「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing a resin pattern includes at least steps in the following order: (1) applying a photosensitive alkali aqueous solution developing type resin on a substrate; (2) exposing the resin; (3) exposing the resin film after exposure to a high humidity environment; (4) developing and (5) drying the resin.例文帳に追加

少なくとも（１）基板上に感光性アルカリ水溶液現像型樹脂を塗布する工程、（２）露光する工程、（３）露光後の樹脂皮膜を高湿度雰囲気下に曝す現像前処理工程、（４）現像工程、（５）乾燥工程をこの順に有する樹脂パターンの製造方法。 - 特許庁

The film is formed by electrifying the light-transmitting pattern region of the photomask substrate, electrifying the mist of a photocatalyst solution into the opposite polarity, making the mist fly to the photomask, vaporizing the solvent in the mist during flying, and depositing the photocatalyst fine particles on the light-transmitting pattern region.例文帳に追加

フォトマスク基板の光透過パターン領域を帯電させ、光触媒溶液のミストを逆極性に帯電させて前記フォトマスクに向けて飛翔させ、ミスト中の溶媒を飛翔中に蒸発させて前記光透過パターン領域に光触媒微粒子を付着させて成膜する。 - 特許庁

A metal foil is interposed between a core layer comprising a prepreg made by impregnating an organic fiber base substrate with a slurry composed of an organic resin and an inorganic filler and a resin impregnated decorative paper made by impregnating the raw paper for the decorative sheet with a resin solution mainly comprising a thermosetting resin and drying it, and is formed under heated and pressurized conditions.例文帳に追加

有機繊維基材に、有機樹脂と無機充填剤とからなるスラリーが含浸されたプリプレグからなるコア層と、化粧板用原紙に熱硬化性樹脂を主な成分とする樹脂液を含浸し、乾燥した樹脂含浸化粧紙との間に、金属箔を介在させ、熱圧成形する。 - 特許庁

The ink, which contains at least water, a coloring agent and a water-soluble organic solvent and has a content of the coloring agent in the range of 6-15 mass%, and the recording media, which keeps a substrate sized by using a surface sizing solution containing a cationic compound and microfiber-like cellulose, are used in a set.例文帳に追加

少なくとも水、着色剤、及び水溶性有機溶剤を含み、該着色剤の含有量が６〜１５質量％であるインクと、支持体をカチオン性化合物及び微細繊維状セルロースを含有する表面サイズ液でサイジングした記録用メディアとをセットで使用する。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

A reaction sample solution sucked and reserved by the each suction and delivery operation member 29 is dispensed from the each dispenser member 47 onto the each fixed sample on the substrate 53 to react therebetween, under the condition where the suction and delivery operation members 29 are selectively communicated to the respective suction members 23.例文帳に追加

各吸引部材２３と吸引吐出作動部材２９とを選択的に連通した状態で、吸引吐出作動部材２９に吸引され溜められた反応試料溶液を分注部材４７から基板５３上の各固定試料に対して分注吐出して反応させる。 - 特許庁

In the state that the lid of the vessel is opened, the inside of the cell 39 of the antibody chip 3 having the antibody solidifying layer formed on the principal surface of the substrate 37 on the chip carrier 7 is cleaned, so that on the antibody solidifying layer is made stabilized state, without remaining solution in the cell.例文帳に追加

そして、容器蓋８が開かれた状態において、チップキャリア７上の基板３７の主面に形成された抗体固定化層を有する抗体チップ３のセル３９内を清浄にし、セル内に溶液等の残液がなく抗体固定化層上を安定化した状態にする。 - 特許庁

A formation such as an organic layer on each glass substrate is disposed on its inside surface; two of the glass substrates are stuck to each other while sealing the circumference of the formation; thereafter the glass substrates are polished by the etching solution; and then the glass substrates are thinned by a process for opening the circumference sealing.例文帳に追加

