「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

In the micro-plasma deposition method, in the upstream side or in the middle of a micro-plasma gas supply line, the raw material solution is supplied in a direction substantially orthogonal to the line, the solution is reacted, decomposed or atomized by micro-plasma, and reaction products or particles are deposited on a substrate installed on the downstream side of micro-plasma.例文帳に追加

マイクロプラズマガス供給ラインの上流又は途中において、同ラインとほぼ直交するように液体を供給し、該液体をマイクロプラズマにより反応、分解又は霧化させ、マイクロプラズマ下流に設置した基体上に反応生成物又は微粒子をデポジットさせることを特徴とするマイクロプラズマデポジション方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display element is provided with steps: to prepare inkjet equipment on which a mixed solution of a BM resin and the ball spacers is placed; and to simultaneously form the BM layers and the ball spacers by applying the mixed solution to predetermined regions on the substrate by using the inkjet equipment.例文帳に追加

ＢＭレジンとボールスペーサ混合溶液が装着されたインクジェット装備を用意する工程と、前記インクジェット装備を用いて基板上の所定領域に前記混合溶液を塗布してＢＭ層及びボールスペーサを同時に形成する工程と、を備えてなる液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The tannin-containing porous material is prepared by dissolving tannin in a solvent consisting of an alcohol or an aqueous alcohol solution, causing the resultant tannin solution to be absorbed by a porous substrate having hydroxyl groups on the inside surface of fine pores, and eliminating the solvent by heating, thus chemically bonding tannin with hydroxyl groups.例文帳に追加

本発明のタンニン含有多孔質体は、アルコールまたはアルコール水溶液を溶媒として、この溶媒にタンニンを溶解してなるタンニン溶液を、細孔内表面に水酸基を有する多孔質基材に吸収させた後、加熱によって溶媒を除去することにより、タンニンと水酸基とを化学結合させたものである。 - 特許庁

A sample solution containing a peroxide is dripped on the peroxide measuring sensor wherein a membrane consisting of a polymer composition containing a peroxide measuring reagent having a diphenylphosphinic skeleton is formed on a substrate and the fluorescence intensity of the sample solution is detected or measured to detect or measure the peroxide.例文帳に追加

基板上に、ジフェニルホスフィン骨格を有する過酸化物測定試薬を含有する高分子組成物からなる薄膜が形成された過酸化物測定用センサーを用い、該センサー上に、過酸化物を含有する試料液を滴下し、蛍光強度を検出又は測定することにより、過酸化物を検出又は測定する。 - 特許庁

To provide a poly(meth)acrylic acid partially neutralized product characterized by giving very little insoluble ingredients in its aqueous solution and very low viscosity of its aqueous solution and having small change with the lapse of time, and useful for a dispersant of various pigments and the like, a scale suppressor, a cleansing builder, a thickener, a binder, a medicinal substrate for fomentations and poultices, and the like.例文帳に追加

水溶液での不溶解分が極めて少なく、水溶液における粘度が低く、また、経時変化も小さいという特徴を有し、各種顔料等の分散剤、スケール抑制剤、洗浄用ビルダー、増粘剤、バインダー、医薬用の湿布剤やハップ剤の基剤などに有用なポリ（メタ）アクリル酸部分中和物を提供する。 - 特許庁

The method comprises forming a film on a substrate by using a photosetting/thermosetting composition containing no hardening catalyst, exposing and developing to form a film pattern and is characterized in that the developing method is carried out by using an aqueous solution of a basic hardening catalyst for promoting the thermosetting reaction as a developer solution.例文帳に追加

硬化触媒を含有しない光硬化性・熱硬化性組成物を用いて基材上に形成した皮膜を露光、現像して皮膜パターンを形成する方法であって、その現像方法が、熱硬化反応促進用の塩基性硬化触媒の水溶液を現像液として用いることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a cell culture substrate having an uncrosslinked polymer contained in the substrate and having a lower limit critical solution temperature, further, which cell culture substrate is rapid in change from hydrophobic one to hydrophilic one relative to the environmental temperature and especially can separate and recover from the culture substrate the macrophage cells differentiated from human peripheral blood monocyte cells, without damaging surface antigen of the cells and at a high yield.例文帳に追加

