「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface of a substrate is coated with an alkoxysilane solution prepared by containing alkoxysilane, a hydrolysis polymerization reaction catalyst for the alkoxysilane and water and thereafter the alkoxysilane is subjected to a hydrolysis polymerization reaction, by which the thin film-like gelatinous compound is formed.例文帳に追加

アルコキシシランと、このアルコキシシランの加水分解重合反応触媒と、水を含有して調製されるアルコキシシラン溶液を基板の表面にコーティングした後、アルコキシシランを加水分解重合反応させて薄膜状のゲル状化合物を形成する。 - 特許庁

The nickel-containing alloy film formed on the substrate containing the iron is dissolved by immersing this film into an aqueous solution containing at least thiourea or thiourea derivative and carboxylic acid containing a hydroxyl group or organic acid having ≥2 carboxylic groups.例文帳に追加

チオ尿素またはチオ尿素誘導体と、水酸基を含むカルボン酸または２個以上のカルボキシル基を有する有機酸とを少なくとも含む水溶液に、鉄を含む基体の上に形成された含ニッケル合金被膜を浸漬させ溶解する。 - 特許庁

A positive type recording layer containing an alkali-soluble resin having fluorine atoms in its molecule and an IR absorbent and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by exposure with IR laser light is disposed on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、分子内にフッ素原子を有するアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を設けてなることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a catalyst for carbon nanotube growth includes: dissolving a transition metal salt into mixed liquid of at least one of ethanol, methanol and butanol, and terpineol; and forming a catalyst layer on a substrate by using the obtained solution.例文帳に追加

カーボンナノチューブ成長用触媒の製造方法は、遷移金属塩をエタノール、メタノールおよびブタノールのうち少なくとも１つとテルピネオールの混合液に溶解させ、得られた溶液を用いて基板上に触媒層を形成する方法である。 - 特許庁

The adhesive sheets for the vibration-damping material are obtained by forming the urethane polymer from a polyol and a polyisocyanate in a solution containing the acrylic monomer as an essential component, applying it to a temporary adhesion support or a substrate and curing it through radiation exposure.例文帳に追加

また、制振材用粘着シート類は、アクリル系単量体を主成分として含有する溶液中で、ポリオールとポリイソシアネートからウレタンポリマーを形成した後、仮着担持体または基材に塗布し、放射線を照射して硬化させて成る。 - 特許庁

In this manufacturing method of a semiconductor electrode, the semiconductor electrode is manufactured by applying a semiconductor dispersion solution with a dye mixed to a conductive substrate and thereafter passing at least one process out of microwave irradiation, electron beam irradiation, heating and pressing.例文帳に追加

色素を混合した半導体分散液を導電性基板に塗布した後、マイクロ波照射、電子線照射、加熱、プレスのうち少なくともひとつのプロセスを経て作製した半導体電極、及び、この半導体電極を用いた光電変換素子。 - 特許庁

The protective solution for a photomask is used for forming a protective film on the emulsion layer of the photomask having the emulsion layer with a formed pattern for exposure on a substrate and consists of a polyol, a blocked polyisocyanate and a solvent.例文帳に追加

基材上に露光用パターンが形成された乳剤層を有するフォトマスクの前記乳剤層上に保護膜を形成するためのフォトマスク用保護液であって、前記フォトマスク用保護液が、ポリオール、ブロックポリイソシアネートおよび溶剤からなるように構成する。 - 特許庁

In this method for manufacturing the fine particle dispersion, a resin substrate containing an ion-exchange group is brought into contact with a solution containing metal ions and then subjected to at least one treatment selected from reduction, oxidation and sublurization in a vapor phase.例文帳に追加

イオン交換基を含む樹脂基材を、金属イオンを含有する溶液に接触させた後、気相中において還元、酸化及び硫化から選ばれた少なくとも一種の処理を行うことを特徴とする微粒子分散体の製造方法。 - 特許庁

