「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an oxide superconductor, which includes c-axis oriented particles at a high rate when a thick film is formed on a substrate and shows high characteristics, capable of adjusting a lattice constant of a mixed superconductor film obtained by mixing raw material solution of a plurality of Ln system superconductors.例文帳に追加

複数のＬｎ系超電導体の原料溶液を混合することによって得られる混合超電導体膜の格子定数を調整することができ、基板上に厚膜を形成したときにｃ軸配向粒子を高い比率で含み、高い特性を示す酸化物超電導体を提供することにある。 - 特許庁

In the processing method in which a planographic printing plate having at least a silver halide emulsion layer on an anodically oxidized aluminum substrate and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, a developing solution used contains an alkaline earth metal and glycerol or polyglycerol.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する方法において、該現像液がアルカリ土類金属と、グリセリンまたはポリグリセロールを含有することを特徴とする平版印刷版の現像処理方法。 - 特許庁

Even in a case that the liquid supply port 8 is expanded by the unintended etching spread when the liquid supply port 8 is formed by etching a silicon substrate 1, the size or position of the opening 16a of the interlaminar film 16 will not change, and the probe solution flows through the space between the barrier wall 14 and the barrier wall column 15.例文帳に追加

液体供給口８をシリコン基板１のエッチングによって形成する際の、意図せぬエッチングの広がりによって液体供給口８が拡大した場合でも、層間膜１６の開口１６ａの大きさや位置は変わらず、プローブ溶液は障壁１４や障壁柱１５の間を流動する。 - 特許庁

This smoothing jig for the abrasive cloth to be used in grinding the surface of a substrate for a magnetic disk with a plated film formed thereon by feeding an abrasive solution thereto comprises a disk having a plurality of long holes 4a and 4b in the surface thereof, and the long holes 4a and 4b are formed radially with respect to a center thereof.例文帳に追加

めっき皮膜が形成された磁気ディスク用基板の表面に研摩液を供給して研摩するときに使用される研摩布の平滑化用治具において、表面に複数の長孔４ａ、４ｂを有する円板で形成され、長孔４ａ、４ｂは中心６に対して放射状に形成される。 - 特許庁

The film formation method includes: a process for generating source gas by vaporizing a solution where a metal organic compound is dissolved in an organic solvent; a process for generating source gas to which octane is added by adding vaporized octane to the source gas; and a process for forming a film including metal on a substrate by introducing the source gas to which octane is added into a film formation atmosphere.例文帳に追加

金属有機化合物を有機溶媒に溶解した溶液を気化して原料ガスを生成する工程と、気化したオクタンを原料ガスに添加してオクタン添加原料ガスを生成する工程と、オクタン添加原料ガスを成膜雰囲気に導入して基板上に金属を含む膜を成膜する工程を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a metal carrier capable of effectively making a substrate carry a metal nanocolloid particle at a high speed up to high concentration, using a metal nanocolloid solution substantially containing no protective colloid forming agent and being excellent in the stability of dispersion even when containing the metal nanocolloid particle of relatively high concentration.例文帳に追加

保護コロイド形成剤を実質上含まず、しかも金属ナノコロイド粒子を比較的高濃度で含有しても分散安定性が良好な金属ナノコロイド液を用い、金属ナノコロイド粒子を高速かつ高濃度に、効率よく基体に担持させる金属担持体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material, of a chemically amplified type in particular, for use in lithography with a high-energy light source in particular, having a practically sufficient level of etching resistance, excellent in adhesion to a substrate and in affinity with the developing solution, much higher than conventional materials in sensitivity and in resolution performance, and swelling less during the developing process.例文帳に追加

特に高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、実用レベルのエッチング耐性を有し、基板密着性及び現像液親和性に優れ、従来品を大きく上回る感度と解像性を有し、加えて現像時の膨潤の小さいレジスト材料、特に化学増幅型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

A good copper wiring film having a specific resistance of 1.8 μΩ×cm can be formed by evaporating this solution with an evaporator at 200°C, then introducing the vapor and gaseous hydrogen into a CVD chamber equipped with a RF induction coil, and depositing on an SiO_2/Si substrate heated to 170°C under a reaction pressure of 2 Torr.例文帳に追加

