「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

An SiO_2 layer 9 formed on the surface of the SiC substrate 8 due to the irradiation of ultraviolet light is chemically removed in the potassium hydroxide solution, and the SiO_2 layer 9 is also removed by a synthetic quartz surface plate 3a.例文帳に追加

紫外光の照射によってＳｉＣ基板８の表面に形成されたＳｉＯ_２層９を水酸化カリウム溶液によって化学的に除去すると共に、合成石英定盤３ａによってもＳｉＯ_２層９を除去する。 - 特許庁

Taking advantage of the fact that the surface of the oxide layer is different from that of an unscanned region in properties, the substrate is immerred into a solution which contains organic molecules, by which an organic monomolecular layer 8 is selectively formed on the unscanned region.例文帳に追加

そして、その酸化層１１表面の性質が未走査領域１０に比して異なることを利用して、有機分子を含む溶液中に浸漬し、選択的に未走査領域１０上に有機単分子層８を形成する。 - 特許庁

The sheetlike cosmetic is obtained by impregnating a sheetlike substrate with a water-based formulation liquid as an essential component obtained by formulating (a) an oily solution of coenzyme Q-10 containing a nonionic surfactant and/or an alpha lipoic acid and (b) an antioxidant collagen peptide.例文帳に追加

（ａ）非イオン界面活性剤を含有するコエンザイムQ-10の油性溶液、及び／又はアルファリポ酸に、（ｂ）抗酸化性コラーゲンペプチドを配合した水系配合液を必須成分としてシート基材に含浸してシート状化粧料とする。 - 特許庁

Reagent solutions are allowed to flow into a water supplying pipe 14 through reagent solution supplying pipes 28a to 28c which are connected to the water supplying pipe 14 while supplying pure water to a treating tank 12 provided at a substrate treating section through the supplying pipe 14.例文帳に追加

基板処理部である処理槽１２に給水管１４を介して純水を供給しつつ、給水管１４に接合した薬液供給管２８ａ〜２８ｃを介して薬液を給水管１４に合流させるようにした。 - 特許庁

A mixture solution is prepared by dissolving a first resin material and a second resin material having photosensitivity in a common solvent, and applied and preliminarily baked on a substrate 301 on which driving elements and terminals of the driving elements are formed.例文帳に追加

感光性を有する第１の樹脂材料および第２の樹脂材料を共通の溶剤中に溶解した混合溶液を作成し、駆動素子および駆動素子の端子を形成した基板３０１上に、塗布・プリベークする。 - 特許庁

The nickel-containing alloy film formed on the substrate containing the iron is dissolved by immersing this film into an aqueous solution containing at least quinoline or quinoline derivative and carboxylic acid containing a hydroxyl group or organic acid having ≥2 carboxylic groups.例文帳に追加

キノリンまたはキノリン誘導体と、水酸基を含むカルボン酸または２個以上のカルボキシル基を有する有機酸とを少なくとも含む水溶液に、鉄を含む基体の上に形成された含ニッケル合金被膜を浸漬させ溶解する。 - 特許庁

The flameproof printing sheet includes the porous layer providing a printing surface by applying the resin solution containing the polyurethane resin and coagulating it by a wet-process, a sheet-like substrate and a resin layer with the flameproof agent including a phosphorous-containing polyester resin.例文帳に追加

ポリウレタン樹脂を含む樹脂溶液をコーティングし、湿式凝固することによって印刷面を与える多孔層、シート状基材およびリン含有ポリエステル樹脂を含む防炎剤含有樹脂層を含む防炎性印刷用シート。 - 特許庁

Therefore, when the silicon oxidation film 6 of the peripheral area, the first gate material 5 and the gate oxidation film 4 are removed by wet etching, the etching solution is prevented from entering between the silicon oxidation film 10 and the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

したがって、周辺領域のシリコン窒化膜６、第１のゲート材５、ゲート酸化膜４をウェットエッチングにより除去する際、エッチング溶液がシリコン酸化膜１０と半導体基板１との間に入り込むことを防ぐことができる。 - 特許庁

The method for forming the doped silicon film includes a process for forming a silicon film at the upper portion of a substrate, a process for applying solution containing dopant on the silicon film, and a process for performing heat treatment and/or light treatment.例文帳に追加

本発明は、基板上方にシリコン膜を形成する工程と、前記シリコン膜上にドーパントを含む溶液を塗布する工程と、熱処理及び／又は光処理を行う工程と、を含む、ドープシリコン膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

