「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and an apparatus for forming a metal film, in each of which the metal film, that comprises a metal included in a metal complex dissolved in a solution and has sufficient adhesive strength, is formed on the surface of a base metal film without necessitating any complicated apparatus for treating deleterious substances such as ammonia gas even when a natural oxide film is formed on the surface of the base metal film formed on the surface of a substrate.例文帳に追加

アンモニアガス等の劇物を処理する為の複雑な装置を必要とすることなく、たとえ基板表面に形成した下地金属膜の表面に自然酸化膜が形成されていても、液体中に溶解させた金属錯体に含まれる金属からなる金属膜を下地金属膜の表面に十分な密着力をもって形成できるようにする。 - 特許庁

Further, a methane fermentation treatment is carried out while a carrier holding electrode equipped with a hydrophobic carrier capable of carrying a microorganism on at least a part of an electrode surface and a methane fermentation solution including an organic substrate are brought into contact with each other and the potential of the carrier holding electrode is controlled to +0.3 V based upon a potential at which reduction reaction is caused by the carrier holding electrode or a silver/silver chloride electrode potential.例文帳に追加

また、電極表面の少なくとも一部に微生物を担持し得る疎水性の担体を備えた担体保持電極と有機性基質を含むメタン発酵液とを接触させ、担体保持電極の電位を担体保持電極にて還元反応が生じ得る電位または銀・塩化銀電極電位基準で＋０．３Ｖに制御しながらメタン発酵処理を行うようにした。 - 特許庁

To provide a photocurable composition which can be developed with an aqueous alkali solution and forms a coating film having a low water absorbing property, high hardness and excellent adhesion to a substrate of glass, a metal oxide, a metal or the like as a composition applicable to a transparent member desired in a field of a display device such as a liquid crystal display or a touch panel or in the field of an organic TFT.例文帳に追加

液晶ディスプレイやタッチパネル等の表示装置の分野、又は有機ＴＦＴの分野で所望される透明部材として応用できる組成物として、アルカリ水溶液で現像可能であり、作製した塗膜が、低吸水性、高硬度であり、さらにガラス、金属酸化物及び金属等の基材に対して優れた密着性を有する、光硬化型組成物を提供すること。 - 特許庁

In the method for repairing concrete where a crack generated on the surface of concrete is repaired, a substrate treatment agent composed of an aqueous solution comprising an alkali metal silicate is applied and is infiltrated into the crack, and then, a putty material in which lithium silicate is dissolved and an inorganic filler is dispersed is packed into the crack, so as to repair the same.例文帳に追加

コンクリート表面に生じたひび割れを補修するコンクリートの補修方法であって、アルカリ金属ケイ酸塩を含有する水溶液からなる下地処理剤を塗布して前記ひび割れの内部に浸入させてから、ケイ酸リチウムが溶解し無機フィラーが分散したパテ材を前記ひび割れの内部に充填して補修することを特徴とするコンクリートの補修方法である。 - 特許庁

This manufacturing method of optical recording medium comprises a process in which a first dielectric layer, a light absorption layer and a second dielectric layer are laminated successively on a supporting substrate, a process in which a laser beam is emitted and information is recorded, and a process in which an unrecorded part of the second dielectric layer is eliminated by solution etching and it is processed in a convex type.例文帳に追加

光記録媒体の製造方法において、支持基板上に第１の誘電体層、光吸収層、第２の誘電体層を順次積層する工程、レーザー光を照射し情報を記録する工程、溶液エッチングにより第２の誘電体層の未記録部分を除去し凸状に加工する工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The electrophotographic image forming member contains a substrate, charge generating layer, charge transfer layer and overcoat layer, and the overcoat layer is formed from a solution containing a first crosslinking binder containing no methoxymethyl groups for the formation of a polyamide coating film, and if necessary, a second crosslinking binder containing methoxymethyl groups for the formation of a polyamide coating film, catalyst for crosslinking, and hole transfer material.例文帳に追加

