「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

In this decorating method which has a stage of applying an inorganic coating material consisting of an aqueous solution of water-soluble alkali metal silicate on the surface of a substrate 1, patterned parts containing a hardener which hardens the alkali metal silicate on at least a part of the surface of the substrate 1 are formed and, subsequently, the inorganic coating material is applied so as to cover at least the patterned parts.例文帳に追加

基材１の表面に水溶性アルカリ金属珪酸塩の水溶液よりなる無機塗料を塗布する工程を有する加飾方法において、該基材の表面の少なくとも一部にアルカリ金属珪酸塩を硬化させる硬化剤を含有した模様部を形成し、次いで、少なくとも該模様部を覆うように前記無機塗料を塗布することを特徴とする無機塗料を用いた加飾方法。 - 特許庁

In the inkjet recording material having an ink accepting layer formed on at least one side of a substrate, a coating solution which comprises: a modified polyvinyl alcohol containing silica as inorganic particles and a 4-or-less C α-olefin unit of 1-20 mol% as a binder; and also a composite emulsion of colloidal silica, is applied to/dried on the substrate to form the ink accepting layer.例文帳に追加

支持体の少なくとも片面にインク受理層を形成したインクジェット記録材料において、無機粒子としてシリカを含有し、かつバインダーとして炭素数４以下のα−オレフィン単位を１〜２０モル％含有する変性ポリビニルアルコール及びコロイダルシリカ複合エマルジョンを含有する塗液を支持体に塗布・乾燥してインク受理層を形成してなることを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁

In the method of reprocessing the semiconductor substrate, an embrittlement layer and a semiconductor layer remaining on a periphery of the film-separated semiconductor substrate are selectively removed with use of a mixture solution containing a material which functions as an oxidant which oxidizes a semiconductor, a material which resolve an oxide of the semiconductor, and a material which functions as a moderator for oxidation of the semiconductor and for dissolution of the oxide of the semiconductor.例文帳に追加

半導体を酸化する酸化剤として機能する物質と、半導体の酸化物を溶解する物質と、半導体の酸化及び半導体の酸化物の溶解の減速剤として機能する物質と、を含む混合溶液を用いて、分離後の半導体基板の周辺部に残存した脆化層及び半導体層を選択的に除去することを特徴とする半導体基板の再生処理方法である。 - 特許庁

A drying apparatus and a drying method are characterized in that a lid for suppressing drying is arranged directly above each pixel when drying a coating film in a method of manufacturing a functional element including a drying step in which a solvent-containing coating solution for forming the functional layer is applied to the inside of the partition wall formed on a substrate to form the coating film on the substrate and then the coating film is hardened by drying.例文帳に追加

溶媒を含む機能層形成用塗工液を、基板上に形成された隔壁内部に塗布することにより基板上に塗膜を形成した後、前記塗膜を乾燥させて固化させる乾燥工程を有する機能性素子の製造方法において、乾燥時に各画素の直上に乾燥を抑えるための蓋を配置することを特徴とする乾燥装置および乾燥方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method of the lithographic printing plate material having at least the undercoat layer, the hydrophilic layer and an image forming layer on the plastic substrate, the material has the hydrophilic layer formed by applying the hydrophilic layer coating solution containing the organic titanium compound onto the undercoat layer having the hydroxy group and provided on the plastic substrate, and by drying it.例文帳に追加

プラスチック支持体上に、少なくとも、下引き層、親水性層、画像形成層、を有する平版印刷版材料の作製方法において、該平版印刷版材料がプラスチック支持体上に設けられた水酸基を有する下引き層上に、有機チタン化合物を含有する親水性層塗布液を塗布、乾燥することにより形成される親水性層を有することを特徴とする平版印刷版材料の作製方法。 - 特許庁

The method for forming a circuit pattern includes steps of: exfoliating resist by dissolving the resist film on the circuit board after forming patterns by an exfoliating solution including dodecylbenzenesulfonic acid; surface activating the surface of a substrate by cyanide sodium after alcohol-defatting the substrate after the resist exfoliation step; and cleaning the circuit board with its surface activated by the surface activation step.例文帳に追加

ドデシルベンゼンスルホン酸を含む剥離液により、パターン形成工程後の回路基板に対し、レジスト膜を溶解するレジスト剥離工程、上記レジスト剥離工程後の回路基板をアルコール脱脂した後、青化ソーダにより基板表面を活性化する表面活性化工程、上記表面活性化工程により表面の活性化された回路基板を洗浄する洗浄工程、により回路パターンを形成する。 - 特許庁

