「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

The rear surface treatment method is carried out by: preparing the semiconductor device in which an integrated circuit having a plurality of electrodes is provided on the front surface of the semiconductor substrate; electrically connecting the plurality of electrodes to an anode; and electropolishing the rear surface of the semiconductor substrate by performing anodic oxidation with an electrolytic solution placed in contact with the rear surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

裏面処理方法は、半導体基板の表面に複数の電極を有する集積回路が設けられた半導体装置を準備し、複数の電極と陽極とを電気的に接続して、半導体基板の裏面に電解液を接触させた状態で陽極酸化を実施することにより裏面を電解研磨するものである。 - 特許庁

A first metal film 13 that is thinner is formed on a surface on which an electrode pattern of a piezoelectric substrate 11 is formed, and a second metal film 15 which is hard to be etched by photoresist developing solution is formed on the first metal film 13 and then developed to thereby make a substrate digging amount of the piezoelectric substrate 11 small, suppressing a variation in the excitation center frequency.例文帳に追加

圧電基板１１の電極パターンを形成する方の面に薄い方の第１の金属膜１３を形成し、その上にフォトレジストの現像液にエッチングされにくい第２の金属膜１５を形成した後に現像することにより、圧電基板１１の基板掘れ量を小さくし、励振中心周波数のバラツキを抑制する。 - 特許庁

When specified processing, e.g. etching, is performed using a specified processing liquid of alkaline solution, for example, onto a substrate at least the surface part of which is composed of silicon or a silicon oxide, the specified processing is performed by immersing the substrate into a processing bath filled with the processing liquid and applying a specified voltage to the substrate immersed into the processing bath.例文帳に追加

少なくとも表面部がシリコン又はシリコン酸化物からなる基板に対して、例えばアルカリ溶液である所定の処理液を用いて例えばエッチングなどの所定の処理を行う際に、処理液が満たされた処理浴に基板を浸漬して所定の処理を行うと共に、この処理浴中に浸漬された基板に所定の電圧を印加する構成とする。 - 特許庁

The method for forming a coating film for optical compensation comprises coating a substrate with a coating solution containing the cellulose N-substituted carbamate and a solvent to dissolve it to give a coated substrate and drying the coated substrate.例文帳に追加

セルロース Ｎ−置換カーバメートを含有して形成されることを特徴とする光学補償用塗工膜とすること、及び、前記セルロース Ｎ−置換カーバメート、及びそれを溶解可能な溶媒を含有する塗工液を基板に塗工し塗工基板とした後、この塗工基板を乾燥することを特徴とする光学補償用塗工膜の形成方法とすること。 - 特許庁

A liquid droplet 2 of a solution containing organic EL material (functional material) giving colors such as red, green, and blue is given using a liquid injection head so that each color is arranged in a mosaic manner on a transparent electrode pattern 4 of the glass substrate 5 with a barrier 3 surrounding the ITO transparent electrode pattern 4 to form the organic EL substrate (functional substrate).例文帳に追加

ＩＴＯ透明電極パターン４を囲む障壁３付きガラス基板５の透明電極パターン４上に赤、緑、青に発色する有機ＥＬ材料（機能性材料）を各色がモザイク状に配列されるように、液体噴射ヘッドを用いて有機ＥＬ材料を含む溶液の液滴２を付与して、有機ＥＬ基板（機能性基板）を形成する。 - 特許庁

The substrate-processing equipment performs a detour-preventing processing, by supplying a first processing liquid toward the surface of a substrate W and therewith performs a film-removing processing, by supplying a second processing liquid toward the back face of the substrate W, where a fluorine-based inert liquid and a hydrofluoric acid aqueous solution, which are mutually insoluble, are used as the first and second processing liquids.例文帳に追加

基板Ｗの表面に向けて第１処理液を供給して回込防止処理を行うとともに、基板の裏面に向けて第２処理液を供給して膜除去処理を行う基板処理装置において、第１および第２処理液として、互いに難溶性のフッ素系不活性液体およびフッ酸水溶液を用いている。 - 特許庁

