| 例文 |
substrate solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2912件
A solution of a polyamic acid derived from an amic acid-forming compound of an aromatic diamine component consisting essentially of p- phenylenediamine and an aromatic tetracarboxylic acid consisting essentially of pyromellitic dianhydride is cast on a smooth substrate, immersed in a solution composed of a good solvent of the polyamic acid/a 1-6C alcohol and coagulated.例文帳に追加
パラフェニレンジアミンを主成分とする芳香族ジアミン成分とピロメリット酸二無水物を主成分とする芳香族テトラカルボン酸のアミド酸形成化合物から由来するポリアミド酸の溶液を平滑な基板上にキャストしポリアミド酸の良溶媒/炭素数1〜6のアルコールの溶液に浸漬させ、凝固させる。 - 特許庁
After a silicon wafer having the insulating film at the front surface thereof is uniformly sprayed with the Na_3Au(SO_3)_2 electrolytic solution discharged from a spray nozzle, the Pt electrode is soaked to the electrolytic solution, and a voltage is impressed across a silicon substrate and the Pt electrode to precipitate the Au particles of the diameter of 10 nm or less on the fault of insulating film.例文帳に追加
表面に絶縁膜を有するシリコンウエハにスプレーノズルによりNa_3Au(SO_3)_2電解液を均一に照射した後、Pt電極を電解液に浸し,シリコン基板とPt電極間に電圧を印加し,絶縁膜欠陥上に直径10nm以下のAu粒子を析出させる。 - 特許庁
In the circuit pattern forming method, a liquid discharge head for discharging liquid drops and a substrate 10 are relatively scanned two or more times; meanwhile, the liquid drops of a solution 11 for forming a conductive pattern and a solution 13 for forming an insulation pattern are discharged to draw a conductive pattern 11 and an insulation pattern 13 with a predetermined thickness in an overlapping manner.例文帳に追加
液滴を吐出する液体吐出ヘッドと基材10とを相対的に複数回走査させながら導電パターン形成用溶液11および絶縁パターン形成用溶液13の液滴を吐出して、所定の厚さの導電パターン11および絶縁パターン13をそれぞれ重ねて描画する。 - 特許庁
To provide a fluoropolymer expressing properties including low dielectric property and high transparency while maintaining high fluorine content and holding high adhesiveness for attaining its high solubility to an aqueous alkaline solution used as developing solution and an organic solvent, its high adhesiveness to a substrate and high film formability.例文帳に追加
低誘電性、高透明性を有し、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板への高密着性、高製膜性を達成するため、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体を提供する。 - 特許庁
To provide a system for efficiently atomizing and supplying a raw material solution of a very small amount in micro-plasma, and a technology for depositing reaction products and materials on a substrate by a CVD method, a PCVD thermal spraying method, a vapor deposition method or the like by utilizing micro-plasma from the raw solution.例文帳に追加
マイクロプラズマ中に極微量の溶液原料を効率的に霧化・供給させるシステム及びその溶液原料からマイクロプラズマを利用してCVD法、PCVD法溶射法、蒸着法等により、基板上に反応生成物や材料等をデポジション又は堆積させるための技術を提供する。 - 特許庁
A solution of an organometallic compound containing an oxide- forming metal element is used as a starting raw material and the solution is applied to a substrate, dried, calcined and subjected to main baking to form an oxide thin film.例文帳に追加
酸化物を形成し得る金属元素を含む有機金属化合物の溶液を出発原料とし、該溶液を基板上に塗布して乾燥した後、仮焼成を行い、次いで本焼成を行うことにより酸化物薄膜を成膜するに際し、前記仮焼成を、前記有機金属化合物に対して不活性である雰囲気下で行う。 - 特許庁
