「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

The substrate-processing equipment performs a detour-preventing processing, by supplying a first processing liquid toward the surface of a substrate W and therewith performs a film-removing processing, by supplying a second processing liquid toward the back face of the substrate W, where a fluorine-based inert liquid and a hydrofluoric acid aqueous solution, which are mutually insoluble, are used as the first and second processing liquids.例文帳に追加

基板Ｗの表面に向けて第１処理液を供給して回込防止処理を行うとともに、基板の裏面に向けて第２処理液を供給して膜除去処理を行う基板処理装置において、第１および第２処理液として、互いに難溶性のフッ素系不活性液体およびフッ酸水溶液を用いている。 - 特許庁

When specified processing, e.g. etching, is performed using a specified processing liquid of alkaline solution, for example, onto a substrate at least the surface part of which is composed of silicon or a silicon oxide, the specified processing is performed by immersing the substrate into a processing bath filled with the processing liquid and applying a specified voltage to the substrate immersed into the processing bath.例文帳に追加

少なくとも表面部がシリコン又はシリコン酸化物からなる基板に対して、例えばアルカリ溶液である所定の処理液を用いて例えばエッチングなどの所定の処理を行う際に、処理液が満たされた処理浴に基板を浸漬して所定の処理を行うと共に、この処理浴中に浸漬された基板に所定の電圧を印加する構成とする。 - 特許庁

To automate confirmation whether drying for a recovered measured object is finished or not, in a sample recovery device for fluorescent X-ray analysis for dropping a solution on a substrate on a surface of which the measured object exists, for moving the measured object on the substrate surface while holding it by a holding tool, and for drying the measured object to be held on the substrate surface.例文帳に追加

表面に被測定物が存在する基板に溶液を滴下して保持具で保持しながら基板表面で移動させ、被測定物を回収後乾燥させて基板表面に保持する蛍光Ｘ線分析用試料回収装置において、回収した被測定物を乾燥できたか否かなどの確認について自動化できるものを提供する。 - 特許庁

In the thermal treatment device (thermal treatment unit 3), when the substrate G on which a coating solution (resist liquid) is applied is placed on a heating plate 4 and heated, a frame 5 is provided above the heating plate 4 and around the substrate G so as to make its side faces confront the side faces of the substrate G and form a gap between itself and the surface of the heating plate.例文帳に追加

前記熱処理装置（熱処理ユニット３）において、加熱プレート４に塗布液（レジスト液）が塗布された基板Ｇを載置して当該基板Ｇを加熱するにあたり、加熱プレート４の上部に、基板Ｇの周囲に、内面が基板側面に対向するように、かつ加熱プレート表面との間に隙間を形成するように枠体５を設ける。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a synthetic quartz glass substrate for a polysilicon TFT (thin-film transistor) which suppresses the generation of impurities from a substrate end surface and suppresses the elution of the impurities from the end surface and adhesion thereof to the the surface of the substrate even if the synthetic quartz glass is cleaned with chemicals (an HF solution etc.) in a polishing process.例文帳に追加

ポリッシュ工程において基板端面からの不純物の発生を抑えるとともに、合成石英ガラスに対して溶解力を持つ薬液（ＨＦ溶液等）で洗浄しても端面から不純物が溶出して基板の表面に付着することを抑えたポリシリコンＴＦＴ用合成石英ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a composite substrate, preventing cracks in the upper dielectric layer in forming the upper layer caused by the lower layer step and preventing the generation of uneven application at forming of the upper layer, by applying a solution in the manufacturing method for the multiplane composite substrate that forms the dielectric layer on the substrate provided with an electrode.例文帳に追加

電極を設けた基板上に誘電体層を形成する多面付け複合基板の製造方法において、下層の段差起因で上層形成時に上層の誘電体層にクラックが入るのを防止し、また、上層を溶液の塗布により形成する場合の塗布ムラの発生を防止する複合基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate by droplet discharge, in which shortage in the spread of a droplet and the mixture of droplets between adjacent areas can be reduced in the case of discharging and arranging a function solution in a prescribed area on a substrate as a droplet, the substrate, a method for manufacturing a display apparatus, the display apparatus, and an electronic apparatus.例文帳に追加