Further, the method of manufacturing the same includes an ultraviolet treatment step of irradiating a surface of a substrate having the transparent electrode with ultraviolet rays in an atmosphere of oxygen, and a surface-active agent layer forming step of applying, in an inert atmosphere, a dilute solution of the surface-active agent to the surface of the substrate having the transparent electrode, and drying the surface of the substrate.例文帳に追加

また、その製造方法は、透明電極付基板表面に酸素含有雰囲気下で紫外線を照射する紫外線処理工程、それに続く透明電極付基板表面に不活性雰囲気下で界面活性剤の希薄水溶液を塗布、乾燥する界面活性剤層形成工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the p-type low resistance silicon single crystal substrate evaluating method, the final etching is conducted using an alkali solution after the selective etching of the silicon single crystal substrate using a selective etchant, and thereafter crystal defect of the silicon single crystal substrate is evaluated.例文帳に追加

Ｐ型低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法であって、シリコン単結晶基板を選択エッチング液によって選択エッチングした後、アルカリ溶液によって仕上げエッチングし、その後、前記シリコン単結晶基板の結晶欠陥の評価を行うことを特徴とするシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法。 - 特許庁

Even the cleaning method for cleaning the semiconductor substrate by a chemical liquid comprises a first cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by a mixed solution containing fluorine-ozone water in a composition for preventing fluorine from remaining, and a second cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by the ozone water in a composition for successively making the surface of the semiconductor substrate hydrophilic.例文帳に追加

半導体基板を薬液で洗浄する洗浄方法であって、半導体基板表面にフッ素が残留しない組成のフッ酸−オゾン水を含む混合溶液で該半導体基板を洗浄する第１の洗浄工程と、引き続き半導体基板表面を親水性化する組成のオゾン水で該半導体基板を洗浄する第２の洗浄工程とを有することを特徴とする半導体基板の洗浄方法である。 - 特許庁

This method of forming the oxidized coating on a metal titanium substrate comprises applying titanic acid or organic titanium compound on the surface of the metal titanium substrate to form the oxidized coating thereon, firing the metal titanium substrate having the oxidized coating to reduce the thickness of the oxidized coating, then subjecting the oxidized coating to anodic oxidation in an electrolyte-containing solution, thereby forming the oxidized coating again on the surface of the metal titanium substrate.例文帳に追加

金属チタン基体表面にチタン酸あるいは有機チタン化合物を塗布して酸化被膜を形成し、酸化被膜を有する金属チタン基体を焼成して、該酸化被膜の厚さを減少せしめ、その後電解質含有溶液中で陽極酸化することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。 - 特許庁

To facilitate the handling of an application head of an applicator without lowering the precision of an edge arranged to face a substrate to be coated and to easily change the width of a slit through which a coating solution passes.例文帳に追加

塗布装置の塗布ヘッドについて、被塗布物に対向して配置されるエッジの精度を低めることなく取扱い性を向上し、かつ、塗布液が通過するスリットの幅を容易に変更する。 - 特許庁

To provide a means of making an electrolytic solution flow without stagnating with a uniform current distribution for an electrochemical polishing device for flattening a conductive material, specially, a copper wire on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面上の導電性材料、特に銅配線の平坦化用である電気化学的研磨装置において、電流分布が均一で、かつ電解液がよどみなく流れる手段を提供する。 - 特許庁

To form a finer pattern by appropriately adhering and fixing a dot pattern of an injection solution to a desired location on a substrate, when manufacturing an organic EL light-emitting element by utilizing an ink jet injection principle.例文帳に追加

インクジェット噴射原理を利用して有機ＥＬ発光素子を製作する際、噴射溶液のドットパターンを基板上の所望の場所に正しく付着／定着させ、より高精細なパターンを形成する。 - 特許庁

The whole of the substrate is immersed in an electroless plating solution 57, and thus a metal 58 is deposited in the region where the plating catalyst metal 56 is deposited using the electroless plating method (Fig.f).例文帳に追加

そして、基板全体を無電界メッキ溶液５７に浸漬させることにより、メッキ触媒金属５６が析出した領域に無電界メッキ法を利用して金属５８を析出させる（図１（ｆ））。 - 特許庁

When a coating solution is applied to a substrate 1 running continuously at a high speed by means of a three-roll coater, a rubber-lining roll having irregularities on the surface is used as an applicator roll 6.例文帳に追加