この溶液を２００℃の蒸発器で蒸発させ、反応圧力２Ｔｏｒｒ、１７０℃に加熱されたＳｉＯ_２／Ｓｉ基板上に、Ｈ_２ガスと共にＲＦ誘導コイルを設置したＣＶＤ室に導入して、堆積させると、比抵抗率１．８μΩ・ｃｍの良好な銅配線膜が形成できる。 - 特許庁

The anatase crystal having orientation in the c-axial direction or its thin film is obtained and recovered by using a titania nano-sheet obtained by peeling a layered titanium oxide in nano-level thickness as a starting material, laminating the titania nano-sheet on an optional substrate treated with a cationic polymer solution with controlled thickness and heating.例文帳に追加

層状チタン酸化物をナノレベルの厚さで剥離することによって得られるチタニアナノシートを出発物質とし、このチタニアナノシートをカチオン性ポリマー溶液で処理した任意の基板上に厚さを制御して積層し、加熱し、ｃ軸配向性を有するアナターゼ結晶ないしはその薄膜を得、回収する。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate for the planographic printing plate to obtain the substrate for the planographic printing plate by subjecting the aluminum alloy sheet to surface treatment including electrochemical surface roughening treatment, in which an aluminum content of the aluminum alloy sheet is 95 to 99.4 mass% and the electrochemical surface roughening treatment is performed by using AC in an aqueous solution mainly composed of a hydrochloric acid.例文帳に追加

アルミニウム合金板に、電気化学的粗面化処理を含む表面処理を施して平版印刷版用支持体を得る平版印刷版用支持体の製造方法であって、該アルミニウム合金板のアルミニウム含有率が９５〜９９．４質量％であり、かつ、該電気化学的粗面化処理が、塩酸を主体とする水溶液中で交流を用いて行われることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

To provide a substrate for detecting enzyme activity capable of detecting enzyme activity by only measuring fluorescence intensity, or the like, of the substrate using change in the fluorescence intensity as a marker, excellent in operability, detecting the enzyme activity of a sample solution of minute amount without requiring the formation of a cell, or the like, to which sample is charged, and remarkably enhancing degree of integration of a detecting section.例文帳に追加

本発明は、蛍光強度等の変化を指標として基板の蛍光強度等を測定するだけで酵素活性を検出することができ操作性に優れ、また、微量の検体溶液でも酵素活性の検出を行うことができるとともに検体溶液を注入するセル等を形成する必要がなく検出部の集積度を飛躍的に高めることができる酵素活性検出用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor with an electrically conductive substrate and a photosensitive layer, the photosensitive layer is formed by mixing at least fine particles having photoconductive property, a solution containing the same atom as the fine particles and an organic photoconductor, sticking the mixture to the substrate and carrying out heat treatment or the photosensitive layer has a phthalocyanine dye sensitizer and a resin binder adsorbed in the voids in sintered zinc oxide.例文帳に追加

導電支持体と感光層とを有する電子写真感光体において、感光層は少なくとも光導電特性を有する微粒子と、該微粒子と同一の原子を含有する溶液と、有機光導電体を混合し基板に付着させ、熱処理を行うことによって形成されたもの、感光層は焼結された酸化亜鉛の空隙間にフタロシアニン系色素増感剤や、バインダー樹脂を吸着させたものである。 - 特許庁

The method of manufacturing a multilayer wiring board for forming a plurality of interlayer insulating layers and wiring on one side or both sides of a core substrate has steps of processing the surface of the wiring with a solution containing an imidazole-type silane coupling agent, cleaning it with water, and then drying it at a temperature of less than 50°C.例文帳に追加

コア基板の片面または両面に、層間絶縁層と配線を複数層形成する多層配線基板の製造方法において、前記配線表面を、イミダゾール系シランカップリング剤を含んだ溶液により処理した後、水洗を行い、さらに５０℃未満の温度において乾燥する工程を有する多層回路基板の製造方法。 - 特許庁