基板と、電荷発生層と、電荷輸送層と、オーバーコート層とを含み、前記オーバーコート層を、メトキシメチル基を含まない第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、必要に応じて、メトキシメチル基を含む第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、架橋用触媒と、正孔輸送材料とを含む溶液から形成する、電子写真用画像形成部材である。 - 特許庁

The manufacturing process of an organic EL display device comprises a step of feeding an organic solvent 31 on to an underlying layer 25 provided on one main surface of a substrate and a subsequent step of ejecting a solution 32 containing an organic material on the underlying layer 25 by an ink-jet system to form an organic material layer 28R containing the organic material.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板の一方の主面上に設けられた下地層２５上に有機溶剤３１を供給する工程と、その後に、有機材料を含有した溶液３２をインクジェット方式により前記下地層２５上に吐出して前記有機材料を含有した有機材料層２８Ｒを形成する工程とを含んだことを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a microfabricated pattern provided with an excellent profile and satisfactory characteristics to be required, in a method for contracting the intervals of the photoresist pattern by disposing a water soluble resin coating on the photoresist pattern formed on a substrate surface and subsequently heat treating it, by preventing a solution residue from being caused in removing the water soluble resin coating after contraction treatment.例文帳に追加

基板表面に形成したホトレジストパターン上に水溶性樹脂被覆を設けたのち、これを熱処理してホトレジストパターン間隔を収縮させる方法において、収縮処理後の水溶性樹脂被覆の除去に際し、溶解残留分の発生を防止し、良好なプロファイル及び満足すべき要求特性を備えた微細化パターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

This method for producing synthetic leather having a soft feeling comprises coating a peelable sheet with a solution or a water dispersion of a urethane-based thermoplastic resin to form a coating film, discontinuously coating the coating film with a hot-melt type adhesive composed of a thermoplastic resin by melting the adhesive by heating and sticking the coating film to the fibrous substrate while the adhesive is in a molten state.例文帳に追加

離型性シート上にウレタン系熱可塑性樹脂溶液または水分散液が塗布されて被膜が形成され、前記被膜上に熱可塑性樹脂からなるホットメルト型接着剤が加熱により溶融されて不連続に塗布され、前記接着剤が溶融状態にあるときに繊維質基材と貼り合わせてなるソフトな風合いを有する合成皮革の製造方法 - 特許庁

The lithographic printing plate material having an image forming layer comprising at least one selected from a hot-melt particle and a microcapsule and a water-soluble resin on a hydrophilic substrate, is characterized in that a water solution with 10 mass% at 25°C has a viscosity of 50×10^-3Pa s to 1,000×10^-3Pa s.例文帳に追加

親水性支持体上に、熱溶融性粒子および、マイクロカプセルから選ばれた少なくとも１種と水溶性樹脂とを含有する画像形成層を有する平版印刷版材料であって、前記水溶性樹脂が、２５℃における１０質量％水溶液が５０×１０^-3Ｐａ・ｓ〜１０００×１０^-3Ｐａ・ｓの粘度を有することを特徴とする平版印刷版材料。 - 特許庁

This method for synthesizing the cell-free protein by a cell-free protein-synthetic system containing a ribosome, a mRNA, an amino acid of a substrate, ATP and GTP in an aqueous buffer solution comprises carrying out a feeding operation of the ATP and creatine phosphate to the synthesizing system while keeping the cell-free synthetic system after starting the synthetic reaction to carry out the continuous synthesis of the protein.例文帳に追加

リボゾーム、ｍＲＮＡ、基質のアミノ酸、ＡＴＰ及びＧＴＰを水性緩衝液中に含む無細胞タンパク質合成系にてタンパク質を合成する方法であって、合成反応の開始後無細胞合成系を維持する間に、ＡＴＰ及びクレアチンリン酸を前記合成系に供給する操作を行うことによってタンパク質の連続合成を行う、無細胞タンパク質合成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that can be micro-processed since it has photosensitivity, is developable with a diluted alkali aqueous solution and curable at a low temperature (200°C or lower), has high flexibility, excellent electric insulation reliability, solder heat resistance and organic solvent resistance, has little warpage of a substrate after being cured and excellent adhesiveness with a sealing agent.例文帳に追加