高速で連続的に走行する基材１に対して、３ロールコーターによって塗布液を塗布する場合に、アプリケーターロール６として、表面に凹凸部が形成されたゴムライニングロールを用いる。 - 特許庁

To provide a glass substrate with a protective film, wherein the protective film can be easily removed, thereby the environmental pollution caused by the cleaning solution used for removing the protective film can be suppressed, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

保護膜の除去を容易とすると共に、保護膜除去のための洗浄液による環境汚染を抑制しようとする保護膜付きガラス基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A conductive polymer is exposed to a wet developing solution, by using standard photolithography and the resists developing method and only conductive polymer wires are left on a substrate by removing part of the exposed conductive polymer region.例文帳に追加

標準のフォトリソグラフィおよびレジスト現像技法を使用して、導電ポリマーをウェット現像液に曝し、曝された導電ポリマー領域の一部を除去し、導電ポリマー線のみを基板の上部に残す。 - 特許庁

In a cleaning method, a contaminated semiconductor substrate 11 is cleaned with a cleaning solution, containing 0.1-50 wt.% organic acid and 0.005-0.25 wt.% hydrofluoric acid having a pH value of or less.例文帳に追加

０．１重量％を越えた５０重量％以下の有機酸と０．００５〜０．２５重量％のフッ酸を含みｐＨが４以下である洗浄液１５を用いて半導体基板１１を洗浄する。 - 特許庁

In the texture formation step of a solar cell, a fine texture can be formed uniformly by adding a silicon compound to an alkaline aqueous solution, and the reflectance of a substrate is reduced.例文帳に追加

本発明は、太陽電池のテクスチャ形成工程において、アルカリ水溶液にケイ素化合物を添加することで、微細なテクスチャを均一に形成することが可能となり、基板の反射率が低減する。 - 特許庁

The method for producing the sealing tape is characterized by coating a polyester-based elastomer film used as a substrate portion with a 2 to 30% organic solvent solution of a polyetherester-based elastomer and then removing the organic solvent.例文帳に追加

また製造方法は、基体部となるポリエステル系エラストマーフィルム上に、ポリエーテル−エステル系エラストマーの濃度２〜３０％の有機溶剤溶液を塗布した後、該有機溶剤を除去する方法である。 - 特許庁

The device comprises an edge nozzle 13 for supplying a solution to an end rim portion of a substrate W with a resist film C adhered, and an infrared ray radiating part 31 for heating the resist film C by directing an infrared ray.例文帳に追加

レジスト膜Ｃが被着された基板Ｗの端縁部に溶解液を供給するエッジノズル１３と、赤外線を照射してレジスト膜Ｃを加熱する赤外線照射部３１とを備えている。 - 特許庁

This probe solution composition is a liquid composition for spotting-immobilizing a probe coupled specifically to a target substance on the substrate, and contains the probe and a basic amino acid.例文帳に追加

標的物質に特異的に結合するプローブを基板上にスポッティング固定するための液体組成物であって、プローブと塩基性アミノ酸とを含有することを特徴とするプローブ溶液組成物。 - 特許庁

The SiGe layer 11 is etched by a nitric acid solution via the SiGe removal hole, thus forming the cavity between the Si substrate 1 in the element region and the Si layer 13.例文帳に追加

そして、ＳｉＧｅ除去穴を介してＳｉＧｅ層１１をフッ硝酸溶液等でエッチングすることによって、素子領域のＳｉ基板１とＳｉ層１３との間に空洞部を形成する。 - 特許庁

Then, the substrate 1 is preheated at 40°C, dipped in a poly(3-hexylthiophene)(P3HT) 0.5 wt.% dichlorobenzene solution 8 temperature-controlled to 40°C, and then lifted vertically to manufacture a thin film transistor.例文帳に追加

続いて、基板１を予め40℃に加熱しておき、40℃に温度制御されたポリ（３−ヘキシルチオフェン）（P3HT）0.5重量パーセントジクロロベンゼン溶液８に基板１を浸漬し、垂直に引き上げることで、薄膜トランジスタを作製した。 - 特許庁

