「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

The production method and the purification method are characterized by the following: a crude carbon nanotube is produced by a chemical vapor-phase growth method wherein a carbon compound vapor is thermally decomposed by the contact with a substrate composed of a porous carrier carrying a metal catalyst; and the crude carbon nanotube is immersed in an acidic solution at least containing tetrafluoroboric acid to remove the substrate.例文帳に追加

多孔性担体に金属触媒を担持した基体に炭素化合物気体を接触させて熱分解する化学気相成長法で製造した粗カーボンナノチューブを得て、ついで少なくともテトラフルオロホウ酸を含む酸性溶液に浸漬処理して前記基体を除去することを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法および精製方法。 - 特許庁

In this method of manufacturing a semiconductor wafer, when manufacturing a semiconductor wafer having a thin film on one main surface of a substrate, a sacrificial layer is provided on the other surface of the substrate before forming the thin film, and processing with an acid or alkali solution is performed, to substantially dissolve and eliminate the sacrificial layer after forming the thin film.例文帳に追加

本発明による半導体ウエハの製造方法は、基板の一方の主面に薄膜を有する半導体ウエハを製造するにあたり、前記薄膜を形成する前に、前記基板の他方の主面に犠牲層を設け、前記薄膜を形成した後に、酸またはアルカリ溶液で処理して前記犠牲層を実質的に溶解・除去することを特徴とする。 - 特許庁

The negative type photosensitive planographic printing plate is obtained by disposing a negative type photosensitive layer on an aluminum substrate subjected to anodic oxidation and treatment with an aqueous solution of a polyvinylphosphonic acid and interposing a middle layer containing a compound having at least one diazonium group between the aluminum substrate and the photosensitive layer.例文帳に追加

陽極酸化し、ポリビニルホスホン酸水溶液処理したアルミニウム支持体上にネガ型感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版であって、該アルミニウム支持体と該感光層との間に少なくとも一つのジアゾニウム基を有する化合物を含有する中間層を有することを特徴とする上記ネガ型感光性平版印刷版。 - 特許庁

There is provided the method for continuously forming the inclined film in one processing liquid, in which the metal substrate is immersed in aqueous solution at pH of 4-6 containing Bi element, Y and/or Ce, a cationic organic resin and an aqueous aminopolycarboxylic acid and is cathodically electrolyzed under a condition where the voltage is stepwisely increased using the metal substrate as a cathode.例文帳に追加

Ｂｉ元素と、Ｙ及び／又はＣｅと、カチオン性の有機樹脂と、水性アミノポリカルボン酸とを含有する、ｐＨ４〜６の水溶液に金属基材を浸漬し、該金属基材を陰極として段階的に電圧を上げる条件下で陰極電解することにより、一つの処理液中で連続的に傾斜皮膜を形成する方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the light-emitting device, electrodes are arranged on a substrate; the substrate is positioned so that the electrodes face downward; solution containing a light-emitting body composition is ejected from downward toward the electrodes under pressure lower than atmospheric pressure; and all solvents are volatilized, before they reach the electrodes to form a light-emitting body composition film on the electrodes.例文帳に追加

基板上に電極を設け、電極を下にした状態に基板を配置し、大気圧よりも低い圧力下で発光体組成物を含む溶液を電極に向けて下方から噴射し、電極に到達するまでに溶媒をすべて揮発させ、電極に発光体組成物の膜を形成する発光装置の作製方法。 - 特許庁

The microarray chip is parallel to the surface of a substrate, and is manufactured by generating ionized plasma 22 by irradiating a space having a specific distance from the surface of the substrate 10 with a laser beam 21, forming an arranged electric field generating part 11 having a positive or negative polarity using the ionized plasma, and arranging fine spots of a sample solution.例文帳に追加

本発明のマイクロアレイチップは、基板面に対して平行で、かつ、基板１０の表面から一定距離の空間にレーザ光２１を照射して電離プラズマ２２を発生させ、この電離プラズマを用いて正負いずれかの極性を有する配列状の電界発生部１１を形成し、試料溶液の微小スポットを配列させることにより製造する。 - 特許庁