本願発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To obtain a titanium oxide thin film improved in photocatalytic performance through being imparted with crystal orientation by hydrolyzing a tetra- lower alkoxytitanium's ethylene glycol monomethyl ether solution followed by adding polyvinylpyrrolidone to the resultant sol and then coating the surface of a heat-resistant substrate with the sol which is then baked.例文帳に追加

テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することによって酸化チタン薄膜を製造する方法において、結晶配向性を有ししかも光触媒性能を一段と向上せしめた酸化チタン薄膜を与え得る方法を提供する。 - 特許庁

When a formed image is modified after making a printing plate by forming the image on a printing plate material having at least one layer of heat fusible fine particle or an image forming functional layer containing the heat fusible fine particle on a substrate, the method is characterized by amending by applying silicone rubber solution to the image part.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層の熱溶融性微粒子または熱融着性微粒子を含有する画像形成機能層を有する印刷版材料に画像形成して印刷版を作製した後に形成した画像を修正する際、画像部分にシリコーンゴム溶液を塗布して修正することを特徴とする印刷版画像の修正方法と消去方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical recording medium having at least a light absorption layer on the substrate and the optical recording medium obtained by this manufacturing method, in which the light absorption layer is formed by using a solution prepared by dissolving the phthalocyanine compound having a heterocyclic group including ≥2 nitrogen atoms and/or a -OR group into a solvent mixture expressed by formula AxByCzDw.例文帳に追加

基板上に少なくとも光吸収層を有する光記録媒体の製造方法、および該製造方法で得た光記録媒体において、光吸収層が窒素原子を２つ以上含む複素環基、および／または−ＯＲ基を有するフタロシアニン系化合物を式ＡｘＢｙＣｚＤｗで表わされる混合溶媒に溶解した溶液を用いて製膜する。 - 特許庁

The method for cleaning a reflective photomask blank, which has a conductive film essentially comprising Cr formed on one surface of a glass substrate, comprises etching the conductive film by using an aqueous solution of diammonium cerium nitrate in an etching amount of 10 nm to L-20 nm, wherein L (nm) represents the film thickness of the conductive film.例文帳に追加

ガラス基板の一方の面にＣｒを主成分とする導電膜が形成された反射型マスクブランクスの洗浄方法であって、前記導電膜の膜厚をＬ（ｎｍ）とするとき、エッチング量が１０ｎｍ以上、Ｌ−２０ｎｍ以下となるように、硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液を用いて該導電膜をエッチング処理することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 - 特許庁

The semiconductor device includes: a plurality of first wiring layers 12 formed on an optional level layer on a substrate and formed of patterns having wiring widths and pitches smaller than those of a solution limit of an exposure technology; and second wiring layers 14 formed between the plurality of first wiring layers 13 in the same level layer and having a wiring width larger than that of each of the first wiring layers 13.例文帳に追加

半導体装置は、基板上の任意のレベル層に設けられ、かつ露光技術の解像限界より小さい配線幅及び間隔を有するパターンで形成された複数の第１の配線層１２と、同一レベル層内で複数の第１の配線層１３の間に設けられ、かつ第１の配線層１３より大きい配線幅を有する第２の配線層１４とを含む。 - 特許庁

The original plate for heat-sensitive lithographic printing with a hydrophilic layer containing heat-fusible hydrophobic thermoplastic finely divided particles and a hydrophilic binder on a substrate with an anodized film is characterized by that micropores of the anodized film are pore-wide- treated and is immersion-treated in a water solution containing a hydrophilic compound.例文帳に追加