To provide a roll shrink label whose bonded object can be stripped off by hand without leaving an adhesive residue, and whose bonded object can be stripped off from a substrate easily and without leaving an adhesive residue by using a hot alkali aqueous solution.例文帳に追加

接着物を糊残りなく手剥がしすることができるとともに、熱アルカリ水溶液により基体から接着物を容易且つ糊残りなく剥がすことのできるロールシュリンクラベルを提供すること。 - 特許庁

To provide a sealing agent which has high adhesion when used for sealing a liquid crystal element using a resin substrate, or a dye-sensitized solar cell and consequently can seal a liquid crystal or an electrolytic solution.例文帳に追加

樹脂基板を用いた液晶素子又は色素増感太陽電池の封止に用いた場合、高い接着性を有するため、液晶や電解液を封止することができるシール剤を提供する。 - 特許庁

In the process for replenishing SiC, SiC is replenished from a shielding wall 4 made of SiC, provided between a support rod 5 of the SiC seed crystal substrate 9 and a graphite crucible 2, in the solution 3.例文帳に追加

ここで、ＳｉＣを補給する工程は、溶液３内であってＳｉＣ種結晶基板９の支持棒５と黒鉛坩堝２との間に設けたＳｉＣ製の遮蔽壁４から補給する工程である。 - 特許庁

A stainless steel sheet is used as the substrate, and a titanium or titanium-alloy plating layer in which ≥0.5% nitrogen is made to enter into solid solution is deposited by a sputtering method, and a titanium oxide film is formed on the outermost surface layer of the plating layer.例文帳に追加

ステンレス鋼板を基板に、０．５ａｔｍ％以上の窒素を固溶するチタンまたはチタン合金めっき層をスパッタリング法により施し、該めっき最表層に酸化チタン皮膜を形成した。 - 特許庁

The concentration of H_2O_2 in a SPM solution other than the time of cleaning a substrate 1 (removing the photo resist film) is controlled at a first concentration or above which is the minimum capable of removing at least a part of the photo resist film.例文帳に追加

基板１の洗浄（フォトレジスト膜の除去）時以外のＳＰＭ液中のＨ_２Ｏ_２の濃度は、フォトレジスト膜の少なくとも一部を除去できる最低限の第１濃度以上で制御する。 - 特許庁

When replacing deionized water in a process tank with a chemical solution, the substrate treatment equipment gradually or continuously increases the concentration of the chemical constituent in the treatment liquid supplied into the process tank.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、処理槽内の純水を薬液に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的又は連続的に上昇させる。 - 特許庁

Those organic semiconductors are dissolved in general organic solvents and are applied over substrate surfaces by a low-cost low-temperature solution process, such as spin coating, dip coating, and drop casting, and microcontact printing.例文帳に追加

これらの有機半導体は一般的な有機溶媒に溶解し、スピン・コーティングやディップ・コーティング、ドロップ・キャスティング、マイクロコンタクト・プリンティング等の、低コストな低温溶液処理で基板表面に塗布される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an outer packaging material for a lithium battery, which has sufficient electrolyte solution resistance, hydrofluoric acid resistance and water resistance, and also has superior adhesiveness between an aluminum foil layer and a substrate layer.例文帳に追加

充分な耐電解液性、耐フッ酸性及び耐水性を有すると共に、アルミニウム箔層と基材層の密着性が優れたリチウム電池用外装材を製造する方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The method comprises a step applying a solution containing a polymer, a foaming agent and a surfactant, on a substrate, and a step generating bubbles using the foaming agent before or after the application step.例文帳に追加

ポリマー、発泡剤および界面活性剤を含む溶液を支持体に塗布する工程、および塗布工程の前または後のどちらかで該発泡剤を発泡させて気泡を発生させる工程からなる。 - 特許庁

The use of both an optical through beam solution for optically encoded element such as code wheel/code strip and a single non-folding common substrate having a light emitter and a light detector is enabled.例文帳に追加

コードホイール／コードストリップなどの光符号化要素用の光スルービームソリューションと光エミッタ及び光検出器の両方を有する単一の非折り畳み型共通基板の両方を可能にする。 - 特許庁

To provide a roll shrink label capable of peeling off an adhesion object by hand without a paste residue and peeling off an adhesion object from a substrate with a hot alkali aqueous solution easily and without a paste residue.例文帳に追加

