「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

The composition of the polishing solution for a semiconductor substrate contains dihydroxyethyl glycine, ceria particles, a disperser, and an aqueous medium, wherein the content of the ceria particles is 2 wt.% to 22 wt.% and the content of the disperser is 0.001 wt.% to 1.0 wt.%.例文帳に追加

ジヒドロキシエチルグリシン、セリア粒子、分散剤及び水系媒体を含有する半導体基板用研磨液組成物であって、該研磨液組成物中のセリア粒子の含有量が２〜２２重量％、分散剤の含有量が０．００１〜１．０重量％である半導体基板用研磨液組成物。 - 特許庁

In the method of polishing barrier metal, the Ta-based films and Ti-based metallic films contained in a copper-based metallic wiring layer as a barrier metal layer are selectively polished by polishing a semiconductor wafer substrate etc., containing the copper-based metallic wiring layer by CMP by using the polishing solution containing at least aminobenzoic acid and abrasive grains.例文帳に追加

少なくともアミノ安息香酸と研磨砥粒を含んでなる研磨液を用い、Ｔａ系、Ｔｉ系金属膜をバリア金属層とする銅系金属配線層を含む半導体ウエハ基盤等をＣＭＰ研摩すことによって、Ｔａ系、Ｔｉ系金属膜を選択的に研磨加工する。 - 特許庁

To provide an aqueous solution for black matrix surface treatment and a surface treatment method of a black matrix, which prevent deposition of pigment components due to formation of a color filter and are superior in reliability and are capable of improving yield, with respect to manufacturing of a substrate using a black matrix containing nickel.例文帳に追加

ニッケルを含むブラックマトリックスを用いた基板の製造において、カラーフィルター形成時に伴う顔料成分の付着を防止し、信頼性に優れ、歩留まりを向上させることができるブラックマトリックス表面処理用水溶液及びブラックマトリックスの表面処理方法を提供する。 - 特許庁

The inorganic material layers X1 to X7 are formed by a sol-gel method to form solid metal oxide layers through the liquid, sol and gel phases carried out by dipping the substrate 10 coated with OH- groups through preliminary surface treatment in a metal alkoxide solution, treating in a rinsing bath and then subjecting to a hydrolysis process.例文帳に追加

無機材料層Ｘ１〜Ｘ７は、表面処理によりＯＨ^−基で覆われた基板１０を、金属アルコキシド溶液中に浸し、リンス浴後に、加水分解工程を行い、液相、ゾル、ゲルを経て固体の金属酸化物層を得るゾル−ゲル法により形成する。 - 特許庁

To reduce the cost of a non-contact IC card, etc., by omitting the complicated adhesive solution applying process at the time of sticking electronic parts, such as the IC chip, antenna body to a member for surface by using a member for substrate and, in addition, reducing the number of parts.例文帳に追加

ＩＣチップやアンテナ体である電子部品を表面用の部材と基板用の部材によって貼り合わせる際の、複雑な接着溶液の塗布工程を省略できるようにすると共に、部品点数を少なくして非接触式のＩＣカードなどのコストダウンを図れるようにする。 - 特許庁

A (111) oriented PZT film well making better use of the lattice information of a substrate coated with a Pt(111) film in comparison with the case that no additive is added is obtained by forming a three dimensional large network gel by adding the ester of an organic acid in a pH range of ≥4 and <7 in a sol-gel solution for forming the tetragonal PZT.例文帳に追加

正方晶ＰＺＴ形成用ゾルゲル溶液において、有機酸のエステルを４≦ｐＨ＜７の範囲で添加し、３次元巨大ネットワークゲルを形成し、添加剤の添加前よりも、Ｐｔ（１１１）膜被服基板の格子情報を生かした（１１１）配向ＰＺＴ膜を提供する。 - 特許庁

A semiconductor substrate 50 is coated with the third solution and the solvent is removed, thereby forming just above a tunnel insulating layer 54 a mixed film 55 as a charge retention layer wherein particles 12a made of a second organic material are dispersed in a first organic material 11a.例文帳に追加