The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加

更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁

A first epitaxial thin film 2 comprising a first material is formed on a substrate 1 at a first predetermined temperature, and then a second epitaxial thin film 6 comprising a second material containing the first material and another material capable of forming a solid solution with the first material in a predetermined component ratio is formed on the first epitaxial thin film 2, and further heat treatment is carried out at a second predetermined temperature.例文帳に追加

第１の所定の温度で、第１の物質からなる第１のエピタキシャル薄膜２を基板１上に形成し、第１のエピタキシャル薄膜２上に第１の物質と、第１の物質と固溶体を形成する他の物質を所定の成分比で含む第２の物質からなる第２のエピタキシャル薄膜６を形成し、第２の所定の温度で熱処理する。 - 特許庁

The water-absorbing composite is obtained by attaching an aqueous solution of a monomer consisting essentially of acrylic acid and/or a salt thereof so as to form a fine particle shape on a water-absorbing composite material obtained by fixing fine particles of a water-absorbing resin on a fibrous substrate, and polymerizing the monomer attached to the water-absorbing composite material.例文帳に追加

吸水性樹脂の微細粒子を繊維質基材に固着してなる吸水性複合材料に、アクリル酸および／またはその塩を主成分とする単量体水溶液を微細粒子状に担持させた後、該吸水性複合材料に担持させた単量体を重合させることを特徴とする吸水性複合体を製造する。 - 特許庁

This self-adhesive sheet 1 provided with a substrate sheet layer 2 and self-adhesive layer 3, is characterized by using a self-adhesive soluble in a neutral or alkaline aqueous solution as a self-adhesive constituting the self-adhesive layer 3 and forming water channels communicating with the sides of the sheet in the self-adhesive layer 3.例文帳に追加

基材シート層２と粘着剤層３とを備える粘着シート１であって、この粘着剤層３を構成する粘着剤として中性水又はアルカリ性水溶液に溶解する粘着剤が用いられており、この粘着剤層３にシート側面に連通する導水路が形成されていることを特徴とするものである。 - 特許庁

The coating device for discharging a solution from a plurality of nozzles 34 provided with a coating head 22 and applying on a substrate has a plugging means 50 capable of simultaneously plugging the partial nozzles 34 of the coating head 22 and providing a plugging part 50A plugging each nozzle 34 in every nozzles constituting the nozzles 34 of the part.例文帳に追加

塗布ヘッド２２に設けた複数のノズル３４から溶液を吐出させて基板に塗布する塗布装置において、前記塗布ヘッド２２の一部のノズル３４を同時に閉塞する閉塞手段５０であって、それら一部のノズル３４を構成する各個のノズル３４をノズル毎に閉塞する閉塞部５０Ａを備えた閉塞手段５０を有するもの。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor device comprises steps of forming an insulating film 14 containing a rare earth element on a semiconductor substrate 1, and conducting a pressurization process of 1 atm or higher in an inert gas atmosphere prior to transport in the atmospheric or solution treatment under the condition that at least a part of the insulating film 14 is exposed.例文帳に追加

半導体基板１上に希土類元素を含む絶縁膜１４を形成する工程と、絶縁膜１４の少なくとも一部が露出した状態で大気搬送若しくは溶液処理を行う前に、不活性ガス雰囲気中で１ａｔｍ以上の加圧処理を行う工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing process of a compound dual wavelength laser including two laser structures, or red and infrared, within a single chip, a GaAs substrate 1 is cleaned, before a second epitaxial growth, in such cleaning liquid as containing sulphuric acid 97 wt%, hydrogen peroxide solution 30 wt%, and water at the ratio of 1:1:50-250, at 20-25°C for 20-50 seconds.例文帳に追加

１チップ内に赤色と赤外の二つのレーザ構造を有する化合物二波長レーザの製造工程において、二回目のエピタキシャル成長前のＧａＡｓ基板１に対する洗浄の際、洗浄液を硫酸９７ｗｔ％、過酸化水素水３０ｗｔ％、水、１：１：５０〜２５０の割合で、温度２０〜２５℃にて２０〜５０秒処理する。 - 特許庁