陽極酸化皮膜を有する支持体上に、熱により溶融する疎水性熱可塑性微粒子および親水性バインダーポリマーを含有する親水層を有する感熱性平版印刷用原板であって、該陽極酸化皮膜がマイクロポアをポアワイド処理され、かつ親水性化合物を含有する水溶液に浸漬処理されていることを特徴とする感熱性平版印刷用原板。 - 特許庁

In the anode 32 for electroplating which faces the coating surface of the substrate W and is arranged in a plating solution Q, a first insoluble anode 36 comprising a first insoluble material and a second insoluble anode 38 comprising a second insoluble material having an oxygen generation overvoltage different from that of the first insoluble material are electrically conducted to each other and arranged in a planar state.例文帳に追加

基板Ｗの被めっき面に対向してめっき液Ｑ中に配置される電気めっき用アノード３２であって、第１の不溶性材料から構成される第１の不溶性アノード３６と、第１の不溶性材料と酸素発生過電圧が異なる第２の不溶性材料から構成される第２の不溶性アノード３８とを、互いに導通させて平面状に配置した。 - 特許庁

The ink jet coating device 10 comprising a head 9 having a plurality of nozzles for coating a substrate W with solution by ink jet system is further provided with a stripe wiping cloth 12 exhibiting absorptivity, a feeding mechanism 16 for feeding out the wiping cloth 12 in front of the nozzle surface 20 of the ink jet head 9, and a roller 43 for pressing the wiping cloth 12 against the nozzle surface 20.例文帳に追加

基板Ｗに溶液をインクジェット方式によって噴射塗布する複数のノズルを有するヘッド９を備えたインクジェット塗布装置１０において、吸水性を有する帯状のワイピングクロス１２と、ワイピングクロス１２をインクジェットヘッド９のノズル面２０の前面に張り出す繰り出し機構１６と、ワイピングクロス１２をノズル面２０に押し付けるローラ４３を有するもの。 - 特許庁

An adhesive cell 13 selectively adhesively cultivated on the surface of a cell adhesive film pattern 12 on a substrate 11 is exposed to a cultivation solution dissolving a chemical substance to be tested for cytotoxicity, the camp concentration change within the adhesive cell is then measured for every cell by use of nondestructive method, and the toxicity of the chemical substance to be tested for cytotoxicity is quantitatively determined on the basis of the result.例文帳に追加

基板１１上の細胞接着性膜パターン１２表面上に選択的に接着培養し接着性細胞１３を、被毒性試験化学物質を溶解した培養液中に一定時間暴露した後、その接着性細胞内のcAMP濃度変化を細胞毎に非破壊的手法を用いて計測し、その結果に基づき、被毒性試験化学物質の毒性を定量する。 - 特許庁

This alkali-soluble conductive paste composition contains (A) an alkaline-soluble polymer binder, (B) a conductive metal powder, and (C) an organic acid, and this is suitably used for the method of construction in which a layer of the alkali-soluble conductive paste composition formed on the substrate is patternized via the pattern of the conductive paste which is insoluble in an alkaline aqueous solution provided on the upper layer.例文帳に追加

本発明のアルカリ可溶性導電性ペースト組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性高分子バインダー、（Ｂ）導電性金属粉、および（Ｃ）有機酸を含むことを特徴とし、基材上に形成したアルカリ可溶性導電性ペースト組成物の層が、その上層に設けたアルカリ水溶液に不溶な導電性ペーストのパターンを介してパターン化される工法に好適に用いられる。 - 特許庁

In the growing process, Ga element is supplied from the GaN substrate 10 in a solution of Ga element and the flux, consequently lowering of the Ga concentration in the flux associated with the growth in the surface side can be suppressed, the ratio of Ga element in the flux can be made constant, and flux-constituting elements such as Na or Li can be prevented from being taken into the crystal.例文帳に追加

