「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

This washing device is provided with a recovery part 6 having a recovery port 7 disposed at one end side of a substrate 3, and a blow out part 4 movable toward the one end side from the other end side of the substrate 3 while spraying the washing solution onto the surface of the substrate 3.例文帳に追加

基板３の一端側に配置された回収口７を有する回収部６と、吹き出し口４を有し、前記吹き出し口４から前記基板３表面に洗浄材料を吹き出しながら前記基板３の他端側から前記一端側に向かって移動自在な吹き出し部４とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a functional substrate by forming a dot pattern with high definition and high precision by using a solution containing a functional material to form the high quality fuctional substrate, and the high quality functional substrate manufactured by the manufacturing apparatus and having the dot pattern with high definition and high recision formed thereon.例文帳に追加

機能性材料を含有する溶液によるドットパターン形成を高精細かつ高精度に行い高品質な機能性基体を形成する機能性基体製造装置、及びこのような製造装置によって製作され、高精細かつ高精度なドットパターンを形成された高品質な機能性基体を提供する。 - 特許庁

A frame-like frame body 7 having liquid-repellent properties is formed around the outer-periphery surface of a flat sealing substrate 6 that opposes a flat element substrate 1; a moisture-absorbing material solution is applied to the inside of the flat sealing substrate 6 surrounded by the frame body 7; and a layer 8 containing a moisture absorbing substance is formed by curing.例文帳に追加

平板素子基板１と対向する平板封止基板６の外周面を周回して撥液性を有する枠状の枠体７を形成し、この枠体７で囲まれた平板封止基板６の内側に吸湿材溶液を塗布し、硬化して吸湿性物質を含む層８を形成する。 - 特許庁

This method comprises the surface of a substrate to a plating treatment of forming a plating film on this surface by bringing the surface into contact with a plating solution and an etching treatment of etching portions of the plating film formed on the surface of the substrate by bringing the substrate after the plating into contact with an etchant and subjecting the surface again to the plating treatment after the etching treatment.例文帳に追加

めっき液に接触させて基板の表面にめっき膜を形成するめっき処理と、めっき後の基板をエッチング液に接触させて基板の表面に形成しためっき膜の一部をエッチングするエッチング処理を行い、エッチング処理後に再度めっき処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

In the coating method of coating the solution on the surface of a substrate by the inkjet, droplets are discharged in a columnar shape from the nozzle 609 of an inkjet head 604, also the inkjet head 604 is relatively moved in a main scanning direction to the substrate 601, and the droplets are landed on the substrate while keeping the columnar shape.例文帳に追加

インクジェットにより溶液を基材表面に塗布する塗布方法であって、インクジェットヘッド６０４のノズル６０９から液滴を柱状に吐出すると共に、基材６０１に対してインクジェットヘッド６０４を主走査方向に相対移動させ、柱状を保ったまま液滴を基材に着弾させる。 - 特許庁

This method for forming the oxide coating film on a metallic titanium substrate features that the metallic titanium substrate is subjected to heat-treatment under the presence of oxygen so as to form the oxide coating film, is further fired unde vacuum pressure and, thereafter, is subjected to anodic-oxidation in a solution including electrolyte and, thereby, the oxide coating film is reformed on the surface of the metallic titanium substrate.例文帳に追加

金属チタン基体を酸素存在下で加熱処理して酸化被膜を形成し、さらに真空中で焼成し、その後電解質含有溶液中で陽極酸化することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。 - 特許庁

In the substrate for flexible printed circuit, having a metal thin-film layer principally comprising an alloy of nickel and chromium and a thin film layer of copper formed on a sheet-like substrate, composed of aromatic polyamide, surface of the sheet-like substrate touching the metal thin-film layer is processed by using alkaline aqueous solution.例文帳に追加

芳香族ポリアミドからなるシート状基材上にニッケルとクロムからなる合金を主成分とする金属薄膜層、および銅の薄膜層を有するフレキシブルプリント回路用基板であって、該シート状基材の該金属薄膜層と接している表面がアルカリ水溶液を用いて処理されているフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

This DNA chip 20 having many minute spots 80 formed by dropping a sample solution on the substrate 10 is so formed that a hydrophilic poly-L-lysine layer 12 is formed on the surface of the substrate 10, and that projections 14 are formed respectively on each center part of the positions on the substrate 10 where the minute spots 80 are to be formed.例文帳に追加