基材中に含まれる下限臨界溶解温度を有する重合体が架橋していない細胞培養基材であり、更に、環境温度に対する疎水性と親水性の変化が敏速で、特にヒトの末梢血単球細胞より分化させたマクロファージ細胞を、培養基材から、細胞の表面抗原を損傷することなく、かつ高い回収率で剥離回収できることを特徴とする細胞培養基材を提供する。 - 特許庁

In the electrophotographic elastic member having at least a fluoroelastomer surface layer formed by solution coating on a substrate comprising silicone rubber, between the silicone rubber substrate reactive with an organic peroxide and the fluoroelastomer surface layer formed as an elastic body by organic peroxide crosslinking, a layer for blocking penetration of the organic peroxide into the silicone rubber substrate is disposed.例文帳に追加

シリコーンゴムからなる基層上に少なくとも溶液コーティングによって形成されたフルオロエラストマー表層を有する電子写真用弾性部材において、有機過酸化物反応性シリコーンゴム基層と、有機過酸化物架橋により弾性体として形成されるフルオロエラストマー表層の間に、シリコーンゴム基層への有機過酸化物侵入阻止層を設けた電子写真用弾性部材。 - 特許庁

This method for polyester substrate production is characterized in that in a method for polyester substrate production with which at least one side of a polyester substrate being continuously transported is coated with an antistatic layer, a coating solution constituting the antistatic layer contains a nonionic surfactant, has pH 4.5-6.5 and contains at least one kind of a vinylsulfone-based hardening agent and an epoxy-based hardening agent.例文帳に追加

連続搬送されるポリエステル支持体上の少なくとも片面に、帯電防止層を塗布するポリエステル支持体の製造方法において、該帯電防止層を構成する塗布液がノニオン界面活性剤を含有し、かつ塗布液ｐＨが４．５〜６．５であり、かつビニルスルホン系硬膜剤、エポキシ系硬膜剤の少くとも１種を含有することを特徴とするポリエステル支持体の製造方法。 - 特許庁

This organic electronic device is manufactured by using: a first process for forming a polymer film from a polymer solution on a first surface of the substrate by casting; a second process for reducing the thickness of the substrate by etching a second surface located on the back side of the first surface of the substrate; and a third process for forming the organic electronic device on the surface of the polymer film formed by casting.例文帳に追加

基板の第一の表面上に高分子溶液から高分子膜をキャスティング成膜する第一工程と、基板の第一の表面の裏側にある第二の表面をエッチングして基板の厚みを薄くする第二工程と、キャスティング成膜した高分子膜の表面に有機電子デバイスを形成する第三工程を用いて有機電子デバイスを製造することとした。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor substrate comprises: a sandblasting step of performing surface treatment by sandblasting on a first surface of a silicon substrate in an as-sliced state, fabricated by slicing a silicon ingot; and a step of performing surface treatment on the silicon substrate using an etching solution containing either or both of hydrofluoric acid and nitric acid after the sandblasting step.例文帳に追加

本発明の半導体基板の作製方法は、シリコンインゴットをスライスすることにより作製されたアズスライス状態のシリコン基板の第一の面に対して、サンドブラスト処理による表面処理を行うサンドブラスト工程と、前記サンドブラスト工程の後に、前記シリコン基板に対して、フッ酸、硝酸のいずれか１つ以上を含むエッチング溶液による表面処理を行う工程と、を含む。 - 特許庁

A method for attaching carbon nanotubes having guanidine groups formed thereon to a substrate comprises a step for coating the substrate with a crown ether-having polymer, a step for drying the crown ether-having polymer layer coated on the substrate in a semi-dry state, and a step for coating the semi-dry polymer layer with a solution containing the carbon nanotubes having the guanidine groups formed thereon.例文帳に追加