接着物を糊残りなく手剥がしすることができるとともに、熱アルカリ水溶液により基体から接着物を容易且つ糊残りなく剥がすことのできるロールシュリンクラベルを提供すること。 - 特許庁

The dropped drop 10a of the gold amalgam solution 10 has a high-accuracy spherical shape by a surface tension, so that the concave face formed on the lead silica glass substrate 20 has a high-accuracy hemispherical shape.例文帳に追加

滴下された金アマルガム溶液１０の滴１０ａは表面張力により高精度の球状であるので、それにより鉛シリカガラス基板２０に形成された凹面も高精度の半球状となる。 - 特許庁

The raw material aqueous solution is put in an atomization container 21 of a raw material atomization device 2, and a temperature of a substrate 8 set on a bottom part of a reaction space 61 is increased to 400°C by a heater 7.例文帳に追加

原料水溶液を原料霧化装置２の霧化容器２１内に入れると共に、反応空間６１の底部にセットした基板８をヒータ７によって４００℃まで昇温させる。 - 特許庁

A substrate W on which a silicon oxide film and a silicon nitride film are formed is immersed into the phosphoric acid solution in the immersion processing bath 10 to proceed a process of selectively etching the silicon nitride film.例文帳に追加

シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板Ｗが浸漬処理槽１０のリン酸水溶液中に浸漬されることによってシリコン窒化膜の選択的なエッチング処理が進行する。 - 特許庁

To provide a method capable of miniaturizing a spot size to a droplet amount, when spotting a droplet of a solution including a probe onto the base material (substrate) surface which has been subjected to application processing with an immobilization agent.例文帳に追加

固定化剤塗布処理した基材（基板）表面に対して、プローブを含有する溶液の液滴をスポットする際、その液滴量に対するスポット径の微小化を可能とする手法の提供。 - 特許庁

To provide a nucleic acid brush that can flake a cell by nuclease, a method of manufacturing a cell culture substrate comprising the nucleic acid brush, and a novel method to flake a cell without using trypsin EDTA solution.例文帳に追加

ヌクレアーゼによって細胞を剥離しうる核酸ブラシ、核酸ブラシからなる細胞培養基材の製造方法と、トリプシン−ＥＤＴＡ溶液を用いない、新たな細胞の剥離方法を提供する。 - 特許庁

An impurity raw solution containing organic phosphorus compound as a conductivity type determining impurity and a solvent is applied on a semiconductor substrate 1, and a liquid impurity source layer 2 is formed and dried.例文帳に追加

半導体基板１上に導電型決定用不純物として有機リン化合物と溶媒とを含有する不純物減溶液を塗布して液状不純物源層２を形成し、これを乾燥させる。 - 特許庁

To provide a polymerizable liquid crystal composition that is excellent in stability in a solution state, shows a good applicability on a supporting substrate and has a uniform homeotropic alignment property.例文帳に追加

本発明は、溶液状態で安定性に優れ、支持基板上に良好な塗工性を示し、均一なホメオトロピック配向性を有する重合性液晶組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

A layer containing an organic compound is formed on a substrate under an inactive gas atmosphere by spraying a colloidal solution (also called as sol) in which aggregates of the organic compound are dispersed.例文帳に追加

本発明は、有機化合物の集合体を分散させたコロイド溶液（ゾルとも呼ぶ）を散布により不活性ガス雰囲気下で基板上に有機化合物を含む層を形成することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for electrolytic treatment that enable a uniform electrolytic treatment in a substrate plane without changing the thickness and the film type of a conductive layer, the electrolyte of a plating solution, and the like.例文帳に追加

導電層の厚みや膜種、めっき液の電解質等を変更することなく、基板面内における均一な電解処理を行えるようにした電解処理装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

A layer changed in properties is thereafter removed by using an alkaline solution (second surface treatment 5b) and the magnetic disk substrate is manufactured through a chemical strengthening treatment process step 6 and finishing cleaning process step 7.例文帳に追加

そしてその後、アルカリ性溶液を使用して変質層を除去し（第２の表面処理５ｂ）、化学強化処理工程６及び仕上げ洗浄工程７を経て磁気ディスク基板を製造する。 - 特許庁