基板１０上に試料溶液の滴下による微小スポット８０が多数形成されたＤＮＡチップ２０において、基板１０の表面に親水性を有するpoly-L-lysine層１２を形成し、該基板１０上のうち、微小スポット８０が形成されるべき位置の各中心部分にそれぞれ突起１４を形成して構成する。 - 特許庁

A substrate for mass spectrometry has an arborescent platinum nanostructure formed on a roughened semiconductor substrate, and the arborescent platinum nanostructure is formed through self-growth by the immersion of the roughened semiconductor substrate into a platinum solution.例文帳に追加

粗面化された半導体基板上に樹枝状白金ナノ構造体が形成されている質量分析用基板であって、前記樹枝状白金ナノ構造体は、前記粗面化された半導体基板を白金溶液に浸漬することにより自己成長により形成されることを特徴とする質量分析用基板。 - 特許庁

To provide a substrate processing method by which a substrate wherein a laminated film with a ruthenium and tungsten compound or a tantalum compound is formed does not oxidize and deteriorate the tungsten compound or the tantalum compound, and Low-K does not deteriorate even if a device formation area surface is exposed to water or an alkaline solution; and to provide a substrate processing device.例文帳に追加

ルテニウムとタングステン化合物又はタンタル化合物との積層膜が形成された基板を、タングステン化合物又はタンタル化合物を酸化変質させることなく、更にデバイス形成領域面が水やアルカリ溶液に曝され、ＬｏｗＫが変質することなのない基板処理方法、及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The organic EL solution is applied to the coating area 91 of the substrate 9 and also to a non-coating area 92 outside the coating area 91 on the terminal end side of the substrate 9 to be moved relatively to the coating head in the subscanning direction while each of the coating head, the head moving mechanism and the substrate moving mechanism is controlled by the control part.例文帳に追加

塗布装置では、制御部により各構成が制御されて、基板９上の塗布領域９１に有機ＥＬ液が塗布されるとともに、副走査方向における塗布ヘッドの相対移動の基板９上の終端側において塗布領域９１の外側の非塗布領域９２に有機ＥＬ液が塗布される。 - 特許庁

The AlN substrate cleaning method ensures that the area ratio between Al_2s electron and N_1s electron (peak area of Al_2s electron/peak area of N_1s electron) is 0.65 or less in the photoelectron spectrum of the surface of an AlN substrate according to X-ray photoelectron spectroscopy at an inspection angle of 10° by dipping the AlN substrate in an acid solution.例文帳に追加

また、ＡｌＮ基板を酸溶液に浸漬させることによって、検出角度１０°でのＸ線光電子分光法によるＡｌＮ基板の表面の光電子スペクトルにおいて、Ａｌ_2s電子とＮ_1s電子のピーク面積の比（Ａｌ_2s電子のピーク面積／Ｎ_1s電子のピーク面積）を０．６５以下にするＡｌＮ基板の洗浄方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing an organic conductive thin film includes a step for preparing a first solvent and a second solvent in which an organic polymer is further dissolved to at least one solution of the first solution obtained by dissolving electron donor molecule into an organic solvent and the second solvent obtained by dissolving electron receptor molecule into the organic solvent and a step for mixing the first solution and the second solution at the same location on the substrate.例文帳に追加

電子供与性分子を有機溶媒へ溶解した第１の溶液及び電子受容性分子を有機溶媒へ溶解した第２の溶液のうちの少なくとも１方の溶液にさらに有機高分子を溶解した、第１の溶液及び第２の溶液を用意する工程と、上記第１の溶液及び第２の溶液を基板上の同位置において混合する工程とを含む有機導電性薄膜の製造方法である。 - 特許庁

The method includes steps: (A) providing a silicon substrate; (B) making the silicon substrate contact with an activator where the activator comprises: a noble metal or a noble metal compound, a thickening agent, and water; (C) washing the silicon substrate by a cleaning agent; (D) dipping the silicon substrate in an electroless nickel plating solution to perform electroless-plating and to form nickel layers 51 and 52.例文帳に追加