半導体基板５０上に第３の溶液を塗布して溶媒を除去することにより、トンネル絶縁層５４の直上に、第１の有機材料１１ａ中に第２の有機材料からなる微粒子１２ａが分散した電荷保持層としての混合膜５５が形成される。 - 特許庁

To provide a remover composition for a photoresist suitable for use particularly in the production of a liquid crystal panel device and excellent in property of preventing the corrosion of a substrate with metallic wiring and an inorganic material layer as well as in ability to remove a photoresist film and a degenerated film and a method for removing a photoresist using the removing solution composition.例文帳に追加

特に液晶パネル素子の製造に好適に使用される、ホトレジスト膜、変質膜の剥離性に優れるとともに、金属配線、無機材料層の両者を形成した基板の防食性に優れるホトレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of an electronic device includes: (a) a process of forming a Cu layer by plating above a base substrate; (b) a process of cleaning the surface of the Cu layer with an alkali cleaning chemical solution to which an organic acid is added; and (c) after the process (b) a process of chemical mechanical polishing of the Cu layer.例文帳に追加

電子装置の製造方法は、（ａ）下地基板上方に、めっきによりＣｕ層を形成する工程と、（ｂ）Ｃｕ層の表面を、有機酸が添加されたアルカリ性の洗浄薬液により洗浄する工程と、（ｃ）工程（ｂ）の後、Ｃｕ層を化学機械研磨する工程とを有する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the epitaxial wafer having a single hetero structure, an active layer 23 and a clad layer 24 are sequentially formed on a substrate 22 by a liquid phase epitaxial method, and before an epitaxial layer is grown, the raw material solution composed of a compound is stepwise purified in a range of 100 to 420°C.例文帳に追加

基板２２上に、活性層２３、クラッド層２４を液相エピタキシャル法により順次形成するシングルへテロ構造のエピタキシャルウエハの製造方法において、エピタキシャル層の成長前に、化合物からなる原料溶液を１００〜４２０℃の範囲で段階的に純化する方法である。 - 特許庁

The porous membrane is manufactured in which a skin layer is formed on a supporting layer after a polymer solution is dissolved in a good solvent for a polymer to apply on a substrate or make a flat-film shape and by immersing and solidifying it into a solidifying liquid prepared by adding a surfactant to a poor solvent for the polymer.例文帳に追加

ポリマーの良溶媒に溶解させたポリマー溶液を、基布上に塗布しもしくは平膜状にした後、前記ポリマーの貧溶媒に界面活性剤を含有させた凝固液中に浸漬させ凝固させることにより、支持層の上にスキン層が形成されてなる多孔質膜を製造する。 - 特許庁

The method for producing the melanin precursor includes supplying oxygen to a reaction solution containing at least one substrate compound selected from the group consisting of 3-(3,4-dihydroxyphenyl)alanine (DOPA) and analogues thereof, and an oxidizing enzyme or a microorganism containing the enzyme and simultaneously performing an oxidation reaction in a closed system.例文帳に追加

3-(3,4-ジヒドロキシフェニル)アラニン（DOPA）及びこれらの類縁体からなる群から選択される少なくとも１種の基質化合物、及び酸化酵素またはこの酵素を含む微生物を含有する反応液に酸素を供給しながら閉鎖系で酸化反応を行うことで、メラニン前駆体を製造する。 - 特許庁

The polishing apparatus 11 polishes the metal film formed on the substrate 17 in electrolytic solution.例文帳に追加

本発明に係る研磨方法は、金属膜が形成された基板１７と対向電極１５とを電解液中に対向配置させ、上記電解液Ｅを介して上記金属膜に通電するとともに、硬質パッドで上記金属膜表面を研磨することにより上記金属膜を研磨するものである。 - 特許庁

A region in which a resin coating 3 is present and a region 3' in which no resin coatings are present are formed selectively on a transparent conductive film 4 on a transparent substrate 5, and solution containing an organic EL material is injected and given for emitting a different color to the region 3' in which no resin coatings are present.例文帳に追加