The polishing solution for metal used for chemical mechanical planarization in the production process of a substrate for semiconductor integrated circuit contains (A) an organic/inorganic composite particles, (B) quinoline carboxylic acid or its derivative, (C) an amino acid, and (D) an oxidizing agent.例文帳に追加

半導体集積回路用基板の製造工程における化学的機械的平坦化に用いられ、（Ａ）有機無機複合粒子、（Ｂ）キノリンカルボン酸又はその誘導体、（Ｃ）アミノ酸、及び（Ｄ）酸化剤を含有することを特徴とする金属用研磨液。 - 特許庁

Cleaning the surface of a silicon substrate with the use of the solution with H2O added by hydrogen or deuterium and vibrated by a high frquency of not less than 500 kHz can completely hydrogen terminate the silicon surface without fail.例文帳に追加

水素又は重水素を添加されたＨ２Ｏを用意し、当該Ｈ２Ｏに５００ｋＨｚ以上の高周波の振動を与えた溶液を用いてシリコン基板表面を洗浄することにより、シリコン表面を確実に水素終端することができた。 - 特許庁

The production method of a polyimide film includes a step of applying a solution containing the above obtained polyimide and an organic solvent on a substrate to form a coating film and a step of obtaining a film by vaporizing and removing the organic solvent from the coating film.例文帳に追加

本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、得られたポリイミド及び有機溶媒を含む溶液を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜から前記有機溶媒を蒸発除去してフィルムを得る工程とを含む。 - 特許庁

A method for manufacturing a polyimide film comprises the steps of applying a solution containing the obtained polyimide and an organic solvent to a substrate to form a coating film, and evaporating and removing the organic solvent from the coating film to obtain the film.例文帳に追加

本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、得られたポリイミド及び有機溶媒を含む溶液を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜から有機溶媒を蒸発除去させることにより除去してフィルムを得る工程とを含む。 - 特許庁

The method for forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being aqueous solution containing an organic solvent.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、有機溶剤を含有する水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

An image forming material of the present invention is formed by sequentially laminating on a substrate a lower layer containing water-insoluble, alkali-soluble resin; and an upper layer containing polyurethane with solubility to an alkali aqueous solution improved by an infrared absorbent and infrared exposure.例文帳に追加

支持体上に、水不溶かつアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、赤外線吸収剤及び赤外線露光によりアルカリ水溶液への溶解性が向上するポリウレタンを含む上層と、を順次積層してなる画像形成材料である。 - 特許庁

In the method of the silicon anisotropic etching, a silicon substrate 5 is subjected to etching processing using a silicon anisotropic etching liquid in which polyoxyalkylene alkyl ether is added at a rate of 0.1 to 10 ppm to a hydroxylation tetramethylammonium aqueous solution of 20 to 25 mass%.例文帳に追加

シリコン異方性エッチング方法において、２０〜２５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルを０．１〜１０ｐｐｍの割合で添加したシリコン異方性エッチング液を用いて、シリコン基板５をエッチング加工する。 - 特許庁

An acid cleaning step in which the substrate with the multilayer film of gold or the like/chromium or the like is cleaned with an aqueous solution having a nitric acid concentration of ≥35 wt.% and a cerium ammonium nitrate concentration lower than that in an etching liquid is provided between an etching step and the water washing step.例文帳に追加

エッチング工程と水洗工程の間に、金等／クロム等積層膜付き基板を、硝酸濃度３５重量％以上であって硝酸セリウムアンモニウム濃度がエッチング液より低い水溶液で洗浄する酸洗浄工程を設ける。 - 特許庁

The surface-treated steel sheet is obtained by forming a layer comprising an organic inhibitor on at least one surface of a substrate steel sheet pickled with aqueous nitric acid solution until a prescribed Fe intensity is reached, and forming an organic resin layer of ≤5 μm film thickness on the organic inhibitor layer.例文帳に追加