To provide an electroplating method and electroplating equipment capable of preventing the flow of a large current, such as a surge current, between a main substrate and an auxiliary substrate after the end of formation of a plating layer and well maintaining the quality of the plating layer by appropriately controlling switching and controlling output before discharging a plating solution after the plating and forming of the prescribed plating layer in particular.例文帳に追加

特に所定のメッキ層をメッキ形成した後、メッキ液を排液する前にスイッチング制御及び出力制御を適切に行うことで、メッキ層の形成終了後に主基板と補助基板間にサージ電流等の大電流が流れるのを防止し、メッキ層の品質を良好に保つことが可能な電気メッキ方法及び電気メッキ装置を提供。 - 特許庁

The microplate characterized in that it is provided with a substrate, a well storing the solution to be inspected formed on the surface at one side of the substrate, an optical waveguide layer formed at a part or all of the bottom of the well, and an optical incident member and optical radiation member individually formed on a surface nearby both ends in the longitudinal direction of the optical waveguide layer.例文帳に追加

基板と、前記基板の一方の面に形成された被検体溶液を収容するためのウエルと、前記ウエル底部の一部または全てに形成された光導波路層と、前記光導波路層の長手方向の両端部付近表面にそれぞれ形成された光入射部材および光放射部材とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a selective etching method capable of evaluating a crystal defect of an ultra-low resistant silicon single crystal substrate having electric resistivity of <10 mΩ cm, especially BMD (bulk micro defects) properties, which can not be easily detected by conventional methods, by selectively etching using a chromium-less etching solution which does not contain harmful chromium and utilizing the silicon single crystal substrate.例文帳に追加

従来容易には検出することができなかった電気抵抗率が１０ｍΩ・ｃｍ未満である超低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥、特にＢＭＤの特性を、有害なクロムを含有しないクロムレスのエッチング液を用いて選択エッチングすることにより評価し、利用することを可能にする、選択エッチング方法を提供する。 - 特許庁

A repairing method comprises impregnating gallium ion into required depth of a specified position on a glass substrate which corresponds to the unprocessed parts of the dug grooves in the Levenson mask by using focused ion beam equipment, immersing the substrate in which the gallium ion has been impregnated, into an alkali solution, and partially dissolving and removing the part in which the gallium ion was impregnated.例文帳に追加

本発明の欠陥修正は、集束イオンビーム装置を用いてレベンソンマスクの掘り込み溝の掘り残し欠陥に相当するガラス基板の特定位置と必要深さにガリウムイオンを照射注入し、該ガリウムイオンを注入した基板をアルカリ溶液に浸してガリウムイオンが注入された部分を局部的に溶解除去させる手法を採用した。 - 特許庁

By a method having (a) a step for depositing an amorphous film on a substrate by supplying a precursor solution that is a film precursor dissolved in a supercritical fluid into a deposition chamber, and (b) a step for heat-treating the amorphous film under a heat-treating atmospheric gas at a temperature that is lower than its crystallization temperature, the amorphous film is formed on the substrate.例文帳に追加

（ａ）膜前駆体を超臨界流体に溶解させた前駆体溶液を成膜チャンバ内に供給して、基板上にアモルファス膜を成膜する工程と、（ｂ）熱処理雰囲気ガス下、前記アモルファス膜をその結晶化温度より低い温度で熱処理する工程とを有する方法により、基板上にアモルファス膜を形成する。 - 特許庁

The ink-jet system consists of the porous medium substrate, an ink-jet ink which is prepared with containing a pigment of self-dispersion and a polyurethane binder and composed so as to be printed on the porous medium substrate, and a fixing solution which contains the precipitant and is composed so that a top-printing or under-printing for the ink-jet ink may be made.例文帳に追加

本発明のインクジェットシステムは、多孔質媒体基材と、自己分散性顔料及びポリウレタンバインダを含んで成り且つ前記多孔質媒体基材上に印刷されるよう構成されているインクジェットインクと、沈殿剤を含有し且つ前記インクジェットインクに対して上刷り又は下刷りされるよう構成されている定着液と、からなる。 - 特許庁