The liquid film is fed and made to flow downward of the tilt angle and then irradiated with visible rays while permeating an oxygen-containing gas through the substrate, and an oxygen-coordinate-bonded complex solution is retrieved from the bottom of the substrate.例文帳に追加

一酸化炭素を配位した錯体を含有する溶液を傾斜した気体透過性液膜支持体の上部から浸透させて液膜とし、この浸透液膜を供給して傾斜角下方向に流動させ、前記気体透過性支持体に酸素含有気体を透過させながら前記浸透液膜に可視光を照射し、前記気体透過性支持体下部より酸素が配位結合した錯体溶液を回収する方法。 - 特許庁

The biosensor chip includes a sensing section for detecting any target substance through mutual reaction between the above target substance and a sensed substance, a substrate circuit electrically-connected with the above sensing section, a channel section for providing a solution-like matter containing the above target substance to the above sensing section, and a cover combined with the above substrate circuit to cover both the above channel section and sensing section.例文帳に追加

本発明は、バイオセンサチップに関し、ターゲット物質と感知物質との間の相互反応によって、前記ターゲット物質を検出するセンシング部と、前記センシング部と電気的に接続された基板回路部と、前記ターゲット物質を含む溶液性物質を前記センシング部に提供するチャンネル部と、前記基板回路部と結合して前記チャンネル部及びセンシング部を覆うカバーと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The organic semiconductor thin film formed on a substrate comprises a first region formed by patterning with surface treatment provided by the surface preparation agent expressed by the general formula 1, and a second region adjacent to the first region and different from the first region; and the organic semiconductor thin film is patterned by a volatilization of a solvent of the solution in the supplied organic semiconductor solution on the first region.例文帳に追加

基板上に形成された有機半導体薄膜において、下記一般式（１）で表される表面処理剤により、表面処理が施されパターン化された第１の領域が形成され、該第１の領域に近接し、第１の領域とは異なる第２の領域が形成され、第１の領域の上に、有機半導体の溶液を供給し、溶液中の溶液の溶媒の揮発によりパターン化された有機半導体薄膜が形成されることを特徴とする有機半導体膜。 - 特許庁

To provide a device and method for forming a finger electrode directly on a cell substrate by using a coating head having a plurality of nozzle holes which discharge a solar cell finger electrode material as a coating solution, and an affordable, highly reliable coating head which excels in productivity making it applicable in other fields.例文帳に追加

太陽電池のフィンガー電極材料を塗布溶液として吐出する複数のノズル孔をもつ塗布ヘッドを用いてセル基板上に直接にフィンガー電極を形成する形成装置及び形成方法と他分野に展開可能な生産性に優れ低価格で信頼性が高い塗布ヘッドを提供する。 - 特許庁

This is the separator whose substrate part consists of polyolefinic resin 20 to 80 wt.% and inorganic powder 80 to 20 wt.%, and which is the separator for the nonaqueous electrolytic solution battery characterized that it is composed of a mineral material containing a porous membrane wherein at least a surface part of one side is substantially consisting of polyolefinic resin only.例文帳に追加

基体部分がポリオレフィン系樹脂２０〜８０質量％と無機粉体８０〜２０質量％で構成され、かつ、少なくとも片面の表面部が実質的にポリオレフィン系樹脂のみで構成される無機質含有多孔膜からなることを特徴とする非水電解液電池用セパレータである。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus, which performs prescribed treatment on a wafer W, is provided with a treating section 10 which performs etching on the wafer W, another treating section 27 which supplies a fluorine- based inert liquid, isopropyl alcohol(IPA) which is an organic solvent, and a processing solution containing hydrofluoric acid to the wafer W set up in the treating section 10.例文帳に追加

ウエハＷに所定の処理を行う基板処理装置において、ウエハＷにエッチング処理を行うための処理部１０と、処理部１０にあるウエハＷにフッ素系不活性液体、有機溶媒であるイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）及びフッ酸を含む処理液を供給する処理部２７と、を備える。 - 特許庁

A substrate provided with a bottom semiconductor film 12 including a lattice constant of which difference from the lattice constant of a semiconductor film 13 is within 10%, as well as including band gap energy smaller than that of the semiconductor film 13, in a bottom layer of an etching region 14 of the semiconductor film 13 is dipped in etching solution.例文帳に追加