透明基板５上の透明導電性膜４上に、樹脂皮膜３が存在する領域と、存在しない領域３’を選択的に形成し、存在しない領域３’に異なる色を発色させる有機ＥＬ材料を含有する溶液を噴射付与する。 - 特許庁

The metal thin film is formed by coating the surface of the glass substrate treated with a silane coupling agent with a paste comprising a metal microparticle dispersed solution, which is prepared by dispersing metal fine particles in an organic solvent, and calcining it at 250-300°C.例文帳に追加

シランカップリング剤で処理されたガラス基板表面に、有機溶剤に金属微粒子が分散された金属微粒子分散液からなるペーストを塗布し、２５０℃以上３００℃以下の温度で焼成することを特徴とするガラス基板上に金属薄膜を形成する方法 - 特許庁

The metal polishing solution for chemical-mechanical polishing of a substrate in the manufacturing of a semiconductor device contains at least one of specified teravolt compounds, expressed by Formula (A), and at least one of triazole compounds expressed by Formula (B) or Formula (C).例文帳に追加

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いられる研磨液であって、式（A）で表される特定のテトラゾール系化合物を少なくとも一種と、式(B)または式(Ｃ)で表されるトリアゾール系化合物を少なくとも一種とを含有する金属用研磨液。 - 特許庁

A sheet 11 of a porous metal substrate is wound off from a hoop 10, and reeled after passing through the inside of a solution retained in a liquid bath 13, so that the metal impurities are cleaned consecutively in sequence to the sheet 11 wound off from the hoop 10.例文帳に追加

多孔質金属基板のシート１１をフープ１０から巻き出すとともに、液槽１３に貯留された溶液の内部を通過された後に巻き取るようにすることで、フープ１０から巻き出されたシート１１に対して、金属不純物の洗浄を順次連続的に行うようにした。 - 特許庁

To provide a resin composition having a low dielectric constant, excellent in patterning precision and adhesion to a substrate, developable with water or a diluted alkali solution, and suitable for forming a solder resist for a printed wiring board or an IC package, or an interlayer insulating layer or the like, and to provide a photosensitive film using this resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

The solid coloring matter laser is manufactured by performing the pen plotting with the dispenser pen 2 on a substrate 1 so as to form a thin film through the use of an organic solution such as methyl methacrylate, which is obtained by mixing coloring matters, such as a rhodamine coloring material and a styryl coloring material, or the copolymer of the methyl methacrylate; and allowing the thin film to be an optical waveguide 3.例文帳に追加

ローダミン系色素、スチリル系色素等の色素を混合したメタクリル酸メチルまたはそれの共重合ポリマー等の有機溶液を、ディスペンサペン２を用いて、基板１の上にペン描画して薄膜を形成し、光導波路３とする固体色素レーザーの製造方法。 - 特許庁

To provide an apparatus which can be prevented from being broken by the leakage or the splashing of an etchant caused by abnormal decomposition of hydrogen peroxide in the etchant when etching a substrate having a metallic layer containing copper by the etchant containing hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

過酸化水素水を含むエッチング液により銅を含む金属層を有する基板をエッチング処理する場合に、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が原因となってエッチング液の漏洩や飛散が起こり装置が破損することを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

The method of forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being tetra-methyl ammonium hydroxide aqueous solution having concentration of ≤1.2 mass%.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、その濃度が１．２質量％以下のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

The electroless nickel substituted gold plating treatment method comprises forming the nickel plating layer of -560 mV or more in the oxidation reduction potential of its surface in the aqueous alkaline solution on a substrate to be plated, then subjecting the surface of the nickel plating layer to gold plating treatment.例文帳に追加

被めっき基板上に、表面の酸化還元電位がアルカリ水溶液中で−５６０ｍＶ以上であるニッケルめっき層を形成させ、次いでこのニッケルめっき層の表面に金めっき処理を施すことを特徴とする、無電解ニッケル置換金めっき処理方法。 - 特許庁