The manufacturing method for a heat developable material which comprises an image forming layer containing organic silver salt, a reducing agent for silver ion, a binder polymer and photosensitive silver halide on a substrate and a back-coating layer containing a filler on the opposite side to the substrate is specified by filtrating the solution for applying the back-coat layer.例文帳に追加

支持体上に、有機銀塩、銀イオン用還元剤、高分子バインダーおよび感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有し、該支持体を挟んで、フィラーを含有するバックコート層を有する熱現像感光材料の製造方法において、バックコート層塗布液を塗布する前に濾過することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。 - 特許庁

In order for one portion of an electrically conductive base 2 constituting an enzyme fixation electrode to be in contact with an electrolysis solution 9, the other portion of the conductive base 2 is made in contact with a substrate-contained gas 8, and an enzyme 6 is fixated on at least a portion of the part of the conductive base 2 in contact with the substrate-contained gas 8 to improve an output power.例文帳に追加

酵素固定化電極を構成する導電性基体２の一部分を電解液９に接するように、導電性基体２のその他の部分を基質含有気体８に接するようにし、該導電性基体２の基質含有気体８に接している部分の少なくとも一部分に酵素６を固定化することにより、出力電力を向上する。 - 特許庁

In an electrolytic cell for producing metallic foil in which an electrode obtained by providing the surface of an electrically conductive substrate with a coating layer containing iridium oxide is used as an anode, and objective metal is precipitated over the surface of a cathode face, strontium carbonate is added to an electrolytic solution to be fed, and formed precipitation is removed away to reduce the concentration of lead ions in the electrolytic solution to ≤10 ppm.例文帳に追加

導電性基体上に酸化イリジウムを含む被覆層が設けられた電極を陽極として使用し、陰極面上に目的とする金属を析出させる金属箔製造用の電解槽において、供給する電解液に炭酸ストロンチウムを添加し、生成する沈殿を除去することにより電解液中の鉛イオン濃度を１０ｐｐｍ以下に低減する。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

An electroplating method includes electroplating a substrate using an electroplating solution of tin or a tin alloy, containing: a basis solution comprising an acid, optionally a salt thereof, the acid is selected from the group consisting of fluoboric acid, an organic sulfonic acid, or a combination thereof; divalent tin ions; and an antioxidant containing a hydroxybenzene sulfonic acid or salt thereof, in an amount effective to reduction of the oxidation of divalent tin ions.例文帳に追加

フルオロホウ酸、有機スルホン酸又はこれらの組み合わせからなる群から選択される酸、任意にこれらの塩を含む基準溶液；二価スズイオン；および酸化二価スズを還元するのに有効量のヒドロキシベンゼンスルホン酸又はこれらの塩を含む酸化防止化合物、を含むスズ及びスズ合金のメッキ溶液を使用して基体を電気メッキするメッキ方法。 - 特許庁

In the thermal recording material having a thermal recording layer on a substrate, the thermal recording layer contains composite particulates obtained by dispersing by emulsification a solution of precursors of electron donating dye and an electron accepting coloring agent as solutes with a polyvalent isocyanate compound alone as a solvent in a water solution and by making then the polyvalent isocyanate compound react.例文帳に追加

支持体上に感熱記録層を有する感熱記録材料において、感熱記録層中に、多価イソシアネート化合物のみを溶媒とし電子供与性染料の前駆体と電子受容性呈色剤の前駆体とを溶質とする溶液を水溶液中に乳化分散後、多価イソシアネート化合物を反応させることにより得られた複合微粒子を含有せしめた感熱記録材料。 - 特許庁

The method is characterized in that it comprises steps consisting of; - providing a buffered sealing solution comprising at least one simple cobalt II salt and at least one simple lithium III salt; and - bringing said metal substrate having a previously oxidized surface into contact with said sealing solution for a period sufficient to form a mixed cobalt/lithium oxide film.例文帳に追加