半導体膜１３のエッチング領域１４の下層に、半導体膜１３のバンドギャップエネルギーよりも小さいバンドギャップエネルギーを有するとともに、半導体膜１３の格子定数との差が１０％以内の格子定数を有する下地半導体膜１２を設けた基板を、エッチング液に浸漬する。 - 特許庁

A metal oxide layer to be formed into a crystal nucleus is preformed on a substrate (first step), and thereafter, a zinc oxide precursor solution is applied thereto, and thermolysis is performed at ≤200°C (second step), thus a transparent zinc oxide thin film having c-axis orientation can be easily formed on the crystal nucleus inexpensively.例文帳に追加

基板上にあらかじめ結晶核となる金属酸化物層を形成させた（第一工程）後、これに酸化亜鉛前駆体溶液を塗布し、２００℃以下の温度で加熱分解する（第二工程）ことによって、結晶核上に、ｃ軸配向性を持ち、かつ透明な酸化亜鉛薄膜を、低コストかつ簡易に形成することができる。 - 特許庁

The method for forming a brilliant coating film comprises forming a brilliant base coating film on a substrate to be coated using a brilliant base coating material containing a solution that contains noble metal or copper colloidal particles, heating or setting the brilliant base coating film, and then forming a clear coating film by the predetermined subsequent step.例文帳に追加

被塗基材に、貴金属または銅のコロイド粒子を含む貴金属または銅のコロイド粒子溶液を含有する光輝性ベース塗料により光輝性ベース塗膜を形成した後、上記光輝性ベース塗膜を加熱またはセッティングし、次いで所定の工程によりクリヤー塗膜を形成する光輝性塗膜形成方法。 - 特許庁

A hydrogenation silizane polymer solution is coated and deposited a coating film (PZT film) on the silicon substrate 30 on which the STI trench 33 is formed, then the PZT film on the mask member is removed, leaving only the part of the PZT film in the trench, so that the PZT film is thinned with the height from the bottom of the STI trench 33 being the order of 600 nm or less.例文帳に追加

ＳＴＩ溝３３が形成されたシリコン基板３０に、過水素化シラザン重合体溶液の塗布膜（ＰＳＺ膜）を堆積し、その後、ＰＳＺ膜を溝中にのみ残置し、マスク部材上のＰＳＺ膜を除去してＳＴＩ溝３３の底部より６００ｎｍ程度以下になるように薄膜化する。 - 特許庁

Cleaning the semiconductor substrate with the solution containing a small amount of CN^- ion and adjusted at pH 9 to 14 at a temperature of 50°C or below, preferably at a range of 30 to 40°C, removes the initial metallic contamination of a surface copper concentration of about 10^13 atom/cm^2 to 10^9 atom/cm^2 or below.例文帳に追加

半導体基板を、少量のＣＮ^−イオン含有，ｐＨ９〜１４に調整された溶液によって、５０℃以下、好ましくは３０℃〜４０℃の範囲の温度で洗浄処理することで、当初の表面銅濃度約１０^１３原子／ｃｍ^２の金属汚染が、１０^９原子／ｃｍ^２以下にまで除去される。 - 特許庁

A resin solution, comprising a hydrophilic polymer, a good solvent of the hydrophilic polymer, a weak solvent of the hydrophilic polymer and an organic acid, whose solubility with respect to water 100 g at 20°C is the degree of 0.01-2 g/100 ml, is applied on at least one side of a substrate and, thereafter, a porous layer is formed through a phase converting method.例文帳に追加

基材の少なくとも一方の面に、親水性重合体、親水性重合体の良溶媒、親水性重合体の貧溶媒、及び２０℃における水１００ｇに対する溶解性が０．０１〜２ｇ／１００ｍｌ程度の有機酸を含む樹脂溶液を塗布した後、相転換法により多孔質層を形成する。 - 特許庁

This method for forming the fine wiring comprises a step of (a) treating at least one side of a wiring pattern to be formed on a base substrate with alkali metal hydroxide solution, and (b) treating hydrophobic ink in accordance to the wiring pattern to be formed.例文帳に追加

本発明の一側面によれば、（ａ）アルカリ金属水酸化溶液によってベース基材上に形成しようとする配線パターンの少なくとも一側を処理する段階、及び（ｂ）上記形成しようとする配線パターンに沿って疎水性インクを処理する段階を含む微細配線の形成方法が提供される。 - 特許庁