In the complex, precipitates which are formed from a dispersed solution of the fluororesin and the carbon particles by electrophoresis method on the surface of a conductive substrate or the surface of an porous body in its vicinity, are heated above the melting point of the fluororesin.例文帳に追加

フッ素樹脂および炭素微粒子の分散液を、電気泳動法を用いて導電性基材の表面またはその近傍の多孔体の表面に形成させた析出物をフッ素樹脂の融点以上に加熱してなる複合体。 - 特許庁

A polyimide film is obtained by applying a polyimide resin solution comprising a polyimide resin represented by formula (1) obtained by chemical imidization of a polyimide precursor, and an organic solvent on a substrate, and then removing the organic solvent.例文帳に追加

ポリイミド前駆体を化学イミド化することにより得られる式（１）で表されるポリイミド樹脂及び有機溶媒を含有するポリイミド樹脂溶液を基板上に塗布した後に有機溶媒を除去することで得られるポリイミドフィルム。 - 特許庁

The polysilane layer 12 is provided on a substrate 14 and an extra fine particulate solution 16 containing metal extra fine particulates is brought into contact with the upper surface of the polysilane layer 12, then dried and fired to laminate a metal reflection film 18.例文帳に追加

基板１４上にポリシラン層１２を設け、このポリシラン層１２の上面に金属超微粒子を含む超微粒子溶液１６を接触後乾燥し焼成することによって構成した金属反射膜１８を積層した。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin gallium nitride film includes a process of forming a thin gallium triisopropoxide film by applying a solution containing gallium triisopropoxide to a substrate and a process of bringing the thin gallium triisopropoxide film into a nitriding reaction under a gaseous ammonia atmosphere.例文帳に追加

ガリウムトリイソプロポキシドを含有する溶液を基板に塗布してガリウムトリイソプロポキシド薄膜を形成する工程と、前記ガリウムトリイソプロポキシド薄膜をアンモニアガス雰囲気下で窒化反応させる工程とを含む、窒化ガリウム薄膜の製造方法。 - 特許庁

The method for forming the electrodeposition film, characterized by forming a deposition film on the surface of a conductive substrate by an electrodeposition method using the solution for forming the electrodeposition film and then thermally treating the deposition film to form the electrodeposition film.例文帳に追加

また、前記電着膜形成液を用い、導電性基板表面に電着法によって析出膜を形成し、その後、加熱処理を行うことで電着膜を形成することを特徴とする電着膜形成方法である。 - 特許庁

In a process for applying catalyst for crystallizing an amorphous silicon film formed on a substrate surface, the catalyst is deposited by applying a catalyst solution by using a semiconductor manufacturing device such as a spin coater at the time of applying the catalyst.例文帳に追加

基板表面上に形成した非結晶シリコン膜を結晶化するための触媒を塗布する工程において、触媒の塗布にはスピンコータ等の半導体製造装置を用いて触媒溶液を塗布して触媒を析出させる。 - 特許庁

A photoresist formed on an inorganic substrate is removed by washing with a remover containing acid amides and/or lactams or a remover comprising an aqueous solution containing acid amides and/or lactams.例文帳に追加

フォトレジストの剥離方法は、無機質基体上に形成されたフォトレジストを、酸アミド類及び／又はラクタム類を含有する剥離剤、もしくは酸アミド類及び／又はラクタム類を含有する水溶液からなる剥離剤で洗浄して除去する。 - 特許庁

This casting film is obtained by coating a releasable substrate with a solution of an acrylic resin-containing yellowing-free polyurethane- polyurea resin, an acrylic resin, an aminoplast and a crosslinking catalyst in an organic solvent and crosslinking the resins under heating.例文帳に追加

アクリル樹脂含有無黄変性ポリウレタンポリ尿素樹脂、アクリル系樹脂、アミノプラストおよび架橋触媒よりなる有機溶剤溶液を離型性基材上に塗布し、加熱架橋させることで得られるラベリング材用のキャスティング皮膜。 - 特許庁

This polyurethane casting film for the labeling material is obtained by applying an organic solvent solution comprising a silicone resin-containing non-yellowing polyurethane polyurea resin, an acrylic resin, an aminoplast and a crosslinking catalyst onto a releasable substrate and thermally crosslinking it.例文帳に追加