An arbitrary ceramic, metal, glass, or resin substrate which experiences a high-temperature state at least once during high-temperature use or during assembling as a part is impregnated or coated with a mixture of a peroxo-containing ceramic precursor and a colloidal conductive ultramicroparticle solution, and the ceramic precursor is fired and crystallized at an arbitrary temperature to attain an arbitrary volume resistivity and an arbitrary surface resistivity.例文帳に追加

高温での使用、または部品として組み込み工程で一回以上高温状態になるセラミックス、金属、ガラス、樹脂基板にペルオキソ基を持つセラミックス前駆体とコロイド状の導電性超微粒子溶液を混合した後、含浸または塗布し、任意の温度で焼成、結晶化させて任意の体積抵抗、表面抵抗を得る。 - 特許庁

The release paper 10 is constituted by providing a releasable smoothing layer 2 on one surface of substrate paper and applying a coating solution of a resin composition, which is prepared by uniformly dispersing inorganic and/or organic fine particles in a releasable resin, thereto to form a release layer 3 having fine unevenness with an arithmetic average roughness (Ra) of 0.5-15 μm on its surface.例文帳に追加

離型紙10を、基材紙1 の一方の面に離型性平滑化層２を設け、その上に離型性樹脂に無機及び／又は有機の微粒子を均一に分散させた樹脂組成物の塗布液をコーティングする方法で表面の算術平均粗さ（Ｒa ）が０．５〜１５μｍの微細な凹凸を有する離型層３を形成して構成する。 - 特許庁

This method for manufacturing the polyimide film comprises producing a green film with self supporting property by coating a polyimide precursor solution on a substrate and drying it, and then heat-treating the green film at 150-500°C, wherein a rate of a residual solvent, when it reaches to 200°C in the heat-treating step, is controlled to 3-25 mass% to produce an imide.例文帳に追加

ポリイミド前駆体溶液を支持体上で塗布乾燥して自己支持性を有するグリーンフィルムとなし、ついでグリーンフィルムを１５０〜５００℃にて熱処理するポリイミドフィルムの製法において、熱処理段階にて２００℃に達したときの残存溶媒率を ３〜２５質量％に制御してイミド化するとするポリイミドフィルムの製法。 - 特許庁

In a process of patterning a wiring 210 on a metal plug 206, when a photoresist 218 is removed, impurity is added to oxygen plasma 220 with a ratio of oxygen to impurity at about 1:1 or with the amount of oxygen decreased with respect to that of impurity, and then the photoresist 218 is removed by an oxygen plasma and then a substrate 200 is wet-cleaned with an alkaline solution.例文帳に追加

金属プラグ上に配線をパターニングする工程において、フォトレジストを除去する時に、酸素プラズマ中に不純物を添加し、かつ酸素と不純物との比率を約１：１または酸素含有量が不純物含有量よりも小さくしてから、酸素プラズマによりフォトレジストを除去し、アルカリ性溶液で基板に対する湿式洗浄を行う。 - 特許庁

In a dyeing method of the dyeing object 10 for dyeing by hanging the dyeing object 10 using aluminum worked into a pellicle frame covering the whole surface of a circuit pattern formed on a transparent substrate as a base body on the jig 11 and dipping into a dyeing solution 36, the dyeing is performed while rocking the jig 17, on which the dyeing object 10 is hung.例文帳に追加

透明基板に形成された回路パターンの全面を覆うペリクル枠に加工されるアルミニウムを基体とする染色対象物１０を治具１７に掛けて染色液３６に浸漬し染色処理を行う染色対象物の染色処理方法において、染色対象物１０を掛けた治具１７を揺動させて染色処理を行う。 - 特許庁

This method of treating the tabular substrate for preventing generation of the foreign matters is characterized by supplying an aqueous solution including one or more selected from hydrogen fluoride, ammonium fluoride, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, ammonia, organic alkali, hydrogen peroxide, or ozone, to the back side, before etching, in order to remove the organic material which adheres to the back side, and consequently making the back side hydrophilic.例文帳に追加