This is the gel polymer electrolyte in which the lithium ions can be conducted, and this is adopted while a matrix polymer made by polymerization of a substrate monomer which is the gel polymer electrolyte and which has one or both of an acrylate group and a methacrylate group and a fluoro-monomer, and the nonaqueous electrolytic solution are mixed.例文帳に追加

リチウムイオンを伝導可能なゲルポリマー電解質であって、アクリレート基およびメタクリレート基のうちのいずれか一方または両方を有する基質モノマーとフッ素系モノマーとが重合されてなるマトリックスポリマーと、非水電解液とが混合されてなることを特徴とするゲルポリマー電解質を採用する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device has processes of: arranging the precursor liquid of silicon on an upper part of the substrate; and forming the silicon film by performing heat processing to the precursor liquid of silicon, wherein the precursor liquid of silicon is a solution of cyclic saturated hydrocarbon compound containing high order silane.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、基板の上部にシリコンの前駆体液を配置する工程と、前記シリコンの前駆体液に熱処理を施すことによりシリコン膜を形成する工程と、を有し、前記シリコンの前駆体液は、高次シランを含む環状飽和炭化水素化合物の溶液である。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor film includes applying a solution containing semiconductor particles and a binder onto a first conductive substrate, drying the application liquid, and then warming it in a range of 130-300°C; while by giving a pressure of 20-40 MPa thereto, a semiconductor layer is formed.例文帳に追加

第１の導電性基材上に、半導体微粒子とバインダーとを含む溶液を塗布し、該塗布液を乾燥させた後、２０〜４０ＭＰａの圧力を加え、該圧力と並行して１３０〜３００℃の範囲内で加温することにより、半導体層を形成することを特徴とする半導体膜の製造方法。 - 特許庁

There are provided the dye solution containing a melanin precursor produced by an enzymatic oxidation reaction of at least one substrate compound selected from the group consisting of DOPA(3-(3,4-dihydroxyphenyl)alanine) and an analog thereof, and ethanol, wherein the chloride ion concentration is 300 ppm or less; and a method for producing the same.例文帳に追加

DOPA(3-(3,4-ジヒドロキシフェニル)アラニン)及びこれらの類縁体からなる群より選ばれる少なくとも１種の基質化合物の酵素酸化反応により製造されたメラニン前駆体、及びエタノールを含有する染料溶液であって、塩化物イオン濃度が300 ppm以下であることを特徴とする染料溶液、並びにその製造方法。 - 特許庁

The sulfur-doped silicon film is produced in such a way that by performing a second heat treatment after a solution containing the sulfur-modified silicon compound is coated on a substrate in an inert atmosphere, the sulfur-modified silicon compound is decomposed and silicon atoms contained in the sulfur-modified silicon compound are conbimned to other silicon atoms or sulfur atoms.例文帳に追加

硫黄変性ケイ素化合物を含んだ溶液を不活性雰囲気で基板上に塗布した後に第２の加熱処理を行って、硫黄変性ケイ素化合物を分解するとともに硫黄変性ケイ素化合物に含まれるケイ素原子を他のケイ素原子または硫黄原子と結合させて硫黄ドープシリコン膜を製造する。 - 特許庁

The resin composition for the ion implantation process, which forms a composition film (2) to be provided between the substrate and a photoresist film (1), is characterized in that the composition film (2) has an extinction coefficient of ≤0.15 to the wavelength of exposure light and that the resin composition contains a resin soluble with an alkali aqueous developer solution.例文帳に追加

基板とフォトレジスト膜（１）の間に設けられる組成物膜（２）を形成する樹脂組成物であって、該組成物膜（２）の露光波長に対する消衰係数が０．１５以下であり、該樹脂組成物がアルカリ水性現像液に可溶な樹脂を含有することを特徴とするイオン注入工程用の樹脂組成物。 - 特許庁

This method for bioelectrochemically efficiently producing the hydrogen comprises adding a reversibly oxidizable or reducible mediator substance and a hydrogen-producing bacterium group to a solution containing an organic substrate and making the bacterium group to perform breathes using the mediator as an electron receptor to increase the production of a reducing force (NADH, or the like) used as a raw material for the hydrogen.例文帳に追加

有機性基質を含む溶液中に、可逆的酸化還元が可能なメディエータ物質及び水素生産菌群を加え、メディエータを電子受容体とした呼吸を行わせて水素の原料となる還元力をより多く生産させて水素を生産する生物電気化学的水素生産方法。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer on an aluminum substrate with 0.1-8 mg/m2 coating weight of Si atoms is exposed, developed with a developing solution containing nonreducing sugar and a base (other than silicates) and desensitized in two or more processing baths.例文帳に追加