シリコーン樹脂含有無黄変性ポリウレタンポリ尿素樹脂、アクリル系樹脂、アミノプラスト、架橋触媒よりなる有機溶剤溶液を離型性基材上に塗布し、加熱架橋させることで得られるラベリング材用のポリウレタン系キャスティング皮膜。 - 特許庁

To provide a development processing method for a substrate, the method preventing such a phenomenon that an eluted component from a resist by development is diffused in a developer solution to induce inhomogeneous development, and improving uniformity in the pattern dimension.例文帳に追加

現像によってレジストから溶出した成分が現像液中で拡散して現像処理が不均一となることを防止して、パターン寸法の均一性を向上させることができる基板の現像処理方法を提供する。 - 特許庁

This substrate treatment apparatus comprises a treatment tank 11 to store a large number of wafers W, a treatment solution feed pipe 24 to feed the liquid such as chemicals or pure water to the treatment tank 11, and a discharge pipe 65.例文帳に追加

基板処理装置１０は、多数枚のウェーハＷを収容する処理槽１１と、処理槽１１に薬液や純水等の処理液を供給する処理液供給系配管２４と、排出系配管６５を含んでいる。 - 特許庁

To provide a source solution for bismuth compound that can reduce the use of the solvent in the formation of bismuth-containing thin film through the chemical vaporization deposition (CVD) process and can give the thin film of good flatness over a wide range of the substrate temperature.例文帳に追加

溶液気化ＣＶＤ法によるビスマス含有薄膜の作製において溶媒の使用量を少なくすることができ、かつ広い基板温度範囲で平坦性の良い膜が得られる、ビスマス化合物の原料溶液を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a PZT thin film capable of making sufficient ionization of Ti at the surface of the substrate in a mixed alkaline aqueous solution in the beginning of hydrothermal synthesis, and to provide a PZT structure obtained by the method.例文帳に追加

水熱合成を始める際の混合アルカリ水溶液中において、基板表面でのＴｉのイオン化を充分に行なうことができるＰＺＴ薄膜の製法およびそれにより得られたＰＺＴ構造体を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a substrate component with the solubility to an alkaline developing solution increased by function of an acid, (B) an acid forming agent component for generating an acid by exposure, and (G) a benzodioxol or a derivative thereof.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A method of smoothing the surface of a substrate for a reflective type mask blank for EUV lithography is characterized by smoothing the surface of a substrate having concave defects by applying a solution containing a polysilazane compound on the surface of the substrate having the concave defects and heating/curing it to form a silica coating (or a coating containing SiO_2 as a main skeleton).例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板表面を平滑化する方法であって、凹欠点を有する基板表面に、ポリシラザン化合物を含む溶液を塗布し、加熱・硬化してシリカ被膜（またはＳｉＯ_2を主骨格とする被膜）を形成することにより、前記凹欠点を有する基板表面を平滑化することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板表面を平滑化する方法。 - 特許庁

This apparatus for measuring chemiluminescence is characterized by having an immobilized substrate 20 of hydrophilic gel luciferase obtained by immobilizing biotin luciferase 34 on a hydrophilic polymeric gelling agent 30 modified with avidin 32, an optical transparent cell 22 having a thickness capable of transmitting a test solution through the immobilized substrate 20 of hydrophilic gel luciferase and filled with the immobilized substrate 20 of hydrophilic gel luciferase and a photodetector 24 adjacently arranged to the cell 22.例文帳に追加

ビオチン化ルシフェラーゼ３４を、アビジン３２により修飾された親水性高分子ゲル化剤３０に固定化させた親水性ゲル状ルシフェラーゼ固定化担体２０と、前記ゲル状ルシフェラーゼ固定化担体２０中を被検溶液が透過可能な厚みで、該ルシフェラーゼ固定化担体が充填された光透過性セル２２と、前記セルに近接配置された光検出器２４と、を備えたことを特徴とする化学発光測定装置。 - 特許庁

To provide a peeling solution in which a lead-free tin alloy layer on a nickel or an iron-nickel alloy substrate as and a nickel (iron nickel alloy)-tin alloy under layer can be peeled so that the dissolution of the substrate is low suppressed as possible, and the surface after the peeling treatment is, and further, replating can stably be performed on to the smooth or substrate after the peeling.例文帳に追加