成長工程において、Ｇａ元素とフラックスとの溶液では、Ｇａ元素がＧａＮ基板１０から供給されるので、表面側成長に伴うフラックス中のＧａ濃度の低下を抑制でき、フラックス中のＧａ元素比を一定にすることができ、ＮａやＬｉなどのフラックス構成元素が結晶中に取り込まれるのを防止することができる。 - 特許庁

To provide a flexible photosensitive resin composition allowing microfabrication because of its photosensitivity, developable by a dilute aqueous alkaline solution, curable at a low temperature (200°C or less), capable of dispensing with the use of a siloxane diamine, excellent in electric insulation reliability, soldering heat resistance and organic solvent resistance, capable of reducing a warpage of a substrate after being cured, and having excellent adhesiveness with a sealant.例文帳に追加

本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、シロキサンジアミンを用いずに、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

The method of granting metal ultrafine particles mainly made of silver dispersed in water and/or an organic solvent as metal colloid on a substrate and developing conductivity at the metal ultrafine particle containing part provided is to treat the metal ultrafine particle containing part in an aqueous solution of 60°C or more containing dicarboxylic acid with the carbon number of 3 or more.例文帳に追加

基材上に、水及び／または有機溶媒中に金属コロイドとして分散されている主に銀からなる金属超微粒子を付与し、設けられた金属超微粒子含有部に導電性を発現する方法であり、該金属超微粒子含有部に炭素数３以上のジカルボン酸を含有する６０℃以上の水溶液で処理する事を特徴とする導電性発現方法。 - 特許庁

A substrate is cleaned using a basic aqueous solution having at least one hydroxyl group in one molecule, containing a nonionic surface active agent whose HLB is 12 or larger and 20 or smaller and benzotriazol or its derivative, and the oxidizing/reducing potential of hydrogen electrode criterion at 25°C is about -1,200 mV or higher and 100 mV or lower or about 400 mV or higher and 1,200 mV or lower.例文帳に追加

１分子中に少なくとも１つの水酸基を有し、ＨＬＢが１２以上２０以下の非イオン界面活性剤と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、を含有し、２５℃における水素電極基準の酸化還元電位が略−１２００ｍＶ以上１００ｍＶ以下または略４００ｍＶ以上１２００ｍＶ以下の塩基性水溶液を用いて基板を洗浄する。 - 特許庁

A GaN crystal thin film (especially GaN crystal thin film) 1 of thickness 100 μm or less which is formed as an independent thin film by a solution growth method, or the like, is jointed onto a substrate 2, to provide a crystal growth base material comprising one surface 1b of the thin film as a start surface for growing GaN crystal, on which the GaN crystal is grown.例文帳に追加

溶液成長方法等によって単独の薄膜として形成された厚さ１００μｍ以下のＧａＮ系結晶薄膜（特にＧａＮ結晶薄膜）１を、基板２上に接合し、該薄膜の一方の面１ｂをＧａＮ系結晶を成長させるための出発面として有する結晶成長用基材を得、その上にＧａＮ系結晶を成長させる。 - 特許庁

The method includes: a step of forming a polymide film on a supporter; a step of forming the ceramic film such as ITO or titania on the polymide film by applying a solution of a metal salt such as a metal alkoxide or metal chloride salt to the polymide film and heating it to 500°C or higher; and a step of transferring the ceramic film on the low heat-resistant substrate such as a plastic.例文帳に追加

支持体上にポリイミド膜を形成する工程と、 その上に金属アルコキシドや金属塩化物塩などの金属塩の溶液を塗布した後、５００℃以上に加熱することにより、前記ポリイミド膜上にＩＴＯやチタニアなどのセラミック膜を形成する工程と、 前記セラミック膜をプラスチック等の低耐熱性の基材上に転写する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a film of a block copolymer, including at least two kinds of polymers, on a substrate; heating the block copolymer film; irradiating the heated block copolymer film with UV light; and supplying a developing solution to the UV light-irradiated block copolymer film.例文帳に追加