（Ａ）シリコン基板を提供する；（Ｂ）シリコン基板を活性剤と接触させる、ここで活性剤は貴金属又は貴金属化合物、増粘剤及び水を含む；（Ｃ）シリコン基板を洗浄剤で洗浄する；及び（Ｄ）無電解系めっきを実施するために、シリコン基板を無電解ニッケルめっき溶液中に浸漬し、ニッケル層５１および５２を形成する；工程を含む。 - 特許庁

A composition for forming the gap filling material containing a polymer solution is used in manufacturing a semiconductor device by a method which consists of coating the substrate having holes with ≥1 aspect ratio defined by height/diameter with a resist and transferring an image to the substrate utilizing a lithography process and is used to flatten the substrate surface by coating the substrate therewith before coating it with the resist.例文帳に追加

高さ／直径で示されるアスペクト比が１以上のホールを有する基板にレジストを被覆しリソグラフィープロセスを利用して基板上に画像を転写する方法による半導体装置の製造において使用され、レジストを被覆する前の該基板に被覆して基板表面を平坦にするために用いる、ポリマー溶液を含有するギャップフィル材形成組成物である。 - 特許庁

In the original printing plate for the lithographic printing plate having an image recording layer on a substrate, which is capable of forming an image by feeding a printing ink and dampening water onto a printing machine after exposure to the light and removing unexposed parts, the substrate is characterized in that the substrate is an aluminum substrate with an anodized film treated with a water solution containing nitrous acid and/or a nitrite.例文帳に追加

支持体上に、露光後、印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給して未露光部分を除去することにより画像形成可能な画像記録層を有する平版印刷版原版において、該支持体が亜硝酸及び／又は亜硝酸塩を含む水溶液で処理された、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体であることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor device includes steps of conducting an etching process to a film formed on a semiconductor substrate and peeling the deposits on the film by supplying a chemical solution, after the etching process, to the semiconductor substrate in a state where the substrate is rotated in the number of rotations lower than the predetermined number of rotations and then rotating the semiconductor substrate in the number of rotations larger than the predetermined number of rotations.例文帳に追加

半導体製造方法は、半導体基板上に形成された膜にエッチングを施す工程と、エッチングの後に、膜上の堆積物を剥離する薬液を所定の回転数よりも回転数が小さい状態の半導体基板に供給し、その後、半導体基板を所定の回転数よりも大きい高回転数で回転する剥離工程とを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate with projections that can precisely form projections of cured bodies of a photosensitive resin composition on the substrate by using an ink jet device, and reducing disposal amounts of a developing solution and the photosensitive resin composition to reduce an environmental load, and to provide the substrate with projections for liquid crystal display device obtained by the manufacturing method of the substrate with projections.例文帳に追加

基板上に、インクジェット装置を用いて感光性樹脂組成物の硬化物からなる突起を精度良く形成することができ、また現像液や感光性樹脂組成物の廃棄量を低減し、環境負荷を低減することができる突起付き基板の製造方法、及び該突起付き基板の製造方法により得られた液晶表示装置用突起付き基板を提供する。 - 特許庁

Then the ceramic substrate 11 is dipped in an electrolytic plating solution and electric power is supplied to the power supply film 15 to deposit an electrolytic plating film 20 on the plating base film 18, thereby forming a wiring pattern 21.例文帳に追加

ついで、セラミック基板１１を電解メッキ溶液に浸漬して給電膜１５に通電し、メッキ下地膜１８の上に電解メッキ膜２０を堆積させて配線パターン２１を形成する。 - 特許庁

In a cooling step following a chemical reinforcement step, a cooling treatment for bringing the glass substrate into contact with a treatment solution being a melt of a substance having a lower solidification temperature than the chemically reinforcing salt is performed.例文帳に追加

化学強化工程後の冷却工程において、化学強化塩よりも固化温度の低い物質が融解された処理液にガラス基板を接触させる冷却処理を行う。 - 特許庁

To prevent the contamination of a substrate with objective matter for removal by smoothly ejecting the objective matter for removal riding a treatment solution from within a treatment tank using a devised upper structure of the treatment tank.例文帳に追加

処理槽の上部構造を工夫することにより、処理槽内の除去対象物を処理液にのせて円滑に排出して、除去対象物により基板の汚染を防止できる。 - 特許庁

Consequently, the dissolution of the plating layer plated and formed on the main substrate can be suppressed and the deterioration of the quality of the plating layer can be suppressed at the time of discharging the plating solution.例文帳に追加