硝酸水溶液で所定のＦｅ強度まで酸洗処理した素地鋼板の少なくとも片面に、有機インヒビターからなる層を形成し、該有機インヒビター層上に、膜厚が5μm以下の有機樹脂層を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The polarizing layer can be washed on a substrate 6 with a polarizing layer without using water or a washing solution by removing impurities 42 or residues 40 stuck on the surface altogether with the surface layer region of the polarizing layer by a dry ashing method.例文帳に追加

偏光層付き基板６に対して、ドライアッシング法により偏光層の表層領域ごと表面に付着した不純物４２や残渣４０を取り除くことで、水ないし洗浄液を用いずに偏光層の洗浄を行うことができる。 - 特許庁

A method for treating a copper or copper alloy substrate surface includes application of a composition which includes one or more chelating agents, a pH adjusting agent to produce a pH between about 3 and about 11, and a deionized water, and then application of a corrosion inhibitor solution.例文帳に追加

基板表面を処理する方法は、１種以上のキレート化剤と、ｐＨ値を約３から約１１の間にするｐＨ調整剤と、脱イオン水とを備える組成物を供給することと、腐食防止溶液を供給することとを含む。 - 特許庁

A sol-shaped PZT precursor solution is added within this paste, whereby a mixed paste is made, the paste is applied on a substrate, and a PZT film obtained by drying and firing the paste is higher than a conventional PZT film in film density and is better than the conventional PZT film in electrical characteristics.例文帳に追加

このペースト内にゾル状ＰＺＴ前駆体溶液を添加することにより混合ペーストを作製し、このペーストを基板に塗布し、乾燥、焼成することにより得たＰＺＴ膜は、従来よりも膜密度が高く、電気特性が良い。 - 特許庁

The substrate for an electrophotographic photoreceptor is obtained by subjecting the photosensitive layer side surface of an aluminum or aluminum alloy substrate to etching with an acid and/or an alkali, a chemical conversion treatment with an acidic aqueous solution containing a metal salt of titanium or zirconium and an aftertreatment with a silicate solution, and the photosensitive layer side surface of the substrate comprises aluminum, oxygen and titanium, or aluminum, oxygen and zirconium.例文帳に追加

該基体がアルミニウムまたはアルミニウム合金でありかつ、該基体の感光層側の表面を酸またはアルカリあるいはアルカリと酸の両方を使用してエッチング処理を行った後にチタニウムまたはジルコニウムの金属化合物の金属塩を含有する酸性水溶液で化成処理した後に更にケイ酸塩の溶液にて後処理することを特徴とする電子写真感光体の製造方法、およびこの方法により製造された感光層側の表面にアルミニウム、酸素およびチタニウムまたはアルミニウム、酸素およびジルコニウムを含有する電子写真感光体用基体、並びに該感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置。 - 特許庁

Concerning colloidal solution of metal nanoparticles having at least one of surface enhanced Raman activity function, the metal nanoparticle colloidal solution containing a detection sample is dropped onto a substrate having or setting a higher electrode potential than a metal electrode potential of a colloidal metal, and molecules adsorbed on the metal nanoparticle surface is irradiated with prescribed laser light in an aggregation process on the substrate of the metal nanoparticles, to thereby measure Raman scattered light generated from adsorbed molecules.例文帳に追加

少なくとも１種の表面増強ラマン活性機能を有する金属ナノ粒子のコロイド溶液を、コロイド金属の金属電極電位より高い電極電位を有するまたは設定される基板上に被検出試料を含む金属ナノ粒子コロイド溶液を滴下し、金属ナノ粒子の基板上での凝集過程で金属ナノ粒子表面に吸着させた分子に所定のレーザ光を照射し吸着分子から発生するラマン散乱光を測定することを特徴とする。 - 特許庁

In this method of manufacturing a water-soluble vinyl polymer including a process in which a vinyl monomer aqueous solution which is present on a film laid on a substrate and contains a photopolymerization initiator is photopolymerized by irradiating it with an active energy ray, a liquid medium is interposed between the substrate and the film laid on the substrate during the photopolymerization process.例文帳に追加