機能液を基体上の所定の領域に液滴として吐出させて配置する場合に、液滴の広がり不足や隣接する領域間の液滴の混入を低減することのできる液滴吐出による基板の製造方法、基板、及び表示装置の製造方法、表示装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

In the p-type low resistance silicon single crystal substrate evaluating method, the final etching is conducted using an alkali solution after the selective etching of the silicon single crystal substrate using a selective etchant, and thereafter crystal defect of the silicon single crystal substrate is evaluated.例文帳に追加

Ｐ型低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法であって、シリコン単結晶基板を選択エッチング液によって選択エッチングした後、アルカリ溶液によって仕上げエッチングし、その後、前記シリコン単結晶基板の結晶欠陥の評価を行うことを特徴とするシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法。 - 特許庁

Even the cleaning method for cleaning the semiconductor substrate by a chemical liquid comprises a first cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by a mixed solution containing fluorine-ozone water in a composition for preventing fluorine from remaining, and a second cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by the ozone water in a composition for successively making the surface of the semiconductor substrate hydrophilic.例文帳に追加

半導体基板を薬液で洗浄する洗浄方法であって、半導体基板表面にフッ素が残留しない組成のフッ酸−オゾン水を含む混合溶液で該半導体基板を洗浄する第１の洗浄工程と、引き続き半導体基板表面を親水性化する組成のオゾン水で該半導体基板を洗浄する第２の洗浄工程とを有することを特徴とする半導体基板の洗浄方法である。 - 特許庁

This method of forming the oxidized coating on a metal titanium substrate comprises applying titanic acid or organic titanium compound on the surface of the metal titanium substrate to form the oxidized coating thereon, firing the metal titanium substrate having the oxidized coating to reduce the thickness of the oxidized coating, then subjecting the oxidized coating to anodic oxidation in an electrolyte-containing solution, thereby forming the oxidized coating again on the surface of the metal titanium substrate.例文帳に追加

金属チタン基体表面にチタン酸あるいは有機チタン化合物を塗布して酸化被膜を形成し、酸化被膜を有する金属チタン基体を焼成して、該酸化被膜の厚さを減少せしめ、その後電解質含有溶液中で陽極酸化することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。 - 特許庁

A pad 1a of a bare chip 1 and a land 2a of a circuit substrate 2 are immersed in a plating solution 4, and the electric connection is executed by making junction by use of bumps 3a and 3b produced by the deposited metal separated out by the plating.例文帳に追加

ベアチップ１のパッド１ａと回路基板２のランド２ａをめっき液４に浸し、めっきによる析出金属で生成するバンプ３ａ，３ｂで接合することにより、電気的接続を行う。 - 特許庁

After substituting a chemical supplied to and stored in an inner tub 3 by supplying a low surface tension solution with a smaller surface tension, a substrate W is taken out from the inner tub 3.例文帳に追加

内槽３に供給されて貯留されている薬液を、表面張力がより小さな低表面張力溶液を供給させて置換した後に、基板Ｗを内槽３から搬出させる。 - 特許庁

A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液１０３にさらす。 - 特許庁

A method of forming the conductive film complex is formed by the processes of forming an intermediate layer composed of a water-soluble resin or a hydrophilic resin on the substrate, and coating the surface of the intermediate layer with a metal colloid solution.例文帳に追加

基材上に水溶性樹脂もしくは親水性樹脂からなる中間層を設け、上記中間層表面に金属コロイド液を塗布することによって、導電性被膜複合体を形成する。 - 特許庁

At this time, the flaking agent containing amine and the pure water are mixed, the mixed solution is prevented from being alkalescent, because the carbon dioxide is dissolved in the pure water, so the corrosion of the metal film of the substrate (W) can be prevented.例文帳に追加

このときアミンを含む剥離液と純水とが混ざるが、純水は二酸化炭素が溶けているので、混合液がアルカリ性になることはなく、基板Ｗの金属薄膜が腐食されることはない。 - 特許庁