The method for manufacturing the liquid crystal display element is provided with steps: to prepare inkjet equipment on which a mixed solution of a BM resin and the ball spacers is placed; and to simultaneously form the BM layers and the ball spacers by applying the mixed solution to predetermined regions on the substrate by using the inkjet equipment.例文帳に追加
BMレジンとボールスペーサ混合溶液が装着されたインクジェット装備を用意する工程と、前記インクジェット装備を用いて基板上の所定領域に前記混合溶液を塗布してBM層及びボールスペーサを同時に形成する工程と、を備えてなる液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The tannin-containing porous material is prepared by dissolving tannin in a solvent consisting of an alcohol or an aqueous alcohol solution, causing the resultant tannin solution to be absorbed by a porous substrate having hydroxyl groups on the inside surface of fine pores, and eliminating the solvent by heating, thus chemically bonding tannin with hydroxyl groups.例文帳に追加
本発明のタンニン含有多孔質体は、アルコールまたはアルコール水溶液を溶媒として、この溶媒にタンニンを溶解してなるタンニン溶液を、細孔内表面に水酸基を有する多孔質基材に吸収させた後、加熱によって溶媒を除去することにより、タンニンと水酸基とを化学結合させたものである。 - 特許庁
A sample solution containing a peroxide is dripped on the peroxide measuring sensor wherein a membrane consisting of a polymer composition containing a peroxide measuring reagent having a diphenylphosphinic skeleton is formed on a substrate and the fluorescence intensity of the sample solution is detected or measured to detect or measure the peroxide.例文帳に追加
基板上に、ジフェニルホスフィン骨格を有する過酸化物測定試薬を含有する高分子組成物からなる薄膜が形成された過酸化物測定用センサーを用い、該センサー上に、過酸化物を含有する試料液を滴下し、蛍光強度を検出又は測定することにより、過酸化物を検出又は測定する。 - 特許庁
To provide a poly(meth)acrylic acid partially neutralized product characterized by giving very little insoluble ingredients in its aqueous solution and very low viscosity of its aqueous solution and having small change with the lapse of time, and useful for a dispersant of various pigments and the like, a scale suppressor, a cleansing builder, a thickener, a binder, a medicinal substrate for fomentations and poultices, and the like.例文帳に追加
水溶液での不溶解分が極めて少なく、水溶液における粘度が低く、また、経時変化も小さいという特徴を有し、各種顔料等の分散剤、スケール抑制剤、洗浄用ビルダー、増粘剤、バインダー、医薬用の湿布剤やハップ剤の基剤などに有用なポリ(メタ)アクリル酸部分中和物を提供する。 - 特許庁
The method comprises forming a film on a substrate by using a photosetting/thermosetting composition containing no hardening catalyst, exposing and developing to form a film pattern and is characterized in that the developing method is carried out by using an aqueous solution of a basic hardening catalyst for promoting the thermosetting reaction as a developer solution.例文帳に追加
硬化触媒を含有しない光硬化性・熱硬化性組成物を用いて基材上に形成した皮膜を露光、現像して皮膜パターンを形成する方法であって、その現像方法が、熱硬化反応促進用の塩基性硬化触媒の水溶液を現像液として用いることを特徴としている。 - 特許庁
To provide a cell culture substrate having an uncrosslinked polymer contained in the substrate and having a lower limit critical solution temperature, further, which cell culture substrate is rapid in change from hydrophobic one to hydrophilic one relative to the environmental temperature and especially can separate and recover from the culture substrate the macrophage cells differentiated from human peripheral blood monocyte cells, without damaging surface antigen of the cells and at a high yield.例文帳に追加
基材中に含まれる下限臨界溶解温度を有する重合体が架橋していない細胞培養基材であり、更に、環境温度に対する疎水性と親水性の変化が敏速で、特にヒトの末梢血単球細胞より分化させたマクロファージ細胞を、培養基材から、細胞の表面抗原を損傷することなく、かつ高い回収率で剥離回収できることを特徴とする細胞培養基材を提供する。 - 特許庁