エッチング処理前に、裏面に付着した有機物を除去するため、フッ化水素またはフッ化アンモニウム、硫酸、塩酸、硝酸、アンモニア、有機アルカリ、過酸化水素、またはオゾンの中から選ばれた１種以上を含有する水溶液を裏面に供給する事により裏面を親水化することで異物の発生を防止できる。 - 特許庁

The present invention provides a surface coating composition comprising a resin system, and a hydrophobic metal oxide, wherein the composition, after application to a substrate, is characterized by (a) a moisture resistance which is retained for at least about 6 months, (b) a resistance to a 50 wt.% ethanol/water solution, and (c) a gloss level of about 50 gloss units or less.例文帳に追加

本発明は樹脂系、および疎水性の金属酸化物を含む表面被覆用組成物であり、該組成物は、基体に付着された後に、（ａ）少なくとも約６ヶ月間、耐湿性、（ｂ）５０wt％エタノール／水溶液に耐性であり、そして（ｃ）光沢度５０以下の光沢レベル、であることを特徴とする組成物を提供する。 - 特許庁

For example, this negative electrode plate can be obtained by repeating a process immersing a sintered type nickel substrate obtained by sintering powder of metal nickel in a mixed water solution of cadmium nitrate and indium nitrate, drying, carrying out an alkali treatment, washing and drying until a cadmium component which is the main active material reaches almost an specified amount, then performing conversion treatment.例文帳に追加

例えば、この負極板は、金属ニッケルの粉末を焼結して得た焼結式ニッケル基板を、硝酸カドミウムおよび硝酸インジウムの混合水溶液に浸漬し、乾燥、アルカリ処理、水洗、乾燥する工程を、主活物質であるカドミウム成分が略所定量となるまで繰り返し、その後化成処理を行うことにより得ることができる。 - 特許庁

The method for producing the optically active amino acid comprising a step for forming the optically active amino acid by an enzymic reaction of a 5-substituted hydantoin as a substrate by using enzymes comprising a hydantoinase and carbamoylase, and optionally a hydantoin racemase involves carrying out the reaction in an aqueous solution having ≤1.5 ppm dissolved oxygen content.例文帳に追加

５−置換ヒダントインを基質として、ヒダントイナーゼ及びカルバモイラーゼ、並びに任意にヒダントインラセマーゼを含む酵素による反応により光学活性アミノ酸を生成する工程を含む光学活性アミノ酸の製造方法において、前記反応を、溶存酸素量１．５ｐｐｍ以下の水溶液中で行うことを特徴とする製造方法。 - 特許庁

The thin ferroelectric films having uniaxial preferential orientability are manufactured by forming ≥2 kinds of the thin ferroelectric films having a plurality of kinds of the preferential orientability on a polycrystalline Pt film formed on a substrate of any among a single crystal, polycrystals, or amorphous material by using an a chemical solution deposition process and an arc discharge reactive ion plating process.例文帳に追加

化学溶液堆積法とアーク放電反応性イオンプレーティング法を用いて、単結晶、多結晶、非晶質の何れかの基体上に形成された多結晶のＰｔ膜上に、２種類以上の複数種の優先的な結晶配向性の強誘電体酸化物薄膜を形成し、１軸優先配向性の強誘電体薄膜を作製する。 - 特許庁

The method for film forming the organic semiconductor layer comprises the steps of forming an electrically-charged region having the desired pattern on a substrate, and making the electrically-charged region that has the desired pattern absorb the organic semiconductor material, by making the formed electrically-charged region, having the intended pattern contact an organic semiconductor material solution.例文帳に追加

基板の上に所望のパターンの帯電領域を形成する帯電領域形成工程と、形成された所望のパターンの帯電領域を有機半導体材料の溶液に接触させて、該有機半導体材料を該所望のパターンの帯電領域に吸着させる工程と、を含むことを特徴とする有機半導体層の成膜方法。 - 特許庁