A stainless steel sheet is used as the substrate, and a titanium or titanium-alloy plating layer in which ≥0.5% nitrogen is made to enter into solid solution is deposited by a sputtering method, and a titanium oxide film is formed on the outermost surface layer of the plating layer.例文帳に追加

ステンレス鋼板を基板に、０．５ａｔｍ％以上の窒素を固溶するチタンまたはチタン合金めっき層をスパッタリング法により施し、該めっき最表層に酸化チタン皮膜を形成した。 - 特許庁

To provide an ultrasonic washing apparatus capable of improving the performance of removing bubbles when discharging bubbles, and washing a substrate without overspending a washing solution discharged together with the bubbles.例文帳に追加

気泡の排出を行う際の気泡の除去性能を向上させ、気泡とともに排出されていた洗浄液を浪費することなく基板を洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The concentration of H_2O_2 in a SPM solution other than the time of cleaning a substrate 1 (removing the photo resist film) is controlled at a first concentration or above which is the minimum capable of removing at least a part of the photo resist film.例文帳に追加

基板１の洗浄（フォトレジスト膜の除去）時以外のＳＰＭ液中のＨ_２Ｏ_２の濃度は、フォトレジスト膜の少なくとも一部を除去できる最低限の第１濃度以上で制御する。 - 特許庁

To form a finer pattern by appropriately adhering and fixing a dot pattern of an injection solution to a desired location on a substrate, when manufacturing an organic EL light-emitting element by utilizing an ink jet injection principle.例文帳に追加

インクジェット噴射原理を利用して有機ＥＬ発光素子を製作する際、噴射溶液のドットパターンを基板上の所望の場所に正しく付着／定着させ、より高精細なパターンを形成する。 - 特許庁

The whole of the substrate is immersed in an electroless plating solution 57, and thus a metal 58 is deposited in the region where the plating catalyst metal 56 is deposited using the electroless plating method (Fig.f).例文帳に追加

そして、基板全体を無電界メッキ溶液５７に浸漬させることにより、メッキ触媒金属５６が析出した領域に無電界メッキ法を利用して金属５８を析出させる（図１（ｆ））。 - 特許庁

To facilitate the handling of an application head of an applicator without lowering the precision of an edge arranged to face a substrate to be coated and to easily change the width of a slit through which a coating solution passes.例文帳に追加

塗布装置の塗布ヘッドについて、被塗布物に対向して配置されるエッジの精度を低めることなく取扱い性を向上し、かつ、塗布液が通過するスリットの幅を容易に変更する。 - 特許庁

The raw material aqueous solution is put in an atomization container 21 of a raw material atomization device 2, and a temperature of a substrate 8 set on a bottom part of a reaction space 61 is increased to 400°C by a heater 7.例文帳に追加

原料水溶液を原料霧化装置２の霧化容器２１内に入れると共に、反応空間６１の底部にセットした基板８をヒータ７によって４００℃まで昇温させる。 - 特許庁

The method for producing the sealing tape is characterized by coating a polyester-based elastomer film used as a substrate portion with a 2 to 30% organic solvent solution of a polyetherester-based elastomer and then removing the organic solvent.例文帳に追加

また製造方法は、基体部となるポリエステル系エラストマーフィルム上に、ポリエーテル−エステル系エラストマーの濃度２〜３０％の有機溶剤溶液を塗布した後、該有機溶剤を除去する方法である。 - 特許庁

A conductive polymer is exposed to a wet developing solution, by using standard photolithography and the resists developing method and only conductive polymer wires are left on a substrate by removing part of the exposed conductive polymer region.例文帳に追加

標準のフォトリソグラフィおよびレジスト現像技法を使用して、導電ポリマーをウェット現像液に曝し、曝された導電ポリマー領域の一部を除去し、導電ポリマー線のみを基板の上部に残す。 - 特許庁

The device comprises an edge nozzle 13 for supplying a solution to an end rim portion of a substrate W with a resist film C adhered, and an infrared ray radiating part 31 for heating the resist film C by directing an infrared ray.例文帳に追加