This fabric sheet containing the water absorbing polymer is obtained by applying electromagnetic or particulate ionized radiation to a fabric substrate impregnated with an aqueous solution of polyvinyl alcohol having anionic or cationic groups at an enough dosage to generate gel.例文帳に追加

また、上記ゲル生成用水溶液であるアニオン基又はカチオン基を有するポリビニルアルコールの水溶液を含浸した繊維基体に対し、ゲル生成に十分な線量となる電磁性又は粒子性のイオン化放射線を当てることにより得られることを特徴とする吸水性ポリマーを含む繊維シート体。 - 特許庁

By composing this photoelectric conversion element by using such an electrode substrate 1, the wiring layer 12 is surely shielded from an electrolyte solution or the like to effectively restrain its corrosion and leakage current, so that the photoelectric conversion element having high photoelectric conversion efficiency can be provided.例文帳に追加

このような電極基板１を用いて光電変換素子を構成することにより、金属配線層１２が電解質溶液などから確実に遮蔽され、その腐食や漏れ電流を効果的に抑制し、光電変換効率の高い光電変換素子を得ることができる。 - 特許庁

This porous Si having the gradient is formed by first implanting a (p-type or n-type) dopant into a substrate containing Si, activating this dopant using an activating annealing step, and then anodizing this implanted and activated dopant region in a solution containing HF.例文帳に追加

この勾配のある多孔質Ｓｉは、まずＳｉ含有基板に（ｐ型またはｎ型の）ドーパントを注入し、活性化アニール・ステップを使用してこのドーパントを活性化し、次にこの注入され活性化されたドーパント領域をＨＦ含有溶液中で陽極酸化することによって形成される。 - 特許庁

When a catalyst dispersion or solution is applied to the surface 54a, a catalyst is adsorbed on the metal oxide films 70 of the grooves 56a prior to the exposed parts of the first substrate 54 to form catalyst layers 59 on the surfaces of the metal oxide films 70.例文帳に追加

遂に、その面５４ａに触媒分散液又は触媒溶液を塗布すると、触媒は第一基板５４の露出した部分よりも優先的に溝５６ａの金属酸化物膜７０に吸着するので、金属酸化物膜７０の表面に触媒層５９が形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing the polyimide wiring board for forming the wiring part after forming a modified layer with an imide ring opened on the surface of the polyimide substrate removes a metal-ion attached to the modified layer with the use of a complexing agent solution.例文帳に追加

ポリイミド基板表面にイミド環が開環された改質層を形成した後、配線部を形成するポリイミド配線板の製造方法において、錯化剤溶液を用いて、改質層に付着する金属イオンを除去することを特徴とするポリイミド配線板の製造方法。 - 特許庁

In this method for forming a hexavalent chromium-free film on an Sn-Zn alloy plating film, a substrate having an Sn-Zn alloy plating film containing 5 to 95 mass% Zn thereon is brought into contact with an aqueous solution containing trivalent chromium and inorganic acid ions.例文帳に追加

基体上に５〜９５質量％のＺｎを含有するＳｎ−Ｚｎ合金めっき皮膜を有する基体を、三価クロム及び無機酸イオンを含有する水溶液に接触させることを含むＳｎ−Ｚｎ合金めっき皮膜上に六価クロムフリー皮膜を形成させる方法。 - 特許庁

In the electroluminescence element having a cathode and an anode on a substrate and a plurality of organic layers between them, at least one organic layer is formed using dispersion solution and one of the organic layer contains a planar molecule.例文帳に追加

基板上に陰極と陽極を有し、その間に複数の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも１層が分散液を用いて形成される層であり、且つ該有機層のいずれかに平板状分子を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

The method for forming the zirconia film includes supplying water to a plasma flame when forming the zirconia film on the surface of a substrate with the thermal plasma CVD technique, while using a metal alkoxide solution containing zirconium alkoxide as an essential component, as a raw material.例文帳に追加