素材や下地層であるニッケルあるいは鉄ニッケル合金上に設けられた無鉛スズ合金層やその下に存在するニッケル（鉄ニッケル合金）−スズ合金層を、素材や下地層の溶解を極めて低く抑え、かつ、剥離後の表面が平坦となるように剥離することができ、さらに、剥離後の素材や下地層上に再めっきを安定して行うことが可能な剥離液を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a support for a lithographic printing plate precursor comprises the steps of roughing at least one surface of a metallic substrate, applying an anodized layer to the at least one roughed surface of the substrate, and treating the at least one roughed and anodized surface of the substrate with an aqueous solution containing a copolymer of an acrylic acid and a vinylsulfonic acid while applying a constant voltage or current thereto.例文帳に追加

金属性基質の少なくとも１つの表面を粗面化し、基質の少なくとも１つの粗面化された表面に陽極酸化層を適用し、基質の少なくとも１つの粗面化され且つ陽極酸化された表面を、定電圧又は定電流を適用しながら、アクリル酸とビニルホスホン酸のコポリマーを含む水溶液で処理することを含む平版印刷版前駆体のための支持体の製造法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the heavy metal-collecting ion exchange fiber, comprising subjecting a substrate fiber to a radiation-grafting polymerization, is characterized by comprising an irradiation process for irradiating the substrate fiber with radiations in an oxygen-removed state and a polymerization process for immersing the radiation-irradiated substrate fiber in a monomer solution having been used for the graft-polymerization to graft-polymerize.例文帳に追加

基材繊維を放射線グラフト重合させて重金属捕集イオン交換繊維を製造する方法であって、前記基材繊維に脱酸素状態で放射線を照射する照射工程と、放射線が照射された基材繊維を、既にグラフト重合に用いられたモノマー液に浸せきさせてグラフト重合させる重合工程とを備える、重金属捕集イオン交換繊維の製造方法。 - 特許庁

To provide a peeling solution by which a tin layer or a tin alloy layer on a nickel or an iron-nickel alloy substrate and a nickel (iron-nickel alloy)-tin alloy under layer can be peeled while the dissolution of the substrate is extremely low suppressed, and the smoth surface after the peeling can be obtained and replating can stably be performed on the substrate after the peeling.例文帳に追加

素材や下地層であるニッケルあるいは鉄ニッケル合金上に設けられたスズ層またはスズ合金層やその下に存在するニッケル（鉄ニッケル合金）−スズ合金層を、素材や下地層の溶解を極めて低く抑え、かつ、剥離後の表面が平坦となるように剥離することができ、さらに、剥離後の素材や下地層上に再めっきを安定して行うことが可能な剥離液を提供する。 - 特許庁

The process for forming a titanium based barrier metal layer comprises a step for preparing a substrate, a step for forming an IC element on the substrate, a step for forming a titanium based barrier metal precursor using a solution of about 5 vol% of tetrax (methyl ethyl amino) titanium (TMEAT) and about 95 vol% of octane, and a step for depositing a titanium based barrier layer on the substrate by MOCVD.例文帳に追加

チタンベースバリアメタル層を形成する方法は、基板を準備するステップであって、基板上にＩＣ素子を形成するステップを包含する、ステップと、約５容量％のテトラキス（メチルエチルアミノ）チタニウム（ＴＭＥＡＴ）および約９５容量％のオクタンの溶液を用いてチタンベースバリアメタルプリカーサを形成するステップと、ＭＯＣＶＤによって基板上にチタンベースバリア層を堆積させるステップとを包含する。 - 特許庁

The method for producing a metal oxide film includes heating the outer circumferential surface of a cylindrical substrate having a through-hole to a metal oxide film formation temperature or above, and spraying a solution for metal oxide film formation on the outer circumferential surface of the substrate with a spray unit while rotating the substrate around the through-hole to form a metal oxide film on the outer circumferential surface of the substrate.例文帳に追加

本発明は、貫通孔を有する筒状の基材を用い、上記基材の外周面を金属酸化物膜形成温度以上に加熱し、さらに上記貫通孔を中心として上記基材を回転させた状態で、上記基材の外周面に金属酸化物膜形成用溶液をスプレー装置で噴霧することにより、上記基材の外周面に金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。 - 特許庁

The production method and the purification method are characterized by the following: a crude carbon nanotube is produced by a chemical vapor-phase growth method wherein a carbon compound vapor is thermally decomposed by the contact with a substrate composed of a porous carrier carrying a metal catalyst; and the crude carbon nanotube is immersed in an acidic solution at least containing tetrafluoroboric acid to remove the substrate.例文帳に追加