少なくとも２種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、加熱された前記ブロック共重合体の膜に紫外光を照射するステップと、紫外光の照射を経た前記ブロック共重合体の膜に現像液を供給するステップとを含むパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

The aluminum foil for the container has an anodic oxide film with a thickness of 20 nm or more but 700 nm or less formed on the surface of a foil substrate consisting of aluminum or an aluminum alloy, wherein the anodic oxide film has a porosity of 20% or less, and is formed by direct-current electrolysis in an alkaline aqueous solution with a pH of 8 or higher.例文帳に追加

本発明に係る容器用アルミ箔は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる箔基材の表面に、膜厚２０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の陽極酸化皮膜が形成されており、前記陽極酸化皮膜の有孔率が２０％以下とされ、ｐＨ８以上のアルカリ性水溶液を用いた直流電解処理により形成されたことを特徴としている。 - 特許庁

The aluminum foil for the container has an anodic oxide film with a thickness of 30 nm or thicker but 500 nm or thinner formed on the surface of a foil substrate consisting of aluminum or an aluminum alloy, wherein the anodic oxide film has a porosity of 5% or less, and is formed by direct-current electrolysis in an alkaline aqueous solution with a pH of 9 or higher.例文帳に追加

本発明に係る容器用アルミ箔は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる箔基材の表面に、膜厚３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の陽極酸化皮膜が形成されており、前記陽極酸化皮膜の有孔率が５％以下とされ、ｐＨ９以上のアルカリ性水溶液中で直流電解処理して形成されたものであることを特徴としている。 - 特許庁

A manufacturing method of thin polarizing film in the invention includes: a step for making a laminate 10 by forming a polyvinyl alcohol resin layer 12 on a thermoplastic resin substrate 11 that is made of a polyethylene terephthalate resin having a repeating unit (isophthalic acid) represented by a general formula (I); and a step for applying underwater stretching to the laminate 10 in a boric acid solution.例文帳に追加

本発明の薄型偏光膜の製造方法は、一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位（イソフタル酸ユニット）を有するポリエチレンテレフタレート系樹脂で構成された熱可塑性樹脂基材１１上に、ポリビニルアルコール系樹脂層１２を形成して、積層体１０を作製する工程と、積層体１０をホウ酸水溶液中で水中延伸する工程とを含む。 - 特許庁

To provide an organosilane compound crystallizing and forming a thin film by a simple method using a solution process, firmly adsorbing the resultant thin film on the surface of a substrate, preventing physical peeling and preparing the thin film having high orderliness (crystallinity), highly dense packing characteristics and excellent electroconductive characteristics and to provide a method for producing the compound.例文帳に追加

溶液プロセスを用いた簡便な方法により結晶化させて薄膜を形成できるとともに、得られた薄膜を基板表面に強固に吸着させて、物理的な剥がれを防止し、かつ、高い秩序性（結晶性）、高密パッキング特性、および優れた電気伝導特性を有する薄膜を作製可能な有機シラン化合物およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing a tilt-alignment retardation film includes: a step of applying a liquid crystal composition solution containing one or more polymerizable liquid crystal compounds, a leveling agent and a solvent on a substrate to form a coating layer; and a step of drying the coating layer under the condition of heat quantity Q satisfying 100<Q<300 to form a liquid crystal solidified layer with tilt alignment.例文帳に追加

１種以上の重合性液晶化合物と、レベリング剤と、溶媒と、を含む液晶組成物溶液を基材上に塗布して、塗布層を形成する塗布工程、及び、熱量Ｑが、１００＜Ｑ＜３００となる条件下で該塗布層を乾燥して、傾斜配向した液晶固化層を形成する乾燥工程、を有する傾斜配向フィルムの製造方法により、上記課題が解決される。 - 特許庁