基体上に敷かれたフィルムの上に存在する光重合開始剤を含むビニル系単量体水溶液に活性エネルギー線を照射して光重合させる工程を含む水溶性ビニル系重合体の製造方法において、前記光重合させる工程において前記基体と前記基体上に敷かれたフィルムの間に液体媒体を存在させておくことを特徴とする水溶性ビニル系重合体の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the plated substrate 100 is a manufacturing method for forming the metallic layer 33 with an electroless plating technique, and comprises the steps of: forming a resin-molded body 22 with a predetermined pattern on a substrate 10; forming a catalyst layer 31 on the resin-molded body; and immersing the substrate into an electroless plating solution to precipitate a metal on the catalyst layer to form the metallic layer 33.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板１００の製造方法は、無電解めっき法により金属層３３を形成するめっき基板の製造方法であって、基板１０上に所定パターンの樹脂成形体２２を形成する工程と、樹脂成形体の上に触媒層３１を形成する工程と、無電解めっき液に基板を浸漬することにより、触媒層上に金属を析出させて金属層３３を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the plated substrate 100 is a manufacturing method for forming the metallic layer with an electroless plating method, and comprises the steps of: forming a resin-molded body 22 with an arbitrary pattern containing a catalytic metal 31 which functions as a catalyst for electroless plating, on a substrate; and immersing the substrate into an electroless plating solution to precipitate a metal on the resin-molded body to form the metallic layer.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板１００の製造方法は、無電解めっき法により金属層を形成するめっき基板の製造方法であって、無電解めっき用の触媒として機能する触媒金属３１を含有する任意のパターンの樹脂成形体２２を基板上に形成する工程と、無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、前記樹脂成形体上に金属を析出させて金属層を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

This method for forming the Pb-base perovskite type metal oxide thin film has a stage for applying the raw material for forming the Pb-Ti- base metal oxide thin film on the substrate, then applying a raw material solution for forming the Pb-Zr-Ti-base metal oxide thin film.例文帳に追加

Ｐｂ−Ｔｉ系金属酸化物薄膜形成用原料溶液を塗布した後、Ｐｂ−Ｚｒ−Ｔｉ系金属酸化物薄膜形成用原料溶液を塗布する工程を有するＰｂ系ペロブスカイト型金属酸化物薄膜の形成方法。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and carbon black, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 3a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液とカーボンブラックとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層３ａを形成する。 - 特許庁

To obtain a composition of silane compounds which excel in the durability of coating performance and the effect on a substrate when glass fibers are surface-treated with silanes and is quickly soluble without using an acid, stable in the form of a solution and also stable over a long period of time in the form of a composition.例文帳に追加

ガラス繊維のシランによる表面処理時、基材の被覆性能と効果の持続性に優れ、酸の使用なしにすばやく溶け、その水溶液が安定で、組成物としても長期にわたり安定性を有するシラン化合物の組成物を提供する。 - 特許庁

After a rubbing process in which the upper surface of a substrate 1 is rubbed from a source electrode 3 toward a drain electrode 4 has been performed the upper surface, is coated with the solution obtained by dissolving the organic semiconductor material composed of a polymer liquid crystal in the solvent composed of a low molecular liquid crystal to remove the solvent.例文帳に追加

基板１の上面をソース電極３からドレイン電極４に向けて擦るラビング処理を行った後、低分子液晶からなる溶媒に高分子液晶からなる有機半導体材料を溶解させた溶液を塗布して溶媒を除去する。 - 特許庁

In the hard coat film, a hard coat layer which is made of a cured material of an ionizing radiation sensitive resin composition and surface-treated with an alkaline aqueous solution so that the contact angle of the surface with water is 70° or below is formed on at least one side of a transparent substrate film.例文帳に追加