ガラス基板上の有機層等の形成物が内面に配置されるとともに、この形成物の外周を封止しつつ２枚のガラス基板を貼り合せた後、ガラス基板をエッチング液で研磨し、次いで、外周封止を開封する工程によりガラス基板を薄型化する。 - 特許庁

A visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to visible light, a visible light shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

As the semiconductor layer 3, a porous layer in which particulates of titanium oxide TiO_2 are sintered is used, and as the electrolyte layer 5, an organic electrolytic solution containing oxidation reduction species (redox pair) such as I^-/I_3^- is used, and the counter electrode 6 made of a platinum layer 6b or the like is formed on the counter substrate 7.例文帳に追加

半導体層３としては、酸化チタンＴiＯ_2の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層５としては、Ｉ^-／Ｉ_3^-などの酸化還元種（レドックス対）を含む有機電解液を用い、白金層６ｂなどからなる対向電極６を対向基板７の上に形成する。 - 特許庁

The crystal preparation equipment 70 is equipped with No.1 substrate 71 having multiple penetration apertures 73 detached each other and multiple No.2 substrates 72 having multiple kinds of surface showing surface electric potential or zeta electric potential different each other in a high polymer contained solution.例文帳に追加

結晶調製用装置７０は、複数の貫通孔７３が互いに離れて設けられている第１基板７１、および高分子を含む溶液中で互いに異なる表面電位またはゼータ電位を示す複数種の表面をそれぞれ有する複数の第２基板７２を備える。 - 特許庁

A substrate is coated with a solution containing 20-60 wt.% of a fluorene skeleton-bearing specific compound (e.g. a compound selected from a 9,9-bis(polyhydroxyaryl)fluorene, a 9,9-bis(hydroxy-methylolaryl)fluorene and a 9,9-bis(carboxyarylalkyl)fluorene).例文帳に追加

フルオレン骨格を有する特定の化合物（例えば、９，９−ビス（ポリヒドロキシアリール）フルオレン類、９，９−ビス（ヒドロキシ−メチロールアリール）フルオレン類、および９，９−ビス（カルボキシアリールアルキル）フルオレン類から選択された化合物）含む２０〜６０重量％の割合で含む溶液を、基板に塗布する。 - 特許庁

The method comprises the steps of applying an epoxy resin composition solution containing an epoxy resin, an acid anhydride-based curing agent, a heat-curing catalyst, a photo-curing catalyst and a solvent to a substrate followed by drying to form an epoxy resin composition layer, and of irradiating the epoxy resin composition layer with ultraviolet rays.例文帳に追加

エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤、熱硬化触媒、光硬化触媒および溶媒を含有してなるエポキシ樹脂組成物溶液を基材上に塗布後、乾燥して、エポキシ樹脂組成物層を形成する工程、前記エポキシ樹脂組成物層に紫外線を照射する工程を備えている。 - 特許庁

The method for chemically modifying the inner wall surface of the microchannel formed on a substrate comprises fixing a radical initiator on the inner wall surface of the microchannel and then to form a polymer film on the inner wall surface of the microchannel by radically polymerizing a polymeric monomer while making a polymeric monomer solution flow into the microchannel.例文帳に追加

基板に形成されたマイクロチャンネル内壁面の化学修飾方法であって、マイクロチャンネル内壁面にラジカル開始剤を固定し、次いでマイクロチャンネル内に重合性モノマー溶液を流して重合性モノマーをラジカル重合させてマイクロチャンネル内壁面に高分子膜を形成する。 - 特許庁

The solution spouting device 50 comprises a work table 51 for mounting the transparent substrate 2, a drive device 52 for moving the work table 51 in a sub-scanning direction, a head section 54 moving in a scanning direction, a nozzle 55 arranged on the head section 54, and a heater 59 arranged on the nozzle 55.例文帳に追加