This photoresist pattern forming method is carried out in such a manner that a photoresist film 12 formed of chemical sensitizing photoresist is applied on a semiconductor substrate 11, and a surfactant water solution which contains hydrophilic groups is applied on the photoresist film 12 to form a surfactant layer 18, at a stage precing PEB treatment, that is carried out for promoting an elimination reaction of a protective group in the photoresist film 12.例文帳に追加

開示されているフォトレジストパターンの形成方法は、化学増幅系フォトレジストからなるフォトレジスト膜１２を半導体基板１１上に塗布した後に、フォトレジスト膜１２内の保護基の離脱反応を促進するためのＰＥＢ処理より前の段階で、フォトレジスト膜１２上に親水基を含有する界面活性剤の水溶液を塗布して界面活性剤層１８を形成する。 - 特許庁

The thermal transfer image receiving sheet is obtained by a method wherein an ink receiving layer forming solution having a first constituent of the polyester resin, a second constituent of a curing agent for curing the polyester resin, a third constituent of a silica made hydrophobic, a fourth constituent of a hydrophobic ethyl cellulose and a fifth constituent of a solvent is applied on the surface of the substrate and dried.例文帳に追加

熱転写基板の表面にインク受容層を設けた熱転写受像シートにおいて、第１成分がポリエステル樹脂、第２成分がポリエステル樹脂を硬化させるための硬化剤、第３成分が疎水化したシリカ、第４成分が疎水性のエチルセルロース及び第５成分が溶剤からなるインク受容層形成溶液を基板表面に塗布、乾燥して得られる熱転写受像シート。 - 特許庁

In this manufacturing method of the organic thin film transistor for forming an organic semiconductor thin film by supplying the solution of an organic semiconductor material onto a substrate having an source-drain electrode formed in advance and volatilizing a solvent, the surface of the source-drain electrode is modified by an organic compound, and a compound represented by general formula (1) is used as the organic semiconductor material.例文帳に追加

予めソース・ドレイン電極を形成された基板上に有機半導体材料の溶液を供給し、溶媒を揮発させることにより有機半導体薄膜を形成する有機薄膜トランジスタの製造方法において、ソース・ドレイン電極の表面を有機化合物により修飾し、且つ有機半導体材料として下記一般式（１）で示される化合物を用いる。 - 特許庁

In the method for measuring the interaction of the physiologically active substance fixed on the surface of the substrate with the substance to be examined, a calibration curve using a base line value obtained by repeatedly measuring the same solution is formed and the measured value of the substance to be examined is calibrated by the calibration curve to obtain the interaction signal of the substance to be examined.例文帳に追加

基板の表面に固定された生理活性物質と被験物質との相互作用を測定する方法において、同一の溶液を繰返し測定して得られたベースライン値を使用した較正曲線を作成し、前記較正曲線にて前記被験物質の測定値を較正し、前記被験物質の相互作用信号を得ることを特徴とする測定方法。 - 特許庁

This is the coating solution for forming the transparent electroconductive layer on a transparent substrate wherein a solvent and noble metal fine particles having the average particle diameter 1 to 100 nm dispersed in this solvent, and the solvent contains 25 to 70 wt.% of low boiling point solvent(s) (for example, acetone) having the vapor pressure of 26.66 to 53.33 kPa at 25°C.例文帳に追加

溶媒およびこの溶媒に分散された平均粒径１〜１００ｎｍの貴金属微粒子を主成分とし、透明基板上に透明導電層を形成するための透明導電層形成用塗液であって、上記溶媒が、２５℃での蒸気圧が２６．６６〜５３．３３ｋＰａである低沸点溶媒（例えばアセトン）を２５〜７０重量％含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the release sheet, the release agent layer obtained by applying/curing on the substrate a solution of a release agent composition containing 35-99 wt.% of 1,4-polybutadiene as a solid content, 1-65 wt.% of a saturated polyester resin having a hydroxy group as a solid content, and 0.1-50 wt.% of a crosslinking agent in the solid content.例文帳に追加