透明基材フィルムの少なくとも片面に、電離放射線感応型樹脂組成物の硬化物からなり、かつ表面の水の接触角が７０°以下になるようにアルカリ性水溶液で表面処理されてなるハードコート層を設けたハードコートフィルムである。 - 特許庁

A slant which is formed of a face (110) where a face (100) is set as a base and has an angle of 45° is formed in a recess 107 by wet etching using alkali solution to which ion system surfactant is added in a silicon substrate 100 with a silicone oxide film 101 as a mask.例文帳に追加

シリコン酸化膜１０１をマスクとして、シリコン基板１００をイオン系界面活性剤が添加したアルカリ溶液を用いたウエットエッチングによって、（１００）面を底面とした（１１０）面からなる４５°の角度を持った斜面を凹部１０７に形成する。 - 特許庁

To realize an elastic wave sensor constituted so that an unstable layer is restrained from being formed to a non-electrode part when an antibody (or antigen) solution is introduced into the region on a piezoelectric substrate, and that an antibody (or antigen) layer is fundamentally formed only on an electrode part, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

圧電性基板上に抗体（又は抗原）溶液を導入する際に、非電極部に不安定な層が形成されるのが抑止され、基本的に電極部だけに抗体（又は抗原）層が形成された弾性波センサ及びその製造方法を実現する。 - 特許庁

Further, by removing or moving the etch residues 1, the parts hidden between the etch residues 1 and the silicon substrate appear on the surface thereof and are exposed to RCA cleaning solution, so that the heavy metal adhered thereto is also removed.例文帳に追加

また、エッチング残り１を除去しまたは移動させることにより、それまでエッチング残り１とシリコン基板との間に隠れていた部分も表に現れてＲＣＡ洗浄液に曝されるようになるため、そこに付着していた重金属も除去されるようになる。 - 特許庁

To provide a novel copper plating solution having both excellent via-filling properties and uniform electrodeposition properties and being capable of forming a high electrical reliability copper plating film even on a substrate having both through-holes and blind via-holes.例文帳に追加

良好な埋め込み性（ビアフィリング性）と優れた均一電着性を同時に併せ持ち、スルホールとブラインドビアホールの両方を含む被めっき物に対しても、電気的に信頼性の高い銅めっき皮膜を形成することが可能な新規な銅めっき液を提供する。 - 特許庁

The ink jet recording medium, consisting of a recording layer provided by applying and drying a solution containing a thermoplastic fine particle and a binder on at least one side of a substrate, is characterized in that the binder is a soap-free type polymeric emulsified substance.例文帳に追加

支持体上の少なくとも片面に熱可塑性微粒子と結着剤を含有する液を塗工乾燥して記録層を設けてなるインクジェット記録媒体において、該結着剤がソープフリータイプの高分子乳化物であることを特徴とするインクジェット記録媒体。 - 特許庁

The condensation of the boronic acid can be advanced by applying a solution prepared by solving the boronic acid in a solvent on the first substrate 12 so as to form the first write-once type recording layer 14 and then by annealing the layer 14.例文帳に追加

ボロン酸の縮合は、該ボロン酸を溶媒に溶解して調製した溶液を第１基板１２上に塗布して第１追記型記録層１４を形成した後、該第１追記型記録層１４に対してアニール処理を行うことで進行させることができる。 - 特許庁

To prevent solder solution of a thick film conductor as much as possible while ensuring solder wettability in a packaging method of a semiconductor chip arranged to connect a semiconductor chip consisting of a silicon semiconductor onto the thick film conductor on a ceramic substrate by solder die bonding.例文帳に追加

セラミック基板上の厚膜導体の上に、シリコン半導体よりなる半導体チップをはんだダイボンドにより、接続するようにした半導体チップの実装方法において、はんだ濡れ性を確保しつつ、厚膜導体のはんだ食われを極力防止する。 - 特許庁

A ZnO polycrystal layer 13 having a surface (0001) is formed on the surface of an Si wafer substrate 10 having a surface (100) coated with an Au layer 12 having a surface (111) as a light emitting layer by performing electrolytic deposition in a zinc nitrate solution.例文帳に追加