クラウンエーテルを有する重合体を基板にコーティングする段階; 基板にコーティングされたクラウンエーテルを有する重合体層を半乾燥状態に乾燥させる段階;及び、グアニジン基の形成されたカーボンナノチューブを含む溶液を上記半乾燥状態の重合体層にコーティングする段階を含む、グアニジン基の形成されたカーボンナノチューブを基板に付着する方法を提供する。 - 特許庁

The method includes: a first process of forming a resist pattern 3 on a substrate 1; a second process of irradiating the substrate 1 with UV rays while heating in an inert gas and nitrogen atmosphere or of immersing the substrate in an alkali solution while heating; a third process of implanting ions; and a fourth process of stripping the resist pattern 3.例文帳に追加

基板１上にレジストパターン３を形成する第１の工程の後に、不活性ガスおよび窒素雰囲気下で加熱しながら基板１を紫外線照射するか、もしくは基板１を加熱しながらアルカリ溶液に浸漬する第２の工程を実施し、その後イオン注入の処理を行う第３の工程を実施し、最後にレジストパターン３を除去する第４の工程を実施する。 - 特許庁

The defect and a metallic silicide on the surface of the semiconductor substrate are detected by immersing the polished semiconductor substrate in a mixed solution of the water of a hydrogen peroxide (3 to 6 mass%), a hydrofluoric acid (5 to 10 mass%), and a hydrochloric acid (3 to 6 mass%) to visually detect bubble generation on the surface of the semiconductor substrate, and to photograph the bubble generation status by a camera.例文帳に追加

ポリッシュ後等の半導体基板を過酸化水素（３〜６質量％）、フッ化水素酸（５〜１０質量％）と塩酸（３〜６質量％）の混合水溶液に浸漬して、前記半導体基板の表面における気泡発生を視覚的に検出し、かつ、その気泡発生状況をカメラを用いて撮影することによって半導体基板表面の欠陥や金属シリサイドを検出する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate used for the preparation of the microarray includes at least the step of forming the monomolecular membrane having the oxiranyl groups oriented on its surface side on the substrate and the step of allowing a solution containing diamine compound to act on the oxiranyl groups to form a monomolecular membrane having amino groups oriented on its surface side on the substrate.例文帳に追加

マイクロアレイ作製用基板の製造方法であって、少なくとも、表面側にオキシラニル基が配向した単分子膜を基板上に形成する工程と、該オキシラニル基にジアミン化合物を含む溶液を作用させて表面側にアミノ基が配向した単分子膜を基板上に形成する工程とを含むことを特徴とするマイクロアレイ作製用基板の製造方法。 - 特許庁

In addition, the method also has a process of forming a pattern to be a wiring precursor on the substrate using the metal-nanoparticle paste including the coated metal-nanoparticle and the disperse solvent, a process of acting the polar solvent solution including the polar solvent or the dissolution aid to the pattern on the substrate, and a process of drying the substrate to sinter the metal-nanoparticle and to form the wiring.例文帳に追加

また、被覆された金属ナノ粒子と分散溶媒とを含む金属ナノ粒子ペーストを用いて、配線前駆体となるパターンを基板上に形成する工程と、前記基板上のパターンに、極性溶媒または溶解補助剤を含む極性溶媒溶液を作用させる工程と、前記基板を乾燥させて前記金属ナノ粒子を焼結させ、配線を形成する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of suppressing a generation of striation without any need of adding a new component to a dropping polymer solution when a thin film is formed on a substrate by a spin coat method, furthermore with a simple operation.例文帳に追加

スピンコート法により基板上に薄膜を形成するに際し、滴下する高分子溶液に新たな成分を添加する必要がなく、しかも簡易な操作でストリエーションの発生を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition useful for an insulating resin layer in a package substrate or a surface mounting type light emitting diode, excellent in thermal conductivity and moisture resistance, and easily developable with a dilute alkaline aqueous solution.例文帳に追加

パッケージ基板や表面実装型発光ダイオードにおける樹脂絶縁層などに有用な熱伝導性、耐湿性に優れ、希アルカリ水溶液により容易に現像可能な硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist remover which ensures a short removal time, does not leave residue and makes it possible to use a resist excellent in adhesiveness to a metallic substrate, etching solution resistance, heat resistance and bending resistance.例文帳に追加