基材上に、固形分中の含有量として３５〜９９重量％の１，４−ポリブタジエン、固形分中の含有量として１〜６５重量％の水酸基を持った飽和ポリエステル樹脂、及び固形分中の含有量として０．１〜５０重量％の架橋剤を含む剥離剤組成物の溶液を塗工・硬化させてなる剥離剤層を設けた剥離シートとする。 - 特許庁

The method for manufacturing a pattern includes the step of applying the positive photosensitive resin composition on a supporting substrate and drying it, the step of exposing the photosensitive resin film obtained by the drying step, the step of implementing development using an alkali solution to remove the exposure portion of the photosensitive resin film after the exposure, and the step of heat-treating the photosensitive resin film after the development.例文帳に追加

前記のポジ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、前記乾燥工程により得られた感光性樹脂膜を露光する工程、前記露光後の感光性樹脂膜の露光部を除去するためにアルカリ水溶液を用いて現像する工程、及び前記現像後の感光性樹脂膜を加熱処理する工程を含むパターンの製造方法。 - 特許庁

In a nickel electrode which is formed by filling an active material made mainly of nickel hydroxide in a substrate composed of a conductive porous body, a covering layer which is made of a solid solution of cobalt hydroxide, nickel hydroxide, and a hydroxide of at least one kind of an element selected from among the group of Y, Al, Mn, and lanthanoid element is formed on the surface of the active material made of the nickel hydroxide.例文帳に追加

導電性多孔体よりなる基板に水酸化ニッケルを主体とする活物質を充填してなるニッケル極において、前記水酸化ニッケルを主体とする活物質表面に、水酸化コバルト、水酸化ニッケル、ならびに、Ｙ，Ａｌ，Ｍｎおよびランタノイド元素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の水酸化物の固溶体よりなる被覆層が形成されているもの。 - 特許庁

When peeling the plated Sn layer from a workpiece W having the plated Sn layer formed on the surface of a copper substrate, this peeling method includes immersing the workpieces W into an oxidative solution 13, and anodically electrolyzing the workpieces W while peeling off overlapping parts of the workpieces W from each other and also rubbing them against each other by rotating and stirring the workpieces W to effectively remove the plated Sn layer.例文帳に追加

銅基材の表面にＳｎメッキ層が形成されたワークＷからＳｎメッキ層を剥離するに際して、ワークＷを酸化性溶液中１３に浸漬し、回転攪拌することによってワークＷ同士が重なりあった部分の引き剥がすとともに互いに擦り合わせながら、ワークＷを陽極電解することによってＳｎメッキ層を効率良く除去する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in sensitivity with respect to an exposure light source having the wavelength of 405±10 nm and resolution, having satisfactory tenting properties, and capable of being developed by an alkali aqueous solution, a photosensitive resin laminated body using the photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern on the substrate using the photosensitive resin stacked body, and the use of the resist pattern.例文帳に追加

４０５±１０ｎｍの波長の露光光源に対する感度、解像度に優れ、テンティング性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。 - 特許庁

A cellulose mixed ester film is produced by dissolving a cellulose mixed ester in an organic solvent mixture containing dichloromethane as a main solvent, casting the obtained cellulose mixed ester solution on a substrate and peeling the film from the substrate.例文帳に追加

セルロース混合エステルをジクロロメタンを主溶媒とする有機溶媒混合物に溶解して得られたセルロース混合エステル溶液を、支持体上に流延した後に、剥離してセルロース混合エステルフィルムを作製するセルロース混合エステルフィルムの製造方法であって、 前記セルロース混合エステルがリンターを原料とし、下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）で規定されたアシル置換度を有するセルロース混合エステルであり、かつ前記有機溶媒混混合物が炭素数３以下である脂肪族アルコールを全有機溶媒混合物中の１６〜３０質量％含有することを特徴とするセルロース混合エステルフィルムの製造方法。 - 特許庁