前記方法は、少なくとも１種の単純なコバルトＩＩ塩および少なくとも１種の単純なリチウムＩＩＩ塩を含む緩衝化封孔液を提供するステップと、予め陽極処理した表面を有する金属基板を、混合コバルト／リチウム酸化物フィルムを形成するのに十分な期間、前記封孔液と接触させるステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a metal oxide thin film pattern by applying a photosensitive metal-organic material precursor solution onto a substrate without using a photosensitive prepolymer resin and directly patterning a coating film layer of the applied solution by a nanoimprint system and to provide the metal oxide thin film pattern patterned directly by this forming method and a method for producing an LED element including a photonic crystal layer by using this forming method.例文帳に追加

本発明は、感光性プレポリマーレジンを使用せずに、感光性金属有機物前駆体溶液を基板に塗布して、ナノインプリント方式で直接パターニングする金属酸化薄膜パターンの形成方法、当該形成方法によって直接パターニングされた金属酸化薄膜パターン、および、当該形成方法によって光結晶層を含むＬＥＤ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the passage substrate comprises at least a step of (A) etching a polyimide resin layer 11 by using an alkaline solution as a chemical etching solution, and performing the hydrophilization of the surface of the etched polyimide resin layer 11, and a step of (B) forming the passage by laminating other polyimide resin layers 12, 13.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ性溶液をケミカルエッチング液として用いることで、ポリイミド樹脂層１１をエッチングするとともに、該エッチングされた前記ポリイミド樹脂層１１の表面を親水性化する工程と、（Ｂ）前記エッチングされたポリイミド樹脂層１１に、他のポリイミド樹脂層１２，１３を積層することで流路を形成する工程と、を少なくとも行なうポリイミド樹脂製の流路基板の製造方法とすること。 - 特許庁

A 1st layer containing a water-insoluble and alkaline water-soluble polymer and a 2nd layer containing an IR absorbent and a binder, impervious to an alkali developing solution containing an organic compound having buffer action and a base as essential components and having solubility to the alkali developing solution increased by the action of light or heat are successively disposed on a substrate to obtain the objective original plate.例文帳に追加

支持体上に、水不溶性、且つ、アルカリ水可溶性の高分子を含有する第１の層と、赤外線吸収剤と、バインダーとを含有し、緩衝作用を有する有機化合物と塩基とを主成分とするアルカリ現像液に非浸透性で、光又は熱の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する第２の層と、順次設けてなる。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor solution which has a low viscosity in spite of containing solutes in a solution at a high solids content and is hard to generate bubbles when a film is formed and do not cause the deterioration of uniformity of the film by bubbles, the occurrence of pinholes and the like, and a polyimide film having excellent surface smoothness irrespective of marks, foreign substances, and irregularities of the substrate surface.例文帳に追加

溶媒中に溶質を高い固形分比率で含有しているにもかかわらず、低粘度であり、被膜を形成するとき、気泡が発生しにくく、気泡による膜の均一性の低下やピンホール等が発生しないポリイミド前駆体溶液の提供、及び基板表面のキズや異物や凹凸に関係なく表面平滑性に優れたポリイミド被膜の提供。 - 特許庁

The insulation film 106 comprising a silicon oxide film is formed on the channel surface by heating a CNT-FET including a source electrode 104, a drain electrode 105 and a carbon nano-tube 103 provided on a Si substrate 101 with a polysilazane solution 106a applied to the channel surface by an electric furnace 200 to cause the polysilazane solution 106a to react with moisture.例文帳に追加

Ｓｉ基板１０１上に設けられたソース電極１０４、ドレイン電極１０５、及びカーボンナノチューブ１０３で構成されたチャネル表面にポリシラザン溶液１０６ａを塗布したＣＮＴ−ＦＥＴを電気炉２００によって加熱することで、ポリシラザン溶液１０６ａを水分と反応させ、チャネル表面にシリコン酸化膜で構成された絶縁膜１０６を成膜する。 - 特許庁