剥離時間が短くかつ残渣のないレジスト用剥離液を目的とするもので、残渣の問題を伴うことなく、金属基材との接着性、耐エッチング液性、耐熱性、耐屈曲性に優れたレジストの使用を可能ならしめる。 - 特許庁

(2) The method for forming the transparent conductive film contains a process in which the solution dissolving the (1) composition into solvent of water or composed of the water and organic solvent is applied on a substrate, and a process in which the applied film is baked.例文帳に追加

▲２▼ ▲１▼の組成物を水又は水と有機溶媒からなる溶媒に溶解させた溶液を基板上に塗布する工程と、塗布膜を焼成する工程とを含む透明導電膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a method of producing a PZT thin film capable of making sufficient ionization of Ti on the surface of the substrate in a mixed alkaline aqueous solution in the beginning of hydrothermal synthesis, and to provide a PZT structure obtained by the method.例文帳に追加

水熱合成を始める際の混合アルカリ水溶液中におけるＴｉのイオン化を充分に行なうことができるＰＺＴ薄膜の製法およびそれにより得られたＰＺＴ構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing solution for a metal capable of polishing the metal at high polishing speed, having good copper/tantalum polishing selectivity, scarcely giving rise to dishing, and capable of giving a substrate excellent in planarity.例文帳に追加

迅速な研磨速度で金属を研磨することができ、良好な銅／タンタル研磨選択性を有し、ディッシングを発生させることが少なく、平坦性に優れる基板を与えうる金属用研磨液の提供。 - 特許庁

To provide a schedule preparation method for a substrate treatment apparatus by which an efficient scheduling can be performed even in the consideration of the deterioration of treatment solution by referring to a plurality of preliminarily set treatment time.例文帳に追加

、予め設定した複数の処理時間を参照することにより、処理液の劣化等を考慮した場合であっても効率的なスケジューリングを行うことができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises coating a substrate 155 with a lubricant solution S≥3,000 cP in viscosity comprising a solid lubricant, a thermosetting resin and a solvent to form a lubricant film F which is then heated and cured to form the objective lubricant film F.例文帳に追加

固体潤滑剤、熱硬化性樹脂、溶剤を含む、粘度が３，０００ｃＰ以上の潤滑剤溶液Ｓを基材上１５５に塗布して潤滑皮膜Ｆを形成した後、該潤滑皮膜Ｆを加熱し硬化させる。 - 特許庁

Calcium deficient carbonated hydroxyapatite (HAp) coating is developed on the metal substrate, particularly the stainless steel (316L) alloy through the biomimetic route after a surface treatment step using an aqueous solution of (4-10 wt.%) of BSA (bovine serum albumin) at room temperature.例文帳に追加

室温にてBSAの水溶液(4〜10wt%)を用いる表面処理工程後、バイオミメティック経路を通じて、金属基材、特にステンレススチール(316L)合金上にカルシウム欠乏性の炭酸化ヒドロキシアパタイト(HAp)コーティングを発達させる。 - 特許庁

(2) The method for producing the hydrophilization-treated substrate comprises a step of coating the hydrophobic material with the hydrophilic polymer having the plurality of hydroxy groups and a step of dipping the resultant hydrophobic material in a dehydration condensing agent solution.例文帳に追加

（２）疎水性材料を複数の水酸基を有する親水性高分子でコーティングする工程、前記疎水性材料を脱水縮合剤溶液に浸漬する工程、を含む親水化処理基材の製造方法。 - 特許庁

The substrate is manufactured by removing a support after applying solution containing the liquid crystal polyester and solvent on the extremely thin copper foil of ≤5 μm fixed on the support and by removing the solvent.例文帳に追加

当該基板は、支持体上に固定された厚さ５μｍ以下の極薄銅箔上に液晶ポリエステルと溶媒とを含有する溶液を塗布し、溶媒を除去した後、支持体を除去することで製造される。 - 特許庁