In the electrophotographic elastic member having at least a fluoroelastomer surface layer formed by solution coating on a substrate comprising silicone rubber, between the silicone rubber substrate reactive with an organic peroxide and the fluoroelastomer surface layer formed as an elastic body by organic peroxide crosslinking, a layer for blocking penetration of the organic peroxide into the silicone rubber substrate is disposed.例文帳に追加
シリコーンゴムからなる基層上に少なくとも溶液コーティングによって形成されたフルオロエラストマー表層を有する電子写真用弾性部材において、有機過酸化物反応性シリコーンゴム基層と、有機過酸化物架橋により弾性体として形成されるフルオロエラストマー表層の間に、シリコーンゴム基層への有機過酸化物侵入阻止層を設けた電子写真用弾性部材。 - 特許庁
The method includes: a first process of forming a resist pattern 3 on a substrate 1; a second process of irradiating the substrate 1 with UV rays while heating in an inert gas and nitrogen atmosphere or of immersing the substrate in an alkali solution while heating; a third process of implanting ions; and a fourth process of stripping the resist pattern 3.例文帳に追加
基板1上にレジストパターン3を形成する第1の工程の後に、不活性ガスおよび窒素雰囲気下で加熱しながら基板1を紫外線照射するか、もしくは基板1を加熱しながらアルカリ溶液に浸漬する第2の工程を実施し、その後イオン注入の処理を行う第3の工程を実施し、最後にレジストパターン3を除去する第4の工程を実施する。 - 特許庁
The defect and a metallic silicide on the surface of the semiconductor substrate are detected by immersing the polished semiconductor substrate in a mixed solution of the water of a hydrogen peroxide (3 to 6 mass%), a hydrofluoric acid (5 to 10 mass%), and a hydrochloric acid (3 to 6 mass%) to visually detect bubble generation on the surface of the semiconductor substrate, and to photograph the bubble generation status by a camera.例文帳に追加
ポリッシュ後等の半導体基板を過酸化水素(3〜6質量%)、フッ化水素酸(5〜10質量%)と塩酸(3〜6質量%)の混合水溶液に浸漬して、前記半導体基板の表面における気泡発生を視覚的に検出し、かつ、その気泡発生状況をカメラを用いて撮影することによって半導体基板表面の欠陥や金属シリサイドを検出する。 - 特許庁
A method for attaching carbon nanotubes having guanidine groups formed thereon to a substrate comprises a step for coating the substrate with a crown ether-having polymer, a step for drying the crown ether-having polymer layer coated on the substrate in a semi-dry state, and a step for coating the semi-dry polymer layer with a solution containing the carbon nanotubes having the guanidine groups formed thereon.例文帳に追加
クラウンエーテルを有する重合体を基板にコーティングする段階; 基板にコーティングされたクラウンエーテルを有する重合体層を半乾燥状態に乾燥させる段階;及び、グアニジン基の形成されたカーボンナノチューブを含む溶液を上記半乾燥状態の重合体層にコーティングする段階を含む、グアニジン基の形成されたカーボンナノチューブを基板に付着する方法を提供する。 - 特許庁
A method of manufacturing a semiconductor substrate comprises: a sandblasting step of performing surface treatment by sandblasting on a first surface of a silicon substrate in an as-sliced state, fabricated by slicing a silicon ingot; and a step of performing surface treatment on the silicon substrate using an etching solution containing either or both of hydrofluoric acid and nitric acid after the sandblasting step.例文帳に追加
本発明の半導体基板の作製方法は、シリコンインゴットをスライスすることにより作製されたアズスライス状態のシリコン基板の第一の面に対して、サンドブラスト処理による表面処理を行うサンドブラスト工程と、前記サンドブラスト工程の後に、前記シリコン基板に対して、フッ酸、硝酸のいずれか1つ以上を含むエッチング溶液による表面処理を行う工程と、を含む。 - 特許庁