In a wet etching solution for a silicon substrate having a metal silicide film and a silicon oxide film, the content ratio of hydrogen fluoride and ammonium fluoride is 1:7-1:80 in mass ratio, the hydrogen fluoride concentration in the whole wet etching solution is 0.01-10 mass%, and the ammonium fluoride concentration is 0.8-80 mass%.例文帳に追加

金属シリサイド膜およびシリコン酸化膜を備えるシリコン基板用の湿式エッチング溶液であって、フッ化水素とフッ化アンモニウムの含有比が、質量比で、フッ化水素：フッ化アンモニウム＝１：７〜１：８０であり、かつ、湿式エッチング溶液全体におけるフッ化水素濃度が０．０１〜１０質量％であり、フッ化アンモニウム濃度が０．８〜８０質量％であることを特徴とする湿式エッチング溶液である。 - 特許庁

To provide a production method by which a polyimide film having good heat resistance and mechanical property and having a large film thickness can be easily produced without foaming through the use of a method for heating a coating film that is formed by coating a substrate with a polyamic acid solution composition and to provide a solution composition of polyamic acid that is adequately used for the production method.例文帳に追加

本発明の課題は、ポリアミック酸溶液組成物を基材に塗布して形成された塗膜を加熱処理する方法によって、耐熱性や機械的物性が優れ且つ膜厚が大きなポリイミド膜を発泡なしに容易に製造することができる製造方法、及び前記製造方法に好適に用いられるポリアミック酸の溶液組成物を提供することである。 - 特許庁

The kit for detecting organic phosphorus-based substrate and the method using the kit include a reaction container that contains a fixed amount of 4-(4-nitrobenzyl) pyridine that is filled by evaporating the dissolution liquid of solution after injecting into the container as a dissolved substance in the solution, a container filled with tetraethyrenepentamine, and a container filled with an extracted medium.例文帳に追加

溶液中の溶質として容器に注入された後、該溶液の溶解液を蒸発させることによって充填された一定量の４−（４−ニトロベンジル）ピリジンを含む反応容器、テトラエチレンペンタミンを充填した容器および抽出媒体を充填した容器とを含むことを特徴とする、有機リン系物質を検出するためのキットおよびそれを用いた検出方法。 - 特許庁

A silica-dispersed oligomer solution of a prescribed organosilane, a first coating film comprising a silicone resin composition containing a prescribed acrylic resin and a curing catalyst, the silica-dispersed oligomer solution of the organosilane formed on the surface of the first coating film, and a second coating film comprising a silicone resin composition containing the curing catalyst and a prescribed organosiloxane are provided on the surface of the substrate.例文帳に追加

基材の表面に、所定のオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液と、所定のアクリル樹脂と、硬化触媒とを含むシリコーン樹脂組成物からなる第１塗膜と、この第１塗膜の表面に形成された、上記オルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液と、上記硬化触媒と、所定のポリオルガノシロキサンとを含むシリコーン樹脂組成物からなる第２塗膜とを備える。 - 特許庁

To provide a coating tool capable of smoothly applying a coating solution containing magnetic powders on the surface of a substrate moving relatively by using the coating tool and capable of preventing corrosion and wear of the end of the coating tool, by which the coating solution is uniformly applied for a long term.例文帳に追加

塗布工具を用いて相対的に移動する被塗布体の表面に磁性粉を含む塗布液等を塗布する場合においても、この塗布液が被塗布体の表面に均一に塗布されるようにすると共に、塗布液を被塗布体に塗布するこの塗布工具の先端部が腐食したり、摩耗したりするのを抑制し、被塗布体の表面に塗布液を長期にわたって均一に塗布できるようにする。 - 特許庁

