sensitized electrolyte interposed between an upper electrode 13 formed on the upper substrate 11 and a lower electrode 14 formed on the lower substrate 12.例文帳に追加

本発明に係る色素増感型太陽電池は、上側基板１１に形成された上側電極１３と下側基板１２に形成された下側電極１４との間に色素増感型電解質を含む電解液１７を挟持している。 - 特許庁

The positive electrode 50 comprises a glass substrate 51 covered with a transparent conductive film 52, a catalyst electrode 53 formed on the glass substrate 51, and an electrolyte solution 65 interposed between the oxide semiconductor film 45 and the catalyst electrode 53.例文帳に追加

正極５０は、透明導電膜５２で被覆されたガラス基板５１と、このガラス基板５１上に形成された触媒電極５３と、酸化物半導体膜４５と触媒電極５３との間に介在する電解質溶液６５とを有している。 - 特許庁

The laminate which includes a polyimide film and an inorganic substrate is formed by casting a solution of a polyimide precursor having a specific structure on an inorganic substrate, drying and imidizing thereof.例文帳に追加

具体的には優れた透明性と耐熱性に優れるポリイミドフィルムと無機基板との積層体を提供することを目的とし、更には、ポリイミド上に、電子素子が形成されたフラットパネルディスプレイ用部材やフレキシブルデバイスを提供することを目的とする。 - 特許庁

Then wet etching is applied to the lower face of the silicon substrate 1 by uniformly spraying a solution of hydrofluoric acid dissolvable of silicon to the lower face to remove the burrs 23 and the silicon trashes 24, resulting in making the lower face of the silicon substrate 1 other than the recess 22 flat.例文帳に追加

そこで、次に、シリコン基板１の下面にシリコン溶解可能なフッ酸等の溶液を均等に吹き付けてウェットエッチングを行なうと、バリ２３及びシリコン屑２４が除去され、シリコン基板１の凹部２２以外の下面が平坦化される。 - 特許庁

In this method, the surface of the LaSrAlO_4 single crystal substrate is immersed in a solution containing an acid, and the vicinity of the surface of the substrate is dissolved by this operation, thereby removing the deteriorated layer left on the surface.例文帳に追加

本発明は、ＬａＳｒＡ１Ｏ_４単結晶基板の表面を、酸を含む溶液中に浸すことを最も主要な特徴とするものであって、この操作により基板の表面付近が溶解し、表面に存在していた劣化層が取り除かれる。 - 特許庁

The final grinding of this substrate for the information recording medium is carried out, by using an abrasive, whose average particle size is ≤1.0 μm and whose maximum particle size is ≤3.0 μm and the finally ground substrate is, furthermore, etched by an acidic aqueous solution.例文帳に追加

平均粒径が１．０μｍ以下であり、且つ、その最大粒径が３．０μｍ以下である研磨剤を使用して情報記録媒体用基板の最終研磨を行い、さらに、酸性水溶液により前記情報記録媒体用基板のエッチングを行う。 - 特許庁

The method of growing Al_xGa_1-xN (0≤x≤1) crystal includes: preparing a foundation substrate 10; and bringing a solution 7 prepared by dissolving 5 nitrogen in a Ga-molten liquid 3 containing Al into contact with the foundation substrate 10 to grow at least one layer of Al_xGa_1-xN crystal 20 on the foundation substrate 10.例文帳に追加

本Ａｌ_xＧａ_1-xＮ結晶の成長方法は、下地基板１０を準備する工程と、Ａｌを含有したＧａ融液３への窒素の溶解５がされた溶液７を下地基板１０に接触させて、下地基板１０上に少なくとも１層のＡｌ_xＧａ_1-xＮ結晶２０を成長させる工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display panel and a thinning method of a glass substrate for thinning the glass substrate by immersing it in an etching solution without damaging components of the organic EL display panel; and to provide a glass substrate for an organic EL display panel and an organic EL display using these methods.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイパネルの構成部材を損傷させることなく、エッチング液に浸漬してガラス基板を薄型化する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法及びガラス基板の薄型化方法、並びにこれらの方法を使用した有機ＥＬディスプレイパネル用ガラス基板及び有機ＥＬディスプレイの提供。 - 特許庁

An insulating film forming method has an immersion step for immersing a substrate into one-substituted trialkoxysilane solution, and an ultraviolet-light irradiating step in which the immersed substrate is irradiated with ultraviolet light so as to make one-substituted trialkoxysilane deposited on the substrate surface into a polysiloxane film.例文帳に追加

基板を一置換トリアルコキシシランの溶液に浸漬させる浸漬工程と、前記浸漬させた基板に紫外光を照射することにより、前記基板表面に付着している一置換トリアルコキシシランをポリシロキサン膜にする紫外光照射工程と、を有する絶縁膜の形成方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the thin film comprises a means 18 for preheating a tabular substrate, a means for making the preheated tabular substrate adsorbed onto a hot plate 19, and a means 20 for atomizing a solution containing the raw material of the thin film to the surface of the tabular substrate adsorbed on the hot plate 19.例文帳に追加

板状の基板を予備加熱する手段１８と、予備加熱された板状の基板をホットプレート１９上に吸着する手段と、ホットプレート１９上に吸着された板状の基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する手段２０とを含む薄膜の製造装置である。 - 特許庁

To prevent a crack from being generated, the crack in a coating layer that coats a power collection electrode, so as to secure sufficient electrolytic solution resistance as to a glass paste composition used in an electrode substrate for a dye-sensitized solar cell, an electrode substrate using this composition and its manufacturing method, and the dye-sensitized solar cell using this electrode substrate.例文帳に追加

色素増感型太陽電池用の電極基板に用いるガラスペースト組成物、この組成物を用いた電極基板とその製造方法、及びこの電極基板を使用した色素増感型太陽電池において、集電電極を被覆する被覆層のクラックの発生を防止して、十分な耐電解液性を確保する。 - 特許庁

A plant extract such as tea leaf extract is used as an auxiliary material for a raw material solution of thin film material, the thin film material is applied onto the transparent substrate, thereafter, the applied thin film material is heated, the porous thin film is produced on the surface of the substrate and an apparent refractive index of the thin film is made to be substantially equal to the refractive index of the substrate.例文帳に追加

薄膜材料の原料溶液に茶葉等植物抽出物を補助材として用い、薄膜材料を透明基材に塗布した後、加熱して基材表面に多孔質の薄膜を生成し、見かけの屈折率を前記基材の屈性率と実質同一とすることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film includes a step of introducing hydrogen to a silicon substrate, a step of heating the silicon substrate so that its surface temperature becomes 350 to 500°C, and a step of spraying a solution containing the raw material of the thin film on the surface of the silicon substrate at the temperature from 350 to 500°C.例文帳に追加

シリコン基板に水素を導入する工程と、シリコン基板の表面温度が３５０℃以上５００℃以下となるようにシリコン基板を加熱する工程と、３５０℃以上５００℃以下のシリコン基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method for forming damascene wiring or plug wiring for a semiconductor device has a step of making a wiring groove or hole in an insulating film formed on a substrate and forming a metallic film on the insulating film, and a step of applying a voltage to the substrate in an electrolytic solution with the substrate used as an anode.例文帳に追加

半導体装置のダマシーン配線、プラグ配線を形成する方法であって、基板上に形成された絶縁膜に配線溝または接続孔を形成し、その絶縁膜上に金属膜を形成するステップと、電解液中で基板を陽極として、電圧を印加するステップと、を有している。 - 特許庁