溶液噴出装置５０は、透明基板２を載置するワークテーブル５１と、ワークテーブル５１を副走査方向に移動する駆動装置５２と、走査方向に移動するヘッド部５４と、ヘッド部５４に設けられたノズル５５と、ノズル５５に設けられた加熱器５９とを備える。 - 特許庁

On the surface of a glass substrate 1 on which a film is formed, a heated alkali aqueous solution supplied from a shower nozzle 3 is made to flow to dissolve the film, and a heated/pressurized liquid from a high-pressured nozzle 9 is sprayed against it to peel the dissolving film by its impact action.例文帳に追加

焼成前の被膜が形成されたガラス基板１の表面にシャワーノズル３等から供給される加熱したアルカリ水溶液を流して被膜を溶解させながら、その上から高圧ノズル９からの加熱加圧液体を吹付け、その衝撃作用によって溶解中の被膜を剥離除去する。 - 特許庁

A solution of a polyvalent metal salt of an unsaturated carboxylic acid compound having a degree of polymerization of <20 is coated on a substrate layer and then the polyvalent metal salt of the unsaturated carboxylic acid compound is irradiated with electron beams in the presence of a solvent to manufacture the gas barrier film.例文帳に追加

基材層に重合度が２０未満の不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩溶液を塗工した後、不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩に溶媒の存在下で電子線を照射することを特徴とするガスバリア性膜の製造方法に関する。 - 特許庁

This reference electrode 10 is equipped with a porous film 16 arranged on the bottom part of the aperture provided in the substrate, an internal electrolyte solution including hydrophilic polymer layer 12 laminated on the porous film, and a conductor electrode 20 connected to a hydrophilic polymer upper layer.例文帳に追加

参照電極１０は、基板内に設けられた透孔内の底部に配置された多孔膜１６と、該多孔膜上に積層された内部電解質溶液含有親水性高分子層１２と、該親水性高分子上層に接続された導体電極２０とを具備する。 - 特許庁

The solution supplied to the injection head 11 is stored by a container 51 fitted independently of the injection head 11, and while the container 51 and the injection head 11 are connected through a flexible supply way 15, the container 51 is arranged at a lower position than the substrate 14.例文帳に追加

噴射ヘッド１１に供給される溶液は、噴射ヘッド１１とは独立に設けられた容器５１に貯留され、容器５１と噴射ヘッド１１とは可撓性の供給路１５を介して連結されるとともに容器５１は基板１４より下部に配置されている。 - 特許庁

The method of forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being tetra-methyl ammonium hydroxide aqueous solution having concentration of ≤1.2 mass%.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、その濃度が１．２質量％以下のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

The electroless nickel substituted gold plating treatment method comprises forming the nickel plating layer of -560 mV or more in the oxidation reduction potential of its surface in the aqueous alkaline solution on a substrate to be plated, then subjecting the surface of the nickel plating layer to gold plating treatment.例文帳に追加

被めっき基板上に、表面の酸化還元電位がアルカリ水溶液中で−５６０ｍＶ以上であるニッケルめっき層を形成させ、次いでこのニッケルめっき層の表面に金めっき処理を施すことを特徴とする、無電解ニッケル置換金めっき処理方法。 - 特許庁

The fluorescence measurement method includes measuring fluorescence emitted from fluorescence molecules in a complex composed of ligand, analyte, and a fluorescent marker obtained by connecting fluorescence molecules, formed on the surface of a substrate under the existence of a water solution of cationic water-soluble polymers.例文帳に追加

基板表面に形成されたリガンドと、アナライトと、蛍光分子が連結した蛍光標識体とからなる複合体中の蛍光分子から発せられる蛍光を、カチオン性の水溶性高分子の水溶液の存在下で測定することを含むことを蛍光測定方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the polyimide wiring board for forming the wiring part after forming a modified layer with an imide ring opened on the surface of the polyimide substrate removes a metal-ion attached to the modified layer with the use of a complexing agent solution.例文帳に追加