（１１１）面を有するＡｕ層１２でコートされた（１００）面を有するＳｉウエハー基板１０上に、硝酸亜鉛水溶液中で電解析出を行うことにより（０００１）面を有するＺｎＯ多結晶層１３を発光層として形成する。 - 特許庁

To provide a copolymer bearing a group removable by a proton which fulfils at a high level both characteristics such as changes in solubility in an aqueous alkali solution by treatment with a free proton, and the like and adhesion to a substrate, and is suitably applied to various uses.例文帳に追加

遊離プロトンによる処理前後のアルカリ水溶液への溶解性の変化等の特性と基板密着性が高いレベルで両立され、様々な用途に好適に適用することができるプロトンによる脱離性基を有する共重合体を提供する。 - 特許庁

[1] In the manufacturing method of the polyelectrolyte membrane made by flow-coating a solvent solution containing the polyelectrolyte on a substrate and by removing the solvent, this is the manufacturing method of the polyelectrolyte film in which the removal of the solvent is carried out under a humidified atmosphere.例文帳に追加

［１］高分子電解質を含む溶媒溶液を、基材に流延塗付し、溶媒を除去することによる高分子電解質膜の製造方法において、溶媒の除去を加湿雰囲気下で実施する製造方法により得られる高分子電解質膜。 - 特許庁

An image forming layer, containing infrared ray absorbing agent having at least one kind of surface orientating group in the molecule of the same and changing the solubility to alkaline water solution by the effect of radiation in a near infrared area, is provided on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、分子内に表面配向性基を少なくとも1種有する赤外線吸収剤を含有し、近赤外領域の放射線の作用により、アルカリ水溶液に対する可溶性が変化する画像形成層を有することを特徴とする。 - 特許庁

Zeta-potential of the surface of a polystyrene which is the cell culture substrate, is usually zero to positive charge in 10 mM of aqueous NaCl solution with 5.0-7.5 of pH, and the ζ-potential of the polystyrene is changed into negative charge by a UV irradiation treatment, etc.例文帳に追加

細胞培養基材であるポリスチレンのゼータ電位が、ｐＨ５．０〜７．５の１０ｍＭ ＮａＣｌ水溶液中では通常はゼロからプラス電荷近傍であるところ、紫外線照射処理等により基材表面のゼータ電位をマイナス電荷に改変することによる。 - 特許庁

A solution of a polyvalent metal salt of an unsaturated carboxylic acid compound having polymerization degree of less than 20 is coated to a substrate layer and then an electron beam is radiated to the polyvalent metal salt of the unsaturated carboxylic acid compound in the presence of a solvent.例文帳に追加

基材層に重合度が２０未満の不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩溶液を塗工した後、不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩に溶媒の存在下で電子線を照射することを特徴とするガスバリア性膜の製造方法に関する。 - 特許庁

To form a resin layer without generating raised parts at ends thereof when the resin layer is formed by applying a resin solution on a supporting glass substrate, so that a glass laminate having less variation in thickness over the entire area is easily and economically manufactured.例文帳に追加

支持ガラス基板上に樹脂溶液を付与して樹脂層を形成する際に、樹脂層端部の隆起部分が生じないように形成することができ、その結果、全域にわたって厚さのばらつきが小さなガラス積層体を簡易かつ経済的に製造する。 - 特許庁

This biodegradable and porous polymeric substrate for tissue engineering use is obtained by the following process: using a biodegradable polymer solution comprising a boiling mixture, a polymeric test piece is prepared and then boiled in a boiling medium and thereafter dried.例文帳に追加

沸騰性混合物を含有する、生分解性高分子の高分子溶液を利用して、高分子試片を作成した後、該高分子試片を沸騰媒質下で沸騰させ、乾燥させて生分解性かつ多孔性を有する組織工学用高分子支持体を製造する。 - 特許庁