Then, a substrate (a nonwoven fabric 11) having structure in which a first and a second fibers 111 and 112 comprising a polymer material are entangled and a basis weight of 200 g/m^2 or less is impregnated with the sol solution obtained.例文帳に追加

そして、得られたゾル溶液を高分子材料からなる第１及び第２の繊維体１１１，１１２が絡みあった構造を有する目付量２００ｇ／ｍ^２以下の基材（不織布１１）に含浸させる。 - 特許庁

A plurality of metal nanoparticle layers, layers each made of a plurality of types of difference metal nanoparticles and formed by deposition from a solution containing each metal, are formed into desired patterns in the substrate.例文帳に追加

基板は、複数種類の異なる金属のナノ粒子からそれぞれ形成された層であって、各金属を含む溶液からの析出により形成された複数の金属ナノ粒子層が所望のパターンで形成されている。 - 特許庁

Thereby, the SOG solution layer 2 is changed into a diffraction pattern layer 12 having a rugged surface complementary to the rugged surface of the mother mold 1 and a composite material 10 made by adhering the diffraction pattern layer 12 onto the substrate 3 is provided.例文帳に追加

これにより該ＳＯＧ溶液層２が該母型１の凹凸面と相補的な凹凸面を有する回折パターン層１２へと変化するとともに、該回折パターン層１２が該基板３に固着した複合体１０を得る。 - 特許庁

Next, sodium hypochlorite aqueous solution is injected into and mixed with the sludge having a sludge concentration of 2,000 to 26,000 mg/L so as to set an effective chlorine concentration to 300 to 1,600 mg/l, thereby converting the sludge to a substrate.例文帳に追加

次いで、汚泥濃度２０００〜２６０００ｍｇ／Ｌの汚泥に対して、有効塩素濃度を３００〜１６００ｍｇ／Ｌになるように次亜塩素酸ナトリウム水溶液を注入して攪拌し、汚泥を基質化する。 - 特許庁

A heater 9 of a resistance heating type is provided around the outer periphery of a processing chamber 3 to heat an atmosphere within the chamber 3 and to increase the temperature of the entire semiconductor substrate 1 to a level nearly corresponding to the temperature (HF: 50°C) of the chemical solution.例文帳に追加

処理チャンバー３の外周に抵抗加熱方式のヒーター９を配置し、処理チャンバー３内の雰囲気を熱し、半導体基板１全体を薬液温度（ＨＦ：５０℃）と同じ５０℃相当にまで上昇させる。 - 特許庁

Then, the treatment solution obtained in Step S1 is acetic acid-fermented as a substrate using Clostridium thermoaceticum as an anaerobic microorganism in the presence of cysteine HCL H_2O at a concentration of 0.05 to 0.1 g/L (Step S2).例文帳に追加

そして、このステップＳ１により得られた処理液を基質とし、嫌気性微生物であるClostridium thermoaceticumを使用して、Ｃｙｓｔｅｉｎｅ・ＨＣｌ・Ｈ_２Ｏ添加量を０．０５〜０．１ｇ／Ｌにして、酢酸発酵する（ステップＳ２）。 - 特許庁

After the TiN film 16 is removed, an H_2SO_4 solution is used, for example, to clean the silicon substrate 1 so that the respective etching rates of the tungsten and Co silicide layer 17 become 0.3 nm/min or lower.例文帳に追加

ＴｉＮ膜１６を除去した後、タングステン及びＣｏシリサイド層１７のそれぞれのエッチングレートが０．３ｎｍ／分以下となるように、シリコン基板１に対して例えばＨ_2ＳＯ_4溶液を用い洗浄を行なう。 - 特許庁

To provide a polishing solution with which a polyimide film on a semiconductor substrate is polished fast while damage such as a scratch is suppressed to achieve high flatness after the polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加

半導体基板上のポリイミド膜を、スクラッチなどの傷の発生を抑制しつつ、高速で研磨することができ、研磨後の高い平坦性を達成しうる研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

As shown in Figs. 6 (a) to 6 (d), one of the plurality of (four) supply pipes are selectively switched, to supply a treatment solution to the substrate W.例文帳に追加