ジルコニウムアルコキシドを必須成分として含む金属アルコキシド溶液を原料として、熱プラズマＣＶＤ法により基材表面にジルコニア膜を成膜するに当たり、プラズマフレームに水を供給しながらジルコニア膜を成膜することを特徴とするジルコニア膜の成膜方法。 - 特許庁

To provide a cyanide-free gold-plating solution which makes a plated film form a superior bump shape, possess adequate adhesiveness with a substrate even after the plated film has been heat-treated, and possess adequate hardness for securing the bondability of the bump.例文帳に追加

ノンシアン系の金めっき液について、バンプ形状の形成能力に優れ、熱処理を行った場合であっても、下地との密着性が良好で、且つ、バンプの接合性を確保するために適度な硬度を有した金めっきを処理することが可能な金めっき液を提供する。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and a highly water-absorbable polymer, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 13a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液と高吸水性ポリマーとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層１３ａを形成する。 - 特許庁

The microdroplet coater includes: a container; a microdroplet coating means provided inside the container, processing a coating solution containing a solute and a solvent into microdroplets, and coating the microdroplets on the substrate placed in the container; and an atmosphere adjustment means holding the atmosphere in the container so that the solvent is prevented from evaporating.例文帳に追加

容器と、容器内に設けられ、溶質と溶媒とを含む塗布液を微細液滴に加工して前記容器内に置かれた基板上に塗布する微細液滴塗布手段と、容器内を、溶媒の蒸発を抑制する雰囲気に保持する雰囲気調整手段とを具備する。 - 特許庁

Since a substrate which labels an unreacted electrochemical luminescent substance that is not amplified and is not brought in exists in a reactive solution which is a hydrophilic field, the electrochemical luminescent substance will not emit light, the objective gene is detected quickly and at a high sensitivity, without extracting amplification products.例文帳に追加

増幅されずに取り込まれなかった未反応の電気化学発光物質を標識した基質は親水場である反応溶液内に存在するので発光しないことで、増幅産物を抽出することなく迅速かつ高感度に目的遺伝子を検出する。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayey dielectric or the like for a printed wiring board or an IC package and a photosensitive film using the composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

A p-type GaAs contact layer 9 of 20 μm or more is grown by the temperature difference liquid phase epitaxial growth (LPE) method at a Ga solution temperature stationarily higher than the substrate vicinity temperature on a semiconductor multilayer film, having an active layer 5 sandwiched between a pair of clad layers 4, 6.例文帳に追加

一対のクラッド層４、６で活性層５を挟んだ半導体多層膜上に、基板温度を一定温度とし、かつ、Ｇａ溶液の温度を基板近傍温度よりも定常的に高くした温度差ＬＰＥ法により厚さ２０μｍ以上のｐ型ＧａＡｓコンタクト層９を成長させる。 - 特許庁

The condensation (trimerization) of boric acid can be advanced by coating a solution prepared by dissolving the boric acid in a solvent on the first substrate 12 to form the first write once recording layer 14 and thereafter subjecting the first write once recording layer 14 to annealing treatment.例文帳に追加

なお、ボロン酸の縮合（三量体化）は、該ボロン酸を溶媒に溶解して調製した溶液を第１基板１２上に塗布して第１追記型記録層１４を形成した後、該第１追記型記録層１４に対してアニール処理を行うことで進行させることができる。 - 特許庁

The electroplating equipment has a plating tank, a jet unit having jet nozzles for circulating a plating solution through the plating tank, and a fixing part for a substrate to be plated and that for an anode plate; the jet unit has a mechanism for rotating jet-nozzle surface.例文帳に追加

めっき槽と、該めっき槽にめっき液を循環させる噴流ノズルを有する噴流ユニットと、被めっき基板および陽極板の固定部とを有する電気めっき装置において、該噴流ユニットが、噴流ノズル面を回転する機構を具備することを特徴とする電気めっき装置。 - 特許庁

In the manufacturing apparatus 101 for the particulate material of which a surface is coated with a ferrite layer, the manufacturing apparatus 101 comprises mechanisms 6, 7 for bringing an oxidation medium containing a reactive solution containing at least ferrous ions, at least an oxidizing agent or at least oxygen into contact with a substrate.例文帳に追加