ポリイミド基板表面にイミド環が開環された改質層を形成した後、配線部を形成するポリイミド配線板の製造方法において、錯化剤溶液を用いて、改質層に付着する金属イオンを除去することを特徴とするポリイミド配線板の製造方法。 - 特許庁

In this method for forming a hexavalent chromium-free film on an Sn-Zn alloy plating film, a substrate having an Sn-Zn alloy plating film containing 5 to 95 mass% Zn thereon is brought into contact with an aqueous solution containing trivalent chromium and inorganic acid ions.例文帳に追加

基体上に５〜９５質量％のＺｎを含有するＳｎ−Ｚｎ合金めっき皮膜を有する基体を、三価クロム及び無機酸イオンを含有する水溶液に接触させることを含むＳｎ−Ｚｎ合金めっき皮膜上に六価クロムフリー皮膜を形成させる方法。 - 特許庁

This fabric sheet containing the water absorbing polymer is obtained by applying electromagnetic or particulate ionized radiation to a fabric substrate impregnated with an aqueous solution of polyvinyl alcohol having anionic or cationic groups at an enough dosage to generate gel.例文帳に追加

また、上記ゲル生成用水溶液であるアニオン基又はカチオン基を有するポリビニルアルコールの水溶液を含浸した繊維基体に対し、ゲル生成に十分な線量となる電磁性又は粒子性のイオン化放射線を当てることにより得られることを特徴とする吸水性ポリマーを含む繊維シート体。 - 特許庁

By composing this photoelectric conversion element by using such an electrode substrate 1, the wiring layer 12 is surely shielded from an electrolyte solution or the like to effectively restrain its corrosion and leakage current, so that the photoelectric conversion element having high photoelectric conversion efficiency can be provided.例文帳に追加

このような電極基板１を用いて光電変換素子を構成することにより、金属配線層１２が電解質溶液などから確実に遮蔽され、その腐食や漏れ電流を効果的に抑制し、光電変換効率の高い光電変換素子を得ることができる。 - 特許庁

When a catalyst dispersion or solution is applied to the surface 54a, a catalyst is adsorbed on the metal oxide films 70 of the grooves 56a prior to the exposed parts of the first substrate 54 to form catalyst layers 59 on the surfaces of the metal oxide films 70.例文帳に追加

遂に、その面５４ａに触媒分散液又は触媒溶液を塗布すると、触媒は第一基板５４の露出した部分よりも優先的に溝５６ａの金属酸化物膜７０に吸着するので、金属酸化物膜７０の表面に触媒層５９が形成される。 - 特許庁

This porous Si having the gradient is formed by first implanting a (p-type or n-type) dopant into a substrate containing Si, activating this dopant using an activating annealing step, and then anodizing this implanted and activated dopant region in a solution containing HF.例文帳に追加

この勾配のある多孔質Ｓｉは、まずＳｉ含有基板に（ｐ型またはｎ型の）ドーパントを注入し、活性化アニール・ステップを使用してこのドーパントを活性化し、次にこの注入され活性化されたドーパント領域をＨＦ含有溶液中で陽極酸化することによって形成される。 - 特許庁

In the electroluminescence element having a cathode and an anode on a substrate and a plurality of organic layers between them, at least one organic layer is formed using dispersion solution and one of the organic layer contains a planar molecule.例文帳に追加

基板上に陰極と陽極を有し、その間に複数の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも１層が分散液を用いて形成される層であり、且つ該有機層のいずれかに平板状分子を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

The method for forming the zirconia film includes supplying water to a plasma flame when forming the zirconia film on the surface of a substrate with the thermal plasma CVD technique, while using a metal alkoxide solution containing zirconium alkoxide as an essential component, as a raw material.例文帳に追加

ジルコニウムアルコキシドを必須成分として含む金属アルコキシド溶液を原料として、熱プラズマＣＶＤ法により基材表面にジルコニア膜を成膜するに当たり、プラズマフレームに水を供給しながらジルコニア膜を成膜することを特徴とするジルコニア膜の成膜方法。 - 特許庁