A method for producing a functional article comprises forming a primer layer on a substrate and bonding a functional thin film using silanol groups formed on the surface of the primer layer, wherein after the formation of the primer layer, the primer layer is subjected to a treatment selected from the group consisting of contact with an acidic solution having a pH of 0-4, corona discharge, and ultraviolet radiation.例文帳に追加

機能性物品の製法は、基材上にプライマー層を形成し、プライマー層表面に形成されるシラノール基で機能性薄膜との結合を行うもので、プライマー層形成後に、プライマー層に対してｐＨ０乃至４の酸性溶液の接触、コロナ放電、紫外線照射の群から選ばれるいずれかの処理を行うこと。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a raw material compound for La, being more easily heat decomposed/deposited than La(dpm)_3, forming a ferroelectric film even if a substrate temperature is as low as 450°C in producing a PLZT film by CVD supplying the raw material by a solution vaporizing method, and to provide a method for producing the compound and a method for forming the PLZT film.例文帳に追加

溶液気化方式で原料を供給するＣＶＤでＰＬＺＴ膜を製造する方法において、Ｌａ源としてＬａ（ｄｐｍ）_３より熱分解堆積しやすく、基板温度が４５０℃と低くても強誘電性の膜が得られるＬａ原料化合物を特定し、その製法とＰＬＺＴ膜の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a plating device capable of forming a metal plating uniform in film thickness which is capable of reducing the depth of a plating tank, and preventing abnormal consumption of an additive in a plating solution through oxidizing decomposition, or generation of plating defects on a surface of a substrate to be plated or in small pores and grooves formed in the surface caused by the generated oxygen.例文帳に追加

めっき槽の深さ寸法を小さくでき、めっき液中の添加剤が酸化分解し異常に消耗したり、発生する酸素により被めっき基板の表面や該表面に形成された微細な孔や溝中にめっき欠陥が発生することなく、均一な膜厚の金属めっきができるめっき装置を提供すること。 - 特許庁

There is provided the method for producing the 1α,25,26-trihydroxyvitamin D, characterized by treating a substrate solution containing at least one compound selected from the group consisting of vitamin D and vitamin D hydroxylation compounds with a vitamin D hydroxylation enzyme to obtain a 1α,25,26-trihydroxyvitamin D separation product containing 1α,25,26-trihydroxyvitamin D as a main component.例文帳に追加

ビタミンＤ及びビタミンＤ水酸化体からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む基質溶液に、ビタミンＤ水酸化酵素を作用させて、１α，２５，２６−トリヒドロキシビタミンＤを主成分として含む１α，２５，２６−トリヒドロキシビタミンＤ分離物を得ることを特徴とする、１α，２５，２６−トリヒドロキシビタミンＤの製造方法。 - 特許庁

In a photomechanical process in which a planographic printing plate having physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum substrate and a silver halide emulsion layer and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, an amino acid and glycerol or its polymer or saccharides are contained in a developing solution used.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する製版方法において、該現像液中にアミノ酸と、グリセリンもしくはその多量体、又は糖類を含有する事を特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

This substrate-cleaning particle detecting device is provided with a cleaning water spraying nozzle 12 for cleaning a rotating wafer 10 by spraying a cleaning solution W and a HeNe laser oscillating tube 14 and optical detector 16, which constitute a detecting means for detecting particles of this semiconductor wafer 10, while rotating the semiconductor wafer 10.例文帳に追加

洗浄液Ｗを噴射させて回転する半導体ウェーハ１０を洗浄する洗浄水噴射ノズル１２と、半導体ウェーハ１０を回転させてこの半導体ウェーハ１０上のパーティクルを検出する検出手段を構成するＨｅＮｅレーザー発振管１４と光検出器１６とを備えたことを特徴とする基板洗浄パーティクル検出装置。 - 特許庁

To produce a substrate for photographic printing paper using a paper base continuously produced with reduced trouble points and excellent in high- speed workability in coating with a polyolefin resin and giving rolled photographic printing paper having improved suitability to a processing machine, that is, suitability to cutting and conveyance and also having good image quality and good suitability to the infiltration of a developing solution.例文帳に追加