この結果、前記メッキ液の排液の際に、主基板上にメッキ形成されたメッキ層の溶解を抑制すると共に、前記メッキ層の品質の劣化を抑制することが可能になる。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device which confirms, on a digital type gas pattern panel, current values of gas pressure, vacuum pressure, a solution remaining quantity, piping temperature, and a gas flow rate, and changes the setting of the gas flow rate.例文帳に追加

デジタル式ガスパターンパネル上でガス圧や真空圧、溶液残量、配管温度、ガス流量の現状値の確認、ガス流量の設定の変更が可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In the case of indicating the silicic acid quantity with Si quantity contained in this acid, the glassy film forming-treated solution may be coated so that the silicic acid quantity in a glassy film substrate layer becomes 5-500 mg/m^2.例文帳に追加

珪酸量をそれに含まれるＳｉ量で表したとき、前記ガラス皮膜下地層の珪酸量が５〜５００mg／m^2となるようにガラス皮膜形成処理液を塗布するのがよい。 - 特許庁

The etching solution for a silver-based thin film deposited on a substrate contains, by weight, 3 to 30% iodine and 10 to 50% iodide in a water base medium.例文帳に追加

沃素３〜３０重量％と沃化物１０〜５０重量％とを水性媒体中に含有することを特徴とする基板上に形成された銀系薄膜用エッチング液。 - 特許庁

The method for forming the photocatalyst thin film is characterized by coating the surface of the substrate with the coating solution to form a coating film and drying the obtained coating film at 80-110°C.例文帳に追加

前記塗工液を基体の表面に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を８０〜１１０℃の温度で乾燥することを特徴とする光触媒薄膜の形成方法。 - 特許庁

The developing nozzle can move in a horizontal direction from the first washing tank toward the second washing tank and can supply a developing solution onto a top surface of the substrate.例文帳に追加

前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。 - 特許庁

The etching and activation of the synthetic substance substrate are simultaneously performed in a solution comprising one or more etching reagents, an etching activation wetting agent, and a hydrochloric acid, and noble metal ion-containing activator.例文帳に追加

一つ以上の腐食剤、腐食活性浸潤剤、塩酸および貴金属イオン含有活性化剤を含む溶液を合成物質基板の腐食と活性化を同時に行う。 - 特許庁

A biochemical substance T2 is position-selectively adsorbed to the substrate w1 at a position from which the absorption layer M has been removed by thereinto introducing a solution of the biochemical substance T2.例文帳に追加

生化学物質Ｔ２の溶液を導入することにより、光吸収層Ｍが除去された位置の基板ｗ１に生化学物質Ｔ２を位置選択的に吸着させる。 - 特許庁

The stain resistant aluminum material is obtained by coating the surface of an aluminum substrate having a nonporous film on the surface with a titanium dioxide precursory solution, and performing heat treatment thereto to deposit a titanium dioxide thin film thereon.例文帳に追加

表面に無孔質皮膜を有するアルミニウム基体上に、二酸化チタン前駆体溶液を塗布し加熱処理して二酸化チタン薄膜を形成した防汚アルミニウム材。 - 特許庁

Then, the substrate is rinsed with water, an aqueous solution, or a solvent, and thereby, the protective film removal layer and the protective film are removed together.例文帳に追加

その後、保護膜除去層の断面が露出するように基板を切断した後、基板を水、水溶液または有機溶媒によって洗浄し、前記保護膜除去層と共に保護膜を除去する。 - 特許庁

As a vacant space having a volume in microliter order made between the substrate 1 and the member 2, measuring units 4A, 4B, a solution input unit 3 and a microflow channel 5 are installed.例文帳に追加

基板１と部材２との間に設けられたマイクロリッターオーダの容積を有する空隙として、測定部４Ａ、４Ｂと、溶液投入部３と、微細流路５とが設けられている。 - 特許庁

A solution of pentacene-chloranil adduct or pentacene derivative-chloranil adduct is coated on silicon substrate, then heat-treated to convert the chloranil adduct to pentacene or pentacene derivative.例文帳に追加

ペンタセンのクロラニル付加体又はペンタセン誘導体のクロラニル付加体の溶液をシリコン基板上に塗布した後、加熱処理を行い、前記クロラニル付加体をペンタセン又はペンタセン誘導体に変換した。 - 特許庁