This method for polyester substrate production is characterized in that in a method for polyester substrate production with which at least one side of a polyester substrate being continuously transported is coated with an antistatic layer, a coating solution constituting the antistatic layer contains a nonionic surfactant, has pH 4.5-6.5 and contains at least one kind of a vinylsulfone-based hardening agent and an epoxy-based hardening agent.例文帳に追加
連続搬送されるポリエステル支持体上の少なくとも片面に、帯電防止層を塗布するポリエステル支持体の製造方法において、該帯電防止層を構成する塗布液がノニオン界面活性剤を含有し、かつ塗布液pHが4.5〜6.5であり、かつビニルスルホン系硬膜剤、エポキシ系硬膜剤の少くとも1種を含有することを特徴とするポリエステル支持体の製造方法。 - 特許庁
This organic electronic device is manufactured by using: a first process for forming a polymer film from a polymer solution on a first surface of the substrate by casting; a second process for reducing the thickness of the substrate by etching a second surface located on the back side of the first surface of the substrate; and a third process for forming the organic electronic device on the surface of the polymer film formed by casting.例文帳に追加
基板の第一の表面上に高分子溶液から高分子膜をキャスティング成膜する第一工程と、基板の第一の表面の裏側にある第二の表面をエッチングして基板の厚みを薄くする第二工程と、キャスティング成膜した高分子膜の表面に有機電子デバイスを形成する第三工程を用いて有機電子デバイスを製造することとした。 - 特許庁
The method for manufacturing the substrate used for the preparation of the microarray includes at least the step of forming the monomolecular membrane having the oxiranyl groups oriented on its surface side on the substrate and the step of allowing a solution containing diamine compound to act on the oxiranyl groups to form a monomolecular membrane having amino groups oriented on its surface side on the substrate.例文帳に追加
マイクロアレイ作製用基板の製造方法であって、少なくとも、表面側にオキシラニル基が配向した単分子膜を基板上に形成する工程と、該オキシラニル基にジアミン化合物を含む溶液を作用させて表面側にアミノ基が配向した単分子膜を基板上に形成する工程とを含むことを特徴とするマイクロアレイ作製用基板の製造方法。 - 特許庁
In addition, the method also has a process of forming a pattern to be a wiring precursor on the substrate using the metal-nanoparticle paste including the coated metal-nanoparticle and the disperse solvent, a process of acting the polar solvent solution including the polar solvent or the dissolution aid to the pattern on the substrate, and a process of drying the substrate to sinter the metal-nanoparticle and to form the wiring.例文帳に追加
また、被覆された金属ナノ粒子と分散溶媒とを含む金属ナノ粒子ペーストを用いて、配線前駆体となるパターンを基板上に形成する工程と、前記基板上のパターンに、極性溶媒または溶解補助剤を含む極性溶媒溶液を作用させる工程と、前記基板を乾燥させて前記金属ナノ粒子を焼結させ、配線を形成する工程とを含む。 - 特許庁
To provide an image forming material having no unevenness in coating, a smooth coated surface, a uniform layer thickness and no irregular color, free of foaming and excellent in defoaming property, solubility in a developing solution and adhesiveness to a glass substrate.例文帳に追加
塗布ムラがなく塗布面が平滑で、層厚が均一で色ムラがなく、発泡がなく消泡性に優れ、現像液溶解性に優れかつガラス基板接着性に優れる画像形成材料を提供する - 特許庁
To provide a method capable of applying a dichroic dye-containing solution uniformly even on a substrate having a rugged surface, and simply and highly precisely manufacturing a dichroic polarizing element having excellent polarization characteristics.例文帳に追加
凹凸面を有する基材に対しても二色性色素含有溶液の均一な塗布を可能とし、優れた偏光特性を有する二色性偏光素子を簡易且つ高精度に製造できる方法を提供する。 - 特許庁
The method for arraying nano-materials includes steps of coating a substrate with a dispersion solution in which nano-materials are dispersed, and arraying the nano-materials in a fixed direction using a charged conductive body.例文帳に追加