レジスト膜Ｃが被着された基板Ｗの端縁部に溶解液を供給するエッジノズル１３と、赤外線を照射してレジスト膜Ｃを加熱する赤外線照射部３１とを備えている。 - 特許庁

This probe solution composition is a liquid composition for spotting-immobilizing a probe coupled specifically to a target substance on the substrate, and contains the probe and a basic amino acid.例文帳に追加

標的物質に特異的に結合するプローブを基板上にスポッティング固定するための液体組成物であって、プローブと塩基性アミノ酸とを含有することを特徴とするプローブ溶液組成物。 - 特許庁

Perforated plates 3 and 4 with a large number of pores capable of passing the treatment solution are arranged facing each other across a space between a face side and a back side of a substrate P to be carried along a carrying passage 2.例文帳に追加

搬送路２に沿って搬送される基板Ｐの表裏の面と隙間を隔てて、処理液を通過可能な微細な孔が多数形成された多孔板３、４が対向配置されている。 - 特許庁

That is, the removing unit 5, in which organic substances are removed by removing solution, is adjacent to the incoming/departure unit ID via which a substrate W is delivered between the apparatus and the outside of the apparatus.例文帳に追加

すなわち、装置外部との間で基板Ｗの搬出入を行う搬入搬出部ＩＤに、除去液によって有機物の除去処理を行う除去処理部５が隣接して設けられている。 - 特許庁

In a cleaning method, a contaminated semiconductor substrate 11 is cleaned with a cleaning solution, containing 0.1-50 wt.% organic acid and 0.005-0.25 wt.% hydrofluoric acid having a pH value of or less.例文帳に追加

０．１重量％を越えた５０重量％以下の有機酸と０．００５〜０．２５重量％のフッ酸を含みｐＨが４以下である洗浄液１５を用いて半導体基板１１を洗浄する。 - 特許庁

In the texture formation step of a solar cell, a fine texture can be formed uniformly by adding a silicon compound to an alkaline aqueous solution, and the reflectance of a substrate is reduced.例文帳に追加

本発明は、太陽電池のテクスチャ形成工程において、アルカリ水溶液にケイ素化合物を添加することで、微細なテクスチャを均一に形成することが可能となり、基板の反射率が低減する。 - 特許庁

The SiGe layer 11 is etched by a nitric acid solution via the SiGe removal hole, thus forming the cavity between the Si substrate 1 in the element region and the Si layer 13.例文帳に追加

そして、ＳｉＧｅ除去穴を介してＳｉＧｅ層１１をフッ硝酸溶液等でエッチングすることによって、素子領域のＳｉ基板１とＳｉ層１３との間に空洞部を形成する。 - 特許庁

Then, the substrate 1 is preheated at 40°C, dipped in a poly(3-hexylthiophene)(P3HT) 0.5 wt.% dichlorobenzene solution 8 temperature-controlled to 40°C, and then lifted vertically to manufacture a thin film transistor.例文帳に追加

続いて、基板１を予め40℃に加熱しておき、40℃に温度制御されたポリ（３−ヘキシルチオフェン）（P3HT）0.5重量パーセントジクロロベンゼン溶液８に基板１を浸漬し、垂直に引き上げることで、薄膜トランジスタを作製した。 - 特許庁

To provide a roll shrink label whose bonded object can be stripped off by hand without leaving an adhesive residue, and whose bonded object can be stripped off from a substrate easily and without leaving an adhesive residue by using a hot alkali aqueous solution.例文帳に追加

接着物を糊残りなく手剥がしすることができるとともに、熱アルカリ水溶液により基体から接着物を容易且つ糊残りなく剥がすことのできるロールシュリンクラベルを提供すること。 - 特許庁

In the process for replenishing SiC, SiC is replenished from a shielding wall 4 made of SiC, provided between a support rod 5 of the SiC seed crystal substrate 9 and a graphite crucible 2, in the solution 3.例文帳に追加

ここで、ＳｉＣを補給する工程は、溶液３内であってＳｉＣ種結晶基板９の支持棒５と黒鉛坩堝２との間に設けたＳｉＣ製の遮蔽壁４から補給する工程である。 - 特許庁

To provide a sealing agent which has high adhesion when used for sealing a liquid crystal element using a resin substrate, or a dye-sensitized solar cell and consequently can seal a liquid crystal or an electrolytic solution.例文帳に追加