紙基体を連続製造する際の故障点を著しく減少させ、紙基体のポリオレフィン樹脂被覆する際の高速加工性に優れ、ロール状の写真印画紙にした際、現像処理機適性、即ち、裁断性、搬送性等が改良され、また、面質、現像処理液の浸込みも良好な写真印画紙用支持体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of lubricating substrates with silicone includes the steps of: applying an aqueous silicone coating composition, which is aqueous silicon polymer and an effective amount of at least one dispersing agent to disperse the siloxanes throughout the aqueous solution, to the substrate surface; and curing the silicone on the surface.例文帳に追加

水性シリコーン被覆用組成物が水性シリコーン重合体、および上記のシロキサンを水溶液の全体にわたって分散させるのに効果的な量の少なくとも１種の分散剤であることを特徴とする、水性シリコーン被覆用組成物を基材の表面に適用し、この表面上でシリコーンを硬化させる段階を含む、シリコーンによる基材の潤滑方法。 - 特許庁

The optically compensatory plate is obtained by disposing a pressure sensitive adhesive layer or an adhesive layer 4 on an optically compensatory layer 1 having a thickness of 0.1-20 μm formed by applying a polymer solution on a plastic substrate 2 and subjecting the resulting layer to at least one of extension and shrinkage after or during drying to orient the layer.例文帳に追加

ポリマー溶液をプラスチック基材２に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理してなる厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層１の上に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層４を設け、光学補償板とする。 - 特許庁

To provide a cleaning solution capable of efficiently removing particles, such as an impurity metal, an Impurity inorganic material, an abrasive grain, and the like, in surfaces of a metal film or the like formed on a substrate, such as a silicon wafer or the like; and to provide a cleaning method using it.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、シリコンウエハなどの基材上に形成された金属膜などの表面に存在する不純物金属、不純物無機材料、砥粒などのパーティクル等を効率的に除去することができる洗浄液及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a doped electrically conductive polymeric film comprises coating a solution containing an electrically conductive polymer composed of a repeating unit having a ≥4C substituent and a dopant selected from salts capable of oxidizing the polymer at a molar ratio of the dopant to the repeating unit of 2:1 to 1:3 on a substrate, and then, removing the solvent.例文帳に追加

炭素数４以上の置換基を有する繰返し単位からなる導電性高分子と、これを酸化し得る塩から選ばれたドーパントを含み、かつ該繰返し単位に対する該ドーパントのモル比が２：１〜１：３である溶液を、基体に塗布したのち溶媒を除去することを特徴とする、ドープされた導電性高分子薄膜の製造方法。 - 特許庁

In this detection method of the cancer marker, a trapping substance which is a substance for trapping the cancer marker in the protein solution acquired by solubilizing the cell is immobilized on the substrate surface, and the cancer marker which is a protein or a peptide is specifically trapped by an interaction with the trapping substance, and it is discriminated whether an origin cell of the marker is a cancer cell or not.例文帳に追加

基板の表面に細胞を可溶化して得られる蛋白溶液中の癌マーカーを捕捉する物質である捕捉物を固定し、該捕捉物との相互作用により蛋白質又はペプチドである癌マーカーを被捕捉物として特異的に捕捉し、該マーカーの由来細胞が癌細胞であるかどうかを識別する癌マーカーの検出方法。 - 特許庁

The manufacturing method for the optical recording medium is characterized in that when the optical recording medium having a dyestuff recording layer on a substrate is formed by a solution coating method, the dyestuff is dissolved by using the solvent which consists essentially of a fluorinated solvent and with which at least one selected from the group consisting of ketone alcohol, amines, amides, Cellosolves and hydroxyacetylenes is mixed to form the recording layer.例文帳に追加

溶液塗工法により基板上に色素記録層を有する光記録媒体を作成するに際し、フッ素系溶媒を主成分とし、ケトンアルコール、アミン類、アミド類、セロソルブ類、ヒドロキシアセチレン類のうち少なくとも１種を混合した溶剤を用いて色素を溶解し、記録層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 特許庁