本発明によるナノ物質配列方法は、ナノ物質が含まれた分散溶液を基板上にコーティングする段階と、帯電された導体部を用いて、前記ナノ物質を一定の方向に配列する段階と、を含む。 - 特許庁
To provide a manufacturing apparatus for a superconductor precursor film enabling coating of superconductor precursor solution on a linear substrate with high uniformity and stability and to provide a manufacturing method for the superconductor precursor film.例文帳に追加
線状基板上に超電導材前躯体溶液を、高い均一性、安定性で塗布することができる超電導材前躯体膜の製造装置及び超電導材前躯体膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
A heater 9 of a resistance heating type is provided around the outer periphery of a processing chamber 3 to heat an atmosphere within the chamber 3 and to increase the temperature of the entire semiconductor substrate 1 to a level nearly corresponding to the temperature (HF: 50°C) of the chemical solution.例文帳に追加
処理チャンバー3の外周に抵抗加熱方式のヒーター9を配置し、処理チャンバー3内の雰囲気を熱し、半導体基板1全体を薬液温度(HF:50℃)と同じ50℃相当にまで上昇させる。 - 特許庁
Next, sodium hypochlorite aqueous solution is injected into and mixed with the sludge having a sludge concentration of 2,000 to 26,000 mg/L so as to set an effective chlorine concentration to 300 to 1,600 mg/l, thereby converting the sludge to a substrate.例文帳に追加
次いで、汚泥濃度2000〜26000mg/Lの汚泥に対して、有効塩素濃度を300〜1600mg/Lになるように次亜塩素酸ナトリウム水溶液を注入して攪拌し、汚泥を基質化する。 - 特許庁
Then, the treatment solution obtained in Step S1 is acetic acid-fermented as a substrate using Clostridium thermoaceticum as an anaerobic microorganism in the presence of cysteine HCL H_2O at a concentration of 0.05 to 0.1 g/L (Step S2).例文帳に追加
そして、このステップS1により得られた処理液を基質とし、嫌気性微生物であるClostridium thermoaceticumを使用して、Cysteine・HCl・H_2O添加量を0.05〜0.1g/Lにして、酢酸発酵する(ステップS2)。 - 特許庁
(2) The method for forming the transparent conductive film contains a process in which the solution dissolving the (1) composition into solvent of water or composed of the water and organic solvent is applied on a substrate, and a process in which the applied film is baked.例文帳に追加
▲2▼ ▲1▼の組成物を水又は水と有機溶媒からなる溶媒に溶解させた溶液を基板上に塗布する工程と、塗布膜を焼成する工程とを含む透明導電膜の形成方法。 - 特許庁
To provide a curable resin composition useful for an insulating resin layer in a package substrate or a surface mounting type light emitting diode, excellent in thermal conductivity and moisture resistance, and easily developable with a dilute alkaline aqueous solution.例文帳に追加
パッケージ基板や表面実装型発光ダイオードにおける樹脂絶縁層などに有用な熱伝導性、耐湿性に優れ、希アルカリ水溶液により容易に現像可能な硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist remover which ensures a short removal time, does not leave residue and makes it possible to use a resist excellent in adhesiveness to a metallic substrate, etching solution resistance, heat resistance and bending resistance.例文帳に追加
剥離時間が短くかつ残渣のないレジスト用剥離液を目的とするもので、残渣の問題を伴うことなく、金属基材との接着性、耐エッチング液性、耐熱性、耐屈曲性に優れたレジストの使用を可能ならしめる。 - 特許庁
At this time, if an on-off valve 7 is closed, the development solution supplied into the slit nozzle 6 flows down from a slit like discharge port 6d to the lower part in a state like a curtain and is supplied to the surface of a substrate to be treated.例文帳に追加
このとき開閉弁7を閉じておくと、スリットノズル6内に供給された現像液はスリット状吐出口6dからカーテン状になって下方に流下し、被処理基板Wの表面に供給される。 - 特許庁