図６（ａ）から（ｄ）に示すように、これらの複数（４つ）の供給管のうちいずれの供給管を用いて処理液の供給を行うかを選択的に切り換えて、処理液を基板Ｗに対して供給する。 - 特許庁

Further, when the article deposited with the silver-copper alloy nanofine particles on the substrate is immersed into an ascorbic acid aqueous solution, it is sintered within 10 min even at a low temperature of 80°C, and is changed into a sintered film exhibiting satisfactory electric conductivity.例文帳に追加

更には、この基板上の銀銅合金ナノ微粒子からなる被着物はアスコルビン酸水溶液に浸すと８０℃の低温でも１０分以内で焼結し、良好な導電性を示す焼結膜に変化した。 - 特許庁

At this time, if an on-off valve 7 is closed, the development solution supplied into the slit nozzle 6 flows down from a slit like discharge port 6d to the lower part in a state like a curtain and is supplied to the surface of a substrate to be treated.例文帳に追加

このとき開閉弁７を閉じておくと、スリットノズル６内に供給された現像液はスリット状吐出口６ｄからカーテン状になって下方に流下し、被処理基板Ｗの表面に供給される。 - 特許庁

The photoelectric conversion element (dye-sensitized solar cell) 1 is formed by making a porous oxide semiconductor layer 5 constituting an action electrode substrate 8 carry dye stuff, and by making it contain the electrolytic solution as the electrolyte layer 6.例文帳に追加

そして、作用極基板８を構成する多孔質酸化物半導体層５に色素を担持させるとともに、電解質６として電解液を含ませることにより光電変換素子（色素増感太陽電池）１とする。 - 特許庁

To provide an electrolysis method which maintains the purity of an electrolytic solution produced when electrolyzing an electroconductive treatment liquid for treating the surface of a substrate, and besides electrolyzes the liquid in situ, and to provide an electrolysis apparatus therefor.例文帳に追加

基板の表面を処理する導電性処理液を電解するに際し、生成される電解液の純度を維持すると同時にインサイチュで電解することが可能な電解方法および電解装置を提供する。 - 特許庁

An organic compound membrane is formed on a substrate in an inert gas atmosphere by spray injection employing a colloidal solution (called a sol) in which an aggregate of an organic compound is dispersed.例文帳に追加

本発明は、有機化合物の集合体を分散させたコロイド溶液（ゾルとも呼ぶ）を用いたスプレー噴射により不活性ガス雰囲気下で基板上に有機化合物膜を形成することを特徴としている。 - 特許庁

Next, a raw material solution 8 comprising Ga as a raw material metal and Na as a flux and nitrogen as a raw material gas are brought into contact with each other on the nitrided sapphire substrate 7 to grow a GaN crystal thereon.例文帳に追加

次に、窒化処理されたサファイア基板７の上において、原料金属であるＧａと、フラックスであるＮａからなる原料液８と原料ガスである窒素とを接触させて、ＧａＮ結晶を成長させる。 - 特許庁

The conductive paste composition is applied on a glass substrate of a plasma display panel, exposed according to a specified pattern, developed with an alkali aqueous solution, and fired to obtain a high-definition electrode circuit.例文帳に追加

この導電性ペースト組成物をプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の電極回路を形成できる。 - 特許庁

To provide a method for accurately adjusting the phase contrast of a phase shift mask by appropriately selecting materials used for the phase shift mask (a transparent substrate and a phase shifter film) and an etching solution.例文帳に追加

位相シフトマスクに使用される材料（透明基板及び位相シフタ膜）及びエッチング薬液を適宜選定することにより、位相シフトマスクの位相差を精度良く調整する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This storage solution for nitrifying bacteria immobilized on sodium alginate, a cellulose membrane or the like comprises a substrate such as ammonium ion or nitrite ion, essential nutrients, and oxalacetic acid.例文帳に追加

アルギン酸ナトリウム、セルロース膜などを用いて固定化された硝化細菌に対して、アンモニウムイオン、亜硝酸イオンなどの基質、および、必須栄養素、並びにオキサル酢酸を含有したホウ酸緩衝液から成る保存液。 - 特許庁