To provide a cyanide-free gold-plating solution which makes a plated film form a superior bump shape, possess adequate adhesiveness with a substrate even after the plated film has been heat-treated, and possess adequate hardness for securing the bondability of the bump.例文帳に追加

ノンシアン系の金めっき液について、バンプ形状の形成能力に優れ、熱処理を行った場合であっても、下地との密着性が良好で、且つ、バンプの接合性を確保するために適度な硬度を有した金めっきを処理することが可能な金めっき液を提供する。 - 特許庁

The electroplating equipment has a plating tank, a jet unit having jet nozzles for circulating a plating solution through the plating tank, and a fixing part for a substrate to be plated and that for an anode plate; the jet unit has a mechanism for rotating jet-nozzle surface.例文帳に追加

めっき槽と、該めっき槽にめっき液を循環させる噴流ノズルを有する噴流ユニットと、被めっき基板および陽極板の固定部とを有する電気めっき装置において、該噴流ユニットが、噴流ノズル面を回転する機構を具備することを特徴とする電気めっき装置。 - 特許庁

Since a substrate which labels an unreacted electrochemical luminescent substance that is not amplified and is not brought in exists in a reactive solution which is a hydrophilic field, the electrochemical luminescent substance will not emit light, the objective gene is detected quickly and at a high sensitivity, without extracting amplification products.例文帳に追加

増幅されずに取り込まれなかった未反応の電気化学発光物質を標識した基質は親水場である反応溶液内に存在するので発光しないことで、増幅産物を抽出することなく迅速かつ高感度に目的遺伝子を検出する。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and a highly water-absorbable polymer, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 13a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液と高吸水性ポリマーとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層１３ａを形成する。 - 特許庁

The microdroplet coater includes: a container; a microdroplet coating means provided inside the container, processing a coating solution containing a solute and a solvent into microdroplets, and coating the microdroplets on the substrate placed in the container; and an atmosphere adjustment means holding the atmosphere in the container so that the solvent is prevented from evaporating.例文帳に追加

容器と、容器内に設けられ、溶質と溶媒とを含む塗布液を微細液滴に加工して前記容器内に置かれた基板上に塗布する微細液滴塗布手段と、容器内を、溶媒の蒸発を抑制する雰囲気に保持する雰囲気調整手段とを具備する。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayey dielectric or the like for a printed wiring board or an IC package and a photosensitive film using the composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

A p-type GaAs contact layer 9 of 20 μm or more is grown by the temperature difference liquid phase epitaxial growth (LPE) method at a Ga solution temperature stationarily higher than the substrate vicinity temperature on a semiconductor multilayer film, having an active layer 5 sandwiched between a pair of clad layers 4, 6.例文帳に追加

一対のクラッド層４、６で活性層５を挟んだ半導体多層膜上に、基板温度を一定温度とし、かつ、Ｇａ溶液の温度を基板近傍温度よりも定常的に高くした温度差ＬＰＥ法により厚さ２０μｍ以上のｐ型ＧａＡｓコンタクト層９を成長させる。 - 特許庁

The condensation (trimerization) of boric acid can be advanced by coating a solution prepared by dissolving the boric acid in a solvent on the first substrate 12 to form the first write once recording layer 14 and thereafter subjecting the first write once recording layer 14 to annealing treatment.例文帳に追加

なお、ボロン酸の縮合（三量体化）は、該ボロン酸を溶媒に溶解して調製した溶液を第１基板１２上に塗布して第１追記型記録層１４を形成した後、該第１追記型記録層１４に対してアニール処理を行うことで進行させることができる。 - 特許庁

In the manufacturing apparatus 101 for the particulate material of which a surface is coated with a ferrite layer, the manufacturing apparatus 101 comprises mechanisms 6, 7 for bringing an oxidation medium containing a reactive solution containing at least ferrous ions, at least an oxidizing agent or at least oxygen into contact with a substrate.例文帳に追加