Further, when the article deposited with the silver-copper alloy nanofine particles on the substrate is immersed into an ascorbic acid aqueous solution, it is sintered within 10 min even at a low temperature of 80°C, and is changed into a sintered film exhibiting satisfactory electric conductivity.例文帳に追加
更には、この基板上の銀銅合金ナノ微粒子からなる被着物はアスコルビン酸水溶液に浸すと80℃の低温でも10分以内で焼結し、良好な導電性を示す焼結膜に変化した。 - 特許庁
Calcium deficient carbonated hydroxyapatite (HAp) coating is developed on the metal substrate, particularly the stainless steel (316L) alloy through the biomimetic route after a surface treatment step using an aqueous solution of (4-10 wt.%) of BSA (bovine serum albumin) at room temperature.例文帳に追加
室温にてBSAの水溶液(4〜10wt%)を用いる表面処理工程後、バイオミメティック経路を通じて、金属基材、特にステンレススチール(316L)合金上にカルシウム欠乏性の炭酸化ヒドロキシアパタイト(HAp)コーティングを発達させる。 - 特許庁
To provide a polishing solution for a metal capable of polishing the metal at high polishing speed, having good copper/tantalum polishing selectivity, scarcely giving rise to dishing, and capable of giving a substrate excellent in planarity.例文帳に追加
迅速な研磨速度で金属を研磨することができ、良好な銅/タンタル研磨選択性を有し、ディッシングを発生させることが少なく、平坦性に優れる基板を与えうる金属用研磨液の提供。 - 特許庁
To provide a schedule preparation method for a substrate treatment apparatus by which an efficient scheduling can be performed even in the consideration of the deterioration of treatment solution by referring to a plurality of preliminarily set treatment time.例文帳に追加
、予め設定した複数の処理時間を参照することにより、処理液の劣化等を考慮した場合であっても効率的なスケジューリングを行うことができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。 - 特許庁
(2) The method for producing the hydrophilization-treated substrate comprises a step of coating the hydrophobic material with the hydrophilic polymer having the plurality of hydroxy groups and a step of dipping the resultant hydrophobic material in a dehydration condensing agent solution.例文帳に追加
(2)疎水性材料を複数の水酸基を有する親水性高分子でコーティングする工程、前記疎水性材料を脱水縮合剤溶液に浸漬する工程、を含む親水化処理基材の製造方法。 - 特許庁
To provide a coating method and a coating device of high coating performance, capable of surely applying even a small amount of pigment coating solution on a substrate when a pigment is spin-coated on an optical recording medium (optical disk).例文帳に追加
光記録媒体(光ディスク)に色素をスピンコーティングするに際し、少量の色素塗布液であっても確実に基板に塗り着くことのできる高塗りつき性の塗布方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
This method comprises coating a substrate 155 with a lubricant solution S≥3,000 cP in viscosity comprising a solid lubricant, a thermosetting resin and a solvent to form a lubricant film F which is then heated and cured to form the objective lubricant film F.例文帳に追加
固体潤滑剤、熱硬化性樹脂、溶剤を含む、粘度が3,000cP以上の潤滑剤溶液Sを基材上155に塗布して潤滑皮膜Fを形成した後、該潤滑皮膜Fを加熱し硬化させる。 - 特許庁
The substrate is manufactured by removing a support after applying solution containing the liquid crystal polyester and solvent on the extremely thin copper foil of ≤5 μm fixed on the support and by removing the solvent.例文帳に追加
当該基板は、支持体上に固定された厚さ5μm以下の極薄銅箔上に液晶ポリエステルと溶媒とを含有する溶液を塗布し、溶媒を除去した後、支持体を除去することで製造される。 - 特許庁
Then, a substrate (a nonwoven fabric 11) having structure in which a first and a second fibers 111 and 112 comprising a polymer material are entangled and a basis weight of 200 g/m^2 or less is impregnated with the sol solution obtained.例文帳に追加