The putrid smell inhibitor for water and the aqueous solution comprises ceramic using a titanate as a substrate material and the ceramic includes at least barium titanate or strontium titanate.例文帳に追加

チタン酸塩を基礎材料とする磁器からなる水および水溶液の腐臭抑制材であって、前記磁器が少なくともチタン酸バリウムあるいは、チタン酸ストロンチウムを含む磁器である。 - 特許庁

To provide a coating method and a coating device capable of forming a thin coating film of uniform film thickness, and a high speed coating, not depending on the planarity of the substrate even in a high viscosity solution.例文帳に追加

高粘度液においても、支持体の平面性に影響されずに塗布膜厚の均一な、薄膜、高速の塗布を行うことが可能な塗布方法及び塗布装置の提供。 - 特許庁

The support for the planographic printing plate is constituted by treating a metal substrate, to which surface roughening treatment and anodic oxidation treatment are applied, with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicic acid compound.例文帳に追加

粗面化処理および陽極酸化処理を施された金属基体を、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液で処理してなる平版印刷版用支持体。 - 特許庁

Injection of the electrolyte solution 4 is carried out through the holes opened for each region formed with the bulkheads 30 at the end of the positive electrode-side substrate 2 located at the end of the dye-sensitized solar cell 1.例文帳に追加

電解液４の注入は、色素増感型太陽電池１の端部の正極側基板２の端部に、隔壁３０で形成される領域毎に開けた孔から行う。 - 特許庁

A voltage is applied between a nozzle 30 and a target substrate 60 with a direct current power source 50, and a polymer solution 20 consisting of a polymer material dispersed in a solvent is discharged from the nozzle 30.例文帳に追加

ノズル３０とターゲット基板６０との間に直流電源５０で電圧を印加し、高分子材料を溶媒に分散させた高分子液２０をノズル３０から吐出させる。 - 特許庁

To provide a texturing solution improved in texturing uniformity and reproducibility, reduced in evaporation of a component and improved in reflectance performance, in a semiconductor substrate texturing method.例文帳に追加

半導体基体のテクスチャ化方法において、改良されたテクスチャ化均一性、再現性、成分の蒸発の低減および改良された反射率性能を伴うテクスチャ化溶液を提供する。 - 特許庁

To provide a coating apparatus which prevents the film thickness at the peripheral part of a prescribed pattern from becoming thicker than that at another part when a solution is applied onto a substrate to form the pattern.例文帳に追加

この発明は基板に溶液を所定のパターンで塗布したときに、そのパターンの周辺部の膜厚が他の部分よりも厚くなるのを防止する塗布装置を提供することにある。 - 特許庁

The developing nozzle can move in a horizontal direction from the first washing tank toward the second washing tank and can supply a developing solution onto a top surface of the substrate.例文帳に追加

前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。 - 特許庁

The etching and activation of a synthetic substance substrate are performed by a common operation stage in a first solution comprising at least one inorganic acid-containing etching reagent and an ionogen activator.例文帳に追加

、合成物質基板の腐食と活性化を共通の操作工程で行い、少なくとも一つの無機酸含有腐食剤とイオノゲン活性化剤を含む第一溶液中で行う。 - 特許庁

To obtain ceramic electronic parts wherein a plated electrode is excellently formed on a baked electrode formed on an end surface of a ceramic substrate, and it has no deterioration of characteristics thereof due to a plating solution.例文帳に追加

セラミックで形成された基体の端面に形成された焼付け電極上に、良好にめっき電極が形成され、かつめっき液による特性劣化のないセラミック電子部品を得る。 - 特許庁

To provide a method for growing a large crystal of group III nitride by an HVPE (hydride vapor phase epitaxy) method using a group III nitride crystal substrate obtained by a solution method.例文帳に追加

溶液法により得られるＩＩＩ族窒化物結晶基板を用いたＨＶＰＥ（ハイドライド気相成長）法による大型のＩＩＩ族窒化物結晶の成長方法を提供する。 - 特許庁

The organic compound layer consisting of plural materials is formed by coating application solution 108 in which the organic compound is dissolved in a solvent on a substrate 101 at which a mask 102 is installed.例文帳に追加

有機化合物を溶媒に溶解させた塗布液１０８をマスク１０２を設けた基板上１０１に塗布することにより複数の材料からなる有機化合物層を形成する。 - 特許庁