多孔性担体に金属触媒を担持した基体に炭素化合物気体を接触させて熱分解する化学気相成長法で製造した粗カーボンナノチューブを得て、ついで少なくともテトラフルオロホウ酸を含む酸性溶液に浸漬処理して前記基体を除去することを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法および精製方法。 - 特許庁

In this method of manufacturing a semiconductor wafer, when manufacturing a semiconductor wafer having a thin film on one main surface of a substrate, a sacrificial layer is provided on the other surface of the substrate before forming the thin film, and processing with an acid or alkali solution is performed, to substantially dissolve and eliminate the sacrificial layer after forming the thin film.例文帳に追加

本発明による半導体ウエハの製造方法は、基板の一方の主面に薄膜を有する半導体ウエハを製造するにあたり、前記薄膜を形成する前に、前記基板の他方の主面に犠牲層を設け、前記薄膜を形成した後に、酸またはアルカリ溶液で処理して前記犠牲層を実質的に溶解・除去することを特徴とする。 - 特許庁

The negative type photosensitive planographic printing plate is obtained by disposing a negative type photosensitive layer on an aluminum substrate subjected to anodic oxidation and treatment with an aqueous solution of a polyvinylphosphonic acid and interposing a middle layer containing a compound having at least one diazonium group between the aluminum substrate and the photosensitive layer.例文帳に追加

陽極酸化し、ポリビニルホスホン酸水溶液処理したアルミニウム支持体上にネガ型感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版であって、該アルミニウム支持体と該感光層との間に少なくとも一つのジアゾニウム基を有する化合物を含有する中間層を有することを特徴とする上記ネガ型感光性平版印刷版。 - 特許庁

The method of collecting paper and plastic by type from plastic wall paper consisting of a resin layer formed on a substrate composed of paper and includes the process of dispersing cut pieces of the plastic paper in an aqueous solution of a cellulase(s) and stirring the resultant system to separate the substrate from the resin layer in the cut pieces.例文帳に追加

紙からなる基材上に樹脂層が形成されてなるプラスチック壁紙から、紙とプラスチックとを分別回収する方法であって、前記プラスチック壁紙の裁断片を、セルロース分解酵素の水溶液中に分散させて、この系を攪拌処理することにより、前記裁断片における基材と樹脂層とを分離する工程を含む。 - 特許庁

A repairing method comprises impregnating gallium ion into required depth of a specified position on a glass substrate which corresponds to the unprocessed parts of the dug grooves in the Levenson mask by using focused ion beam equipment, immersing the substrate in which the gallium ion has been impregnated, into an alkali solution, and partially dissolving and removing the part in which the gallium ion was impregnated.例文帳に追加

本発明の欠陥修正は、集束イオンビーム装置を用いてレベンソンマスクの掘り込み溝の掘り残し欠陥に相当するガラス基板の特定位置と必要深さにガリウムイオンを照射注入し、該ガリウムイオンを注入した基板をアルカリ溶液に浸してガリウムイオンが注入された部分を局部的に溶解除去させる手法を採用した。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate comprises a process preparing the substrate provided with a transparent conductive layer and a process forming an inorganic layer on the transparent conductive layer, a process performing surface treatment in a prescribed area to increase wettability over a first solution by performing surface modification in the prescribed area of the inorganic layer.例文帳に追加

この基板の製造方法は、透明導電層が形成された基板を用意する工程と、透明導電層の上に無機層を形成する工程と、無機層の所定の領域を表面改質することによって第１溶液に対する濡れ性を高くするように、所定の領域に表面処理を行う工程とを包含する。 - 特許庁

The reagent kit for detecting the ALP label includes an ALP labeling substance bindable to an object substance; the substrate for ALP; the inhibitor for inhibiting endogenous ALP; and an auxiliary reagent solution added when reacting ALP in the ALP labeling substance bound to the object substance, with the substrate.例文帳に追加

目的物質に結合可能なアルカリホスファターゼ（ＡＬＰ）標識化物質と、ＡＬＰに対する基質と、内因性ＡＬＰを阻害するための阻害剤を含み、前記目的物質に結合したＡＬＰ標識化物質のＡＬＰと基質とを反応させる際に添加される補助試薬液と、を含むＡＬＰ標識検出用試薬キットを提供する。 - 特許庁