表面がフェライト層で被覆された粒子状物の製造装置１０１であって、前記製造装置は少なくとも第一鉄イオンを含む反応液、少なくとも酸化剤もしくは少なくとも酸素を含んだ酸化媒体を基体に接触させる機構６，７を備えている。 - 特許庁

To provide a thin film forming apparatus capable of forming a thin film by discharging and applying a material solution on a substrate from an inkjet head under a reduced pressure to have a uniform film thickness and each simplified constitution installed without deteriorating the function of a discharge coating.例文帳に追加

本発明は、減圧下でインクジェットヘッドから基板上に材料溶液を吐出塗布して薄膜を形成する際に、膜厚の均一性を実現すると共に、吐出塗布の機能を損なうことなく各構成を簡潔に実装した薄膜形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor device, capable of continuously polishing a substrate containing an insulating film, a conductor film, and a barrier metal film with the same polishing solution, resulting in proper planarity of a surface to be polished after polishing, and is capable of reducing generation of scratches.例文帳に追加

絶縁膜、導体膜及びバリア金属膜を有する基板を、同一の研磨液で連続的に研磨することが可能であり、研磨後の被研磨面の平坦性が良好で、且つ、スクラッチの発生を低減できる半導体デバイスの研磨方法を提供することにある。 - 特許庁

With the upper cover 15 in the state of being mounted on the plate 2, air is evacuated through the upper suction duct 21 and lower suction duct 31 to hold the inside of the process space 12 in a pressure reduced state, thereby accelerating the vaporization of solvents from the resist solution on the substrate W.例文帳に追加

上部カバー１５をプレート２上に載置した状態で上部吸引管路２１および下部吸引管路３１を通して排気することにより処理空間１２内を減圧状態に保持し、基板Ｗ上のレジスト液中からの溶媒の蒸発を促進させる。 - 特許庁

In the method of preparing the glass surface fine structure, a glass substrate, the glass composition of which is not 100% silicon dioxide (SiO_2), is immersed into an alkaline aqueous solution having a pH of ≥7, is retained at a temperature of 60 to 250°C for 0.5 to 48 hr, thereafter, is taken out and is cleaned and dried.例文帳に追加

ガラス組成が、１００％二酸化珪素（ＳｉＯ_２）ではないガラス基板を、ｐＨ７以上のアルカリ水溶液に浸漬し、６０〜２５０℃の温度で、０．５〜４８時間保持し、その後ガラス基板を取り出して洗浄乾燥させることを特徴とするガラス表面微細構造の作成方法。 - 特許庁

Further, this is the multi-layered printed circuit board equipped with an insulating layer composed of the insulating resin solution composition formed on a substrate having a wiring pattern, and with other wiring patterns formed on the insulating layer so as to be electrically connected with the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンを有する基材上に形成された上記の絶縁性樹脂溶液組成物からなる絶縁層、および該配線パターンと電気的に接続するように該絶縁層上に形成された別の配線パターンを具備してなることを特徴とする多層プリント配線板。 - 特許庁

The method for producing far-infrared emitters comprises a process for applying a silane coupling agent solution in which far-infrared ray-emitting fine particles are dispersed onto the surface of the substrate and a process for irradiating radiation onto the surface of the substrate applied with the silane coupling agent in which the fine particles are dispersed, and the silane compound is chemically bonded onto the surface of the substrate by radiation graft polymerization.例文帳に追加

遠赤外線を放射する微粒子が、基体の表面上に、シラン化合物の基体表面への化学結合により結合されてなる遠赤外線放射体の製造方法であって、基体表面に遠赤外線を放射する微粒子を分散したシランカップリング剤溶液を塗布する工程と、微粒子を分散したシランカップリング剤溶液が塗布された基体表面に放射線を照射する工程とを含み、シラン化合物の基体表面への化学結合が放射線グラフト重合であることを特徴とする。 - 特許庁