そして、得られたゾル溶液を高分子材料からなる第1及び第2の繊維体111,112が絡みあった構造を有する目付量200g/m^2以下の基材(不織布11)に含浸させる。 - 特許庁
A plurality of metal nanoparticle layers, layers each made of a plurality of types of difference metal nanoparticles and formed by deposition from a solution containing each metal, are formed into desired patterns in the substrate.例文帳に追加
基板は、複数種類の異なる金属のナノ粒子からそれぞれ形成された層であって、各金属を含む溶液からの析出により形成された複数の金属ナノ粒子層が所望のパターンで形成されている。 - 特許庁
Thereby, the SOG solution layer 2 is changed into a diffraction pattern layer 12 having a rugged surface complementary to the rugged surface of the mother mold 1 and a composite material 10 made by adhering the diffraction pattern layer 12 onto the substrate 3 is provided.例文帳に追加
これにより該SOG溶液層2が該母型1の凹凸面と相補的な凹凸面を有する回折パターン層12へと変化するとともに、該回折パターン層12が該基板3に固着した複合体10を得る。 - 特許庁
After the TiN film 16 is removed, an H_2SO_4 solution is used, for example, to clean the silicon substrate 1 so that the respective etching rates of the tungsten and Co silicide layer 17 become 0.3 nm/min or lower.例文帳に追加
TiN膜16を除去した後、タングステン及びCoシリサイド層17のそれぞれのエッチングレートが0.3nm/分以下となるように、シリコン基板1に対して例えばH_2SO_4溶液を用い洗浄を行なう。 - 特許庁
To provide a polishing solution with which a polyimide film on a semiconductor substrate is polished fast while damage such as a scratch is suppressed to achieve high flatness after the polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加
半導体基板上のポリイミド膜を、スクラッチなどの傷の発生を抑制しつつ、高速で研磨することができ、研磨後の高い平坦性を達成しうる研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁
As shown in Figs. 6 (a) to 6 (d), one of the plurality of (four) supply pipes are selectively switched, to supply a treatment solution to the substrate W.例文帳に追加
図6(a)から(d)に示すように、これらの複数(4つ)の供給管のうちいずれの供給管を用いて処理液の供給を行うかを選択的に切り換えて、処理液を基板Wに対して供給する。 - 特許庁
To provide an electrolysis method which maintains the purity of an electrolytic solution produced when electrolyzing an electroconductive treatment liquid for treating the surface of a substrate, and besides electrolyzes the liquid in situ, and to provide an electrolysis apparatus therefor.例文帳に追加
基板の表面を処理する導電性処理液を電解するに際し、生成される電解液の純度を維持すると同時にインサイチュで電解することが可能な電解方法および電解装置を提供する。 - 特許庁
The etching solution contains alkali cyanide and an oxidizer, and is used in manufacturing a reflective electrode for a reflection type liquid crystal device having a silver-based thin film containing gold formed on a substrate.例文帳に追加
シアン化アルカリと酸化剤とを含有することを特徴とする、基板上に形成された金含有の銀系薄膜からなる反射型液晶表示装置用反射電極の製造に使用するためのエッチング液。 - 特許庁
An organic compound membrane is formed on a substrate in an inert gas atmosphere by spray injection employing a colloidal solution (called a sol) in which an aggregate of an organic compound is dispersed.例文帳に追加
本発明は、有機化合物の集合体を分散させたコロイド溶液(ゾルとも呼ぶ)を用いたスプレー噴射により不活性ガス雰囲気下で基板上に有機化合物膜を形成することを特徴としている。 - 特許庁
Next, a raw material solution 8 comprising Ga as a raw material metal and Na as a flux and nitrogen as a raw material gas are brought into contact with each other on the nitrided sapphire substrate 7 to grow a GaN crystal thereon.例文帳に追加
次に、窒化処理されたサファイア基板7の上において、原料金属であるGaと、フラックスであるNaからなる原料液8と原料ガスである窒素とを接触させて、GaN結晶を成長させる。 - 特許庁
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