The method comprises a first process of applying a solution containing the overhydrogenated silazane polymer on a substrate 110, a second process of forming a film 108 containing the overhydrogenated silazane polymer by heating the solution, and a third process of turning the film 108 into an insulating film containing silicon and oxygen by subjecting the film 108 to an oxidation treatment in a reduced-pressure atmosphere 110 of water vapor.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、基板１１０上に過水素化シラザン重合体を含む溶液を塗布する工程と、前記溶液を加熱して、過水素化シラザン重合体を含む膜１０８を形成する工程と、減圧下の水蒸気雰囲気１１０中で膜１０８を酸化処理して、膜１０８をシリコンおよび酸素を含む絶縁膜に変える工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing the gas barrier laminate is characterized by coating and forming a gas barrier coat layer prepared by coating at least one surface of a plastic substrate with an aqueous solution or a water/ alcohol mixed solution containing a water-soluble polymer and at least one of (a) one or more kinds of metal alkoxides and hydrolyzates thereof or (b) tin chloride by the gravure printing method.例文帳に追加

プラスチック基材の少なくとも片面に、水溶性高分子と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物又は、（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液をコーティングしてなるガスバリア性被膜層を、グラビア印刷法により塗布形成することを特徴とするガスバリア性積層体の製造方法。 - 特許庁

This conductivity measuring method is installed by at least one pair of silver paste printing electrodes at proper intervals on an insulating substrate, dipping the whole electrode in a sample solution, applying an alternating voltage between the electrodes, and operating the conductivity and/or its derived value of the sample solution which exists between the electrodes from an electric signal obtained thereby.例文帳に追加

本発明に係る電気伝導度測定方法は、絶縁性基板上に適当な間隔を開けて少なくとも一対の銀ペースト印刷電極を設け、前記電極全体を試料溶液に浸し、前記電極間に交流電圧を印加し、それにより得られる電気信号から前記電極間にある試料溶液の電気伝導度及び／又はその誘導値を演算することを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing the organic electroluminescent element comprises steps of forming a first electrode on a substrate; preparing a solution containing a hole carrier organic material, an electron carrier organic material and a light emitting organic material; atomizing the solution on the first electrode by use of a pressurized gas to form the organic thin film layer; and forming a second electrode on the organic thin film layer.例文帳に追加

基板上に第１の電極を形成し、正孔輸送性有機材料、電子輸送性有機材料および発光性有機材料を含む溶液を調製し、この溶液を加圧気体を用いて第１の電極上に噴霧して有機薄膜層を形成し、有機薄膜層上に第２の電極を形成する工程を有する有機電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

In this manufacturing method of an organic electroluminescent display device composed by forming the pixel formation area by arranging a plurality of pixels in a matrix-like shape on a substrate, when an organic material layer for each pixel is formed by applying a solution to the pixel formation area by an ink jet method, the solution is sequentially applied from a generally central part to a peripheral part of the image formation area.例文帳に追加

基板上に複数の画素をマトリクス状に配置し画素形成領域を構成してなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、前記画素形成領域においてインクジェット法により溶液を塗布して各画素の有機材料層を形成するに際し、前記画素形成領域の略中央部から周縁部へ前記溶液を順次塗布していく。 - 特許庁

The first resist frame 6 is formed by means of washing the developing solution with a cleaning liquid, and the minute pattern formation material 8 including a material corsslinking with an existence of an acid, is applied on a substrate 1, on which the cleaning liquid 7 is forced to stick.例文帳に追加

現像液を洗浄液で洗浄して第１のレジストフレーム６を形成し、洗浄液７を基板１上に付着させた状態で基板１上に酸の存在で架橋する材料を含む微細パターン形成材料８を塗布する。 - 特許庁

The surface-treated metallic plate comprises a surface-treated layer formed by being precipitated by cathode electrolysis treatment from an aqueous solution on the surface of a metal substrate, and the inorganic surface-treated layer at least comprises Al and O.例文帳に追加

金属基体の表面に、水溶液からの陰極電解処理により析出して形成された表面処理層を有する表面処理金属板であって、該無機表面処理層が少なくともＡｌ及びＯを含有することを特徴とする。 - 特許庁

For example, the solar cell module comprises a silica film as a protecting member which is obtained by applying a coating solution including polysilasane to at least one side of a substrate made of a resin having translucency and a heat resistance at normal pressures, and subjecting to water vapor oxidation and a heat treatment.例文帳に追加