樹脂基板を用いた液晶素子又は色素増感太陽電池の封止に用いた場合、高い接着性を有するため、液晶や電解液を封止することができるシール剤を提供する。 - 特許庁

When replacing deionized water in a process tank with a chemical solution, the substrate treatment equipment gradually or continuously increases the concentration of the chemical constituent in the treatment liquid supplied into the process tank.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、処理槽内の純水を薬液に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的又は連続的に上昇させる。 - 特許庁

Those organic semiconductors are dissolved in general organic solvents and are applied over substrate surfaces by a low-cost low-temperature solution process, such as spin coating, dip coating, and drop casting, and microcontact printing.例文帳に追加

これらの有機半導体は一般的な有機溶媒に溶解し、スピン・コーティングやディップ・コーティング、ドロップ・キャスティング、マイクロコンタクト・プリンティング等の、低コストな低温溶液処理で基板表面に塗布される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an outer packaging material for a lithium battery, which has sufficient electrolyte solution resistance, hydrofluoric acid resistance and water resistance, and also has superior adhesiveness between an aluminum foil layer and a substrate layer.例文帳に追加

充分な耐電解液性、耐フッ酸性及び耐水性を有すると共に、アルミニウム箔層と基材層の密着性が優れたリチウム電池用外装材を製造する方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The method comprises a step applying a solution containing a polymer, a foaming agent and a surfactant, on a substrate, and a step generating bubbles using the foaming agent before or after the application step.例文帳に追加

ポリマー、発泡剤および界面活性剤を含む溶液を支持体に塗布する工程、および塗布工程の前または後のどちらかで該発泡剤を発泡させて気泡を発生させる工程からなる。 - 特許庁

The use of both an optical through beam solution for optically encoded element such as code wheel/code strip and a single non-folding common substrate having a light emitter and a light detector is enabled.例文帳に追加

コードホイール／コードストリップなどの光符号化要素用の光スルービームソリューションと光エミッタ及び光検出器の両方を有する単一の非折り畳み型共通基板の両方を可能にする。 - 特許庁

To provide a roll shrink label capable of peeling off an adhesion object by hand without a paste residue and peeling off an adhesion object from a substrate with a hot alkali aqueous solution easily and without a paste residue.例文帳に追加

接着物を糊残りなく手剥がしすることができるとともに、熱アルカリ水溶液により基体から接着物を容易且つ糊残りなく剥がすことのできるロールシュリンクラベルを提供すること。 - 特許庁

The dropped drop 10a of the gold amalgam solution 10 has a high-accuracy spherical shape by a surface tension, so that the concave face formed on the lead silica glass substrate 20 has a high-accuracy hemispherical shape.例文帳に追加

滴下された金アマルガム溶液１０の滴１０ａは表面張力により高精度の球状であるので、それにより鉛シリカガラス基板２０に形成された凹面も高精度の半球状となる。 - 特許庁

To provide a chemical blending method and device for forming a Caro's acid, which is effective in removing resist from a substrate sufficiently when a sulphuric acid and a hydrogen peroxide solution are mixed together.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水とを混合させた際に、基板からのレジストの剥離等に有効なカロ酸を十分に生成させることができる薬液混合方法および薬液混合装置を提供する。 - 特許庁

A layer containing an organic compound is formed on a substrate under an inactive gas atmosphere by spraying a colloidal solution (also called as sol) in which aggregates of the organic compound are dispersed.例文帳に追加

本発明は、有機化合物の集合体を分散させたコロイド溶液（ゾルとも呼ぶ）を散布により不活性ガス雰囲気下で基板上に有機化合物を含む層を形成することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for electrolytic treatment that enable a uniform electrolytic treatment in a substrate plane without changing the thickness and the film type of a conductive layer, the electrolyte of a plating solution, and the like.例文帳に追加

導電層の厚みや膜種、めっき液の電解質等を変更することなく、基板面内における均一な電解処理を行えるようにした電解処理装置及びその方法を提供する。 - 特許庁