To provide a solution ejection production apparatus capable of producing a high quality, high accuracy and high reliability pattern wiring board or a device substrate with high yield and exhibiting reliability in long term use, and to provide a high accuracy, high quality and high precision pattern wiring board or a device substrate being produced by the apparatus.例文帳に追加

高品質かつ高精度で信頼性の高いパターン配線基板あるいはデバイス基板を歩留まり良く製造でき、長期使用における信頼性のある溶液噴射製造装置を提供し、さらにその製造装置により製作される高精度かつ高品質で信頼性の高い機能を付与されたパターン配線基板、デバイス基板を提供する。 - 特許庁

A substrate is rotated at a high speed by a spin base for supporting the substrate with its lower face in floated state, and a cleaning solution is fed with a large flow rate to the lower face through a lower part cleaning nozzle in a step S1.例文帳に追加

ステップＳ１において基板の下面を離間させた状態で支持するスピンベースにより基板を高速回転させつつ、その下面に下部洗浄ノズルから洗浄液を大流量で供給して洗浄処理を施した後、ステップＳ３，Ｓ４においてステップＳ１での処理時よりも回転速度を低くするとともに流量を低くして純水を供給する。 - 特許庁

A water having the highest specific heat or a mixed solution obtained by dissolving in a water a soluble having a specific heat lower than that of a pure water for improving surface tension, heat conductivity and viscosity characteristics is used for a portion of the substrate, rapidly heated, with the result that the portion of the substrate rapidly heated by a laser beam generating unit 212 is rapidly cooled.例文帳に追加

基板のうちの急速加熱された部分に比熱が最も高い水又は比熱は純水より低いが、表面張力特性、熱伝導度特性、粘度特性が向上されるようにする溶質が水に溶解された混合溶液を使用し、基板３０におけるレーザービーム発生ユニット２１２により急加熱した部分を急速冷却する。 - 特許庁

To obtain a UV-curing resin composition excellent in developability, resolution, development latitude and resistance to the heat of soldering and capable of preparing a photo-soldering resist ink developable with a dilute aqueous alkali solution and capable of forming a soldering resist which exhibits excellent adhesion to a substrate, excellent electric corrosion resistance and particularly excellent resistance to the heat of soldering and to gold plating on the substrate.例文帳に追加

現像性、解像性、現像幅及びはんだ耐熱性に優れ、また優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを調製できる紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method for producing particles includes: a droplet formation step of forming a plurality of droplets of a solution or dispersion obtained by dissolving or dispersing a raw material for particle formation in a solvent on the surface of a substrate; a particle formation step of forming particles by solidifying the droplets; and a release step of releasing the particles from the surface of the substrate.例文帳に追加

粒子形成用の原料を溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液の複数の液滴を、基材の表面に形成する液滴形成工程と、液滴を固化して粒子を形成する粒子形成工程と、粒子を材の表面から剥離する剥離工程と、を含む粒子作製方法である。 - 特許庁

By a method having (a) a step for depositing an amorphous film on a substrate by supplying a precursor solution that is a film precursor dissolved in a supercritical fluid into a deposition chamber, and (b) a step for heat-treating the amorphous film under a heat-treating atmospheric gas at a temperature that is lower than its crystallization temperature, the amorphous film is formed on the substrate.例文帳に追加

（ａ）膜前駆体を超臨界流体に溶解させた前駆体溶液を成膜チャンバ内に供給して、基板上にアモルファス膜を成膜する工程と、（ｂ）熱処理雰囲気ガス下、前記アモルファス膜をその結晶化温度より低い温度で熱処理する工程とを有する方法により、基板上にアモルファス膜を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the skin adhesive material includes dissolving a skin adhesive material comprising an adhesive layer containing a methylcyclodextrin iodine inclusion body as an antibacterial agent on a substrate and a methylcyclodextrin iodine inclusion body in at least one kind of solvent selected from the group consisting of methanol, ethanol and propylene glycol and applying this solution to the substrate.例文帳に追加

基材上に、メチルシクロデキストリンヨウ素包接体を抗菌剤として含む粘着層を設けてなる皮膚貼着材、及びメチルシクロデキストリンヨウ素包接体を、メタノール、エタノール及びプロピレングリコールからなる群より選択される少なくとも一種の溶剤に溶解し、この溶液を基材に塗布する段階を有する前記皮膚貼着材の製造方法。 - 特許庁