例えば、透光性および耐熱性を有する樹脂製の基材の少なくとも一方の面に、常圧下、ポリシラザン含有塗布液を塗布し、水蒸気酸化と熱処理して得られたシリカ膜を保護部材として有する太陽電池モジュールとする。 - 特許庁

The polarizing plate with the thin polarizing layer 5 is manufactured by subjecting a surface of a transparent substrate 1 to rubbing treatment, subsequently applying the aqueous solution containing the tablar pigment to the rubbing treated surface, drying and forming the polarizing layer 5 with 20-1,500 nm thickness.例文帳に追加

透明基板１の表面をラビング処理し、次いでそのラビング処理面に平板状色素を含有する水溶液を塗布し、乾燥して、厚みが２０〜１,５００nmである偏光層５を形成し、かかる薄肉の偏光層５を有する偏光板とする。 - 特許庁

When such a cut 25 is formed in the substrate layer 22, the surface protection tape can be stuck up to the peripheral portion of the semiconductor wafer 24 having a curvature and the semiconductor wafer can be prevented from being smeared due to leakage of solution such as etching liquid.例文帳に追加

このような切込部２５が基材層２２に形成されると、曲率を有する半導体ウェハ２４の周縁部にまで表面保護テープを粘着させることができ、エッチング液などの溶液の回り込みによる半導体ウェハの汚染を防止できる。 - 特許庁

This crystallized glass substrate for an information recording medium comprises 35-65 mol% of SiO2, 5-25 mol% of Al2O3, 10-40 mol% of MgO and 5-15 mol% of TiO2, wherein the total of the above components is at least 92 mol% and the main crystals are enstatite and/or its solid solution.例文帳に追加

SiO_2：35−65モル％、Al_2O_3： 5−25モル％、MgO： 10−40モル％、TiO_2： 5−15 モル％を含有し、上記組成の合計が少なくとも92モル％以上であり、主結晶がエンスタタイト及び/又はその固溶体である情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 - 特許庁

The method for selectively removing a high-k material includes a step for providing a high-k material layer 5 on a semiconductor substrate; and a step for immersing the high-k material layer 5 into a solution containing hydrogen fluoride, an organic compound, and an inorganic acid.例文帳に追加

ｈｉｇｈ−ｋ物質の選択的除去方法は、半導体基板の上にｈｉｇｈ−ｋ物質層５を設けるステップと、前記ｈｉｇｈ−ｋ物質層５を、フッ化水素、有機化合物及び無機酸を含む溶液にさらすステップとを含む。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device, the desired flatness of a silicon surface can be obtained by constantly supplying a high-temperature ammonium fluoride aqueous solution onto a surface of a silicon substrate having at least a silicon surface partially exposed.例文帳に追加

本発明は、少なくともシリコン面が部分的に露出したシリコン基板の表面に、高温のフッ化アンモニア溶液を定常的に供給することで、シリコン面の平坦化を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The chemical amplification type resist material 3 containing a base resin, a photo-acid generating agent and a cationic polyelectrolyte is applied on a substrate 1, heat-treated and developed with an aqueous alkali solution to form a positive type resist pattern 5.例文帳に追加

ベース樹脂、光酸発生剤、及びカチオン性高分子電解質を含有してなる化学増幅型レジスト材料３を基板１上に塗布し、熱処理を行った後、アルカリ水溶液により現像を行い、ポジ型のレジストパターン５を形成する。 - 特許庁

A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5.例文帳に追加

基板５上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー２を用いて無機材料を含む溶液６によるパターン描画を行った直後に、同一装置１内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン８を加熱処理する。 - 特許庁

This optical encoder device can be produced with a simple manufacturing work and a small number of process steps due to the excellent performance possessed by the light through beam solution for optically encoded element and the single non- folding common substrate.例文帳に追加

光符号化要素用の光スルービームソリューションは優れた性能を有していると共に、単一の非折り畳み型共通基板により、本発明による光エンコーダデバイスは単純な製造作業とわずかなプロセス段階によって製造することができる。 - 特許庁