表面がフェライト層で被覆された粒子状物の製造装置１０１であって、前記製造装置は少なくとも第一鉄イオンを含む反応液、少なくとも酸化剤もしくは少なくとも酸素を含んだ酸化媒体を基体に接触させる機構６，７を備えている。 - 特許庁

To provide a thin film forming apparatus capable of forming a thin film by discharging and applying a material solution on a substrate from an inkjet head under a reduced pressure to have a uniform film thickness and each simplified constitution installed without deteriorating the function of a discharge coating.例文帳に追加

本発明は、減圧下でインクジェットヘッドから基板上に材料溶液を吐出塗布して薄膜を形成する際に、膜厚の均一性を実現すると共に、吐出塗布の機能を損なうことなく各構成を簡潔に実装した薄膜形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor device, capable of continuously polishing a substrate containing an insulating film, a conductor film, and a barrier metal film with the same polishing solution, resulting in proper planarity of a surface to be polished after polishing, and is capable of reducing generation of scratches.例文帳に追加

絶縁膜、導体膜及びバリア金属膜を有する基板を、同一の研磨液で連続的に研磨することが可能であり、研磨後の被研磨面の平坦性が良好で、且つ、スクラッチの発生を低減できる半導体デバイスの研磨方法を提供することにある。 - 特許庁

With the upper cover 15 in the state of being mounted on the plate 2, air is evacuated through the upper suction duct 21 and lower suction duct 31 to hold the inside of the process space 12 in a pressure reduced state, thereby accelerating the vaporization of solvents from the resist solution on the substrate W.例文帳に追加

上部カバー１５をプレート２上に載置した状態で上部吸引管路２１および下部吸引管路３１を通して排気することにより処理空間１２内を減圧状態に保持し、基板Ｗ上のレジスト液中からの溶媒の蒸発を促進させる。 - 特許庁

In the method of preparing the glass surface fine structure, a glass substrate, the glass composition of which is not 100% silicon dioxide (SiO_2), is immersed into an alkaline aqueous solution having a pH of ≥7, is retained at a temperature of 60 to 250°C for 0.5 to 48 hr, thereafter, is taken out and is cleaned and dried.例文帳に追加

ガラス組成が、１００％二酸化珪素（ＳｉＯ_２）ではないガラス基板を、ｐＨ７以上のアルカリ水溶液に浸漬し、６０〜２５０℃の温度で、０．５〜４８時間保持し、その後ガラス基板を取り出して洗浄乾燥させることを特徴とするガラス表面微細構造の作成方法。 - 特許庁

Further, this is the multi-layered printed circuit board equipped with an insulating layer composed of the insulating resin solution composition formed on a substrate having a wiring pattern, and with other wiring patterns formed on the insulating layer so as to be electrically connected with the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンを有する基材上に形成された上記の絶縁性樹脂溶液組成物からなる絶縁層、および該配線パターンと電気的に接続するように該絶縁層上に形成された別の配線パターンを具備してなることを特徴とする多層プリント配線板。 - 特許庁

The method for producing far-infrared emitters comprises a process for applying a silane coupling agent solution in which far-infrared ray-emitting fine particles are dispersed onto the surface of the substrate and a process for irradiating radiation onto the surface of the substrate applied with the silane coupling agent in which the fine particles are dispersed, and the silane compound is chemically bonded onto the surface of the substrate by radiation graft polymerization.例文帳に追加

遠赤外線を放射する微粒子が、基体の表面上に、シラン化合物の基体表面への化学結合により結合されてなる遠赤外線放射体の製造方法であって、基体表面に遠赤外線を放射する微粒子を分散したシランカップリング剤溶液を塗布する工程と、微粒子を分散したシランカップリング剤溶液が塗布された基体表面に放射線を照射する工程とを含み、シラン化合物の基体表面への化学結合が放射線グラフト重合であることを特徴とする。 - 特許庁