Ｓｉ原子付着量が０．１〜８mg／m^2であるアルミニウム支持体上に感光層を設けてなる感光性平版印刷版を、露光し、非還元糖及び塩基（但し珪酸塩を除く）を含む現像液で現像後、不感脂化処理を２浴以上の処理浴で行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

To obtain a zirconium complex having a broad temperature range in which the amount of deposited zirconium has no change depending on substrate temperature and which is overlapped to the temperature range having no change in the amount of deposited lead and titanium in preparing a PZT (plumbum zirconate titanate)-based thin film by solution vaporization CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

溶液気化ＣＶＤ法によるＰＺＴ系薄膜の作製において基板温度に対するジルコニウム堆積量の変化がない温度範囲が広く、かつその温度領域が基板温度に対する鉛、チタン堆積量の変化がない温度範囲と重なる範囲が広いジルコニウム錯体を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treating device by which the injecting and discharging time of a processing solution is shortened, the lowering of quality as the time is prolonged is prevented, and further the error in working or assembling a counter electrode is absorbed to obtain high-quality plating.例文帳に追加

処理液の注入および排出時間を短時間として、それらの時間が長くかかることにより生じる品質低下を解決でき、さらに、電解めっき装置の具体例において、対向電極の加工、組立誤差を吸収して高品質なめっきを得ることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

A copper solution containing CuSO_45H_2O as a copper source, potassium sodium tartrate 4H_2O or trisodium citrate as a complexing agent, glyoxylate, glyoxylic acid or sodium phosphate as a reducing agent, a sulfur organic compound as a stabilizing agent, and a pH adjusting agent, is used to from the copper interconnection layer on the substrate.例文帳に追加

銅源としてのＣｕＳＯ_４５Ｈ_２Ｏ、錯化剤としての酒石酸カリウムナトリウム４Ｈ_２Ｏまたはクエン酸三ナトリウム、還元剤としてのグリオキシル酸塩、グリオキシル酸またはリン酸ナトリウム、安定剤としての有機硫黄化合物、およびｐＨ調節剤を含む銅溶液を使用し、基板上に銅相互接続層を形成する。 - 特許庁

In this platemaking method of the lithographic printing plate, metal nanoparticles dispersed in a solution not containing substantially a hydrophilic binder are applied on a part or the whole of a hydrophilic substrate having a roughened surface and then a part or the whole of the metal nanoparticles is heated, so that a hydrophobic metal image part be obtained.例文帳に追加

粗面を有する親水性支持体上の一部または全部に、親水性バインダーを実質的に含まない溶液中に分散された金属ナノ粒子を塗布した後、該金属ナノ粒子の一部または全部を加熱することにより疎水性の金属画像部を得ることを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The heating drier device for coating film formation is used to dry the polyimide solution 200 coated on a glass substrate 100 to form a polyimide film as an oriented film thereon, comprising a hot plate 2 as a heating source and a plurality of proximity pins 10A attached on the upper surface side of the hot plate 2.例文帳に追加

塗布膜形成用加熱乾燥装置は、配向膜としてのポリイミド膜をガラス基板１００上に形成するためにガラス基板１００上に塗布されたポリイミド溶液２００を乾燥させるためのものであり、加熱源としてのホットプレート２と、ホットプレート２の上面側に取付けられた複数のプロキミシティピン１０Ａとを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing separators includes coating an organic solvent solution of a release agent on at least one side of the substrate, forming water drops on the coated surface, removing the organic solvent by evaporation, removing the water drops by heating to drying and/or curing the release agent.例文帳に追加

本発明のセパレータの製造方法は、セパレータ基材の少なくとも一方の面に、剥離剤の有機溶剤溶液を塗布し形成した塗布面に水滴を形成させながら有機溶剤を蒸発除去した後、加熱することにより、水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させることを特徴とする。 - 特許庁

Depositing rate in each metallic component in the precursor solution, is decided and a MOCVD for controlling the PCMO composition is provided by deciding the mole ratio of a metal based on respective depositing rates and the deposited PCMO composition in the temperature range of a substrate temperature and a vaporizer temperature.例文帳に追加

プリカーサ溶液内の各金属成分の堆積速度を決定し、基板温度および蒸発器温度の温度範囲内でそれぞれの堆積速度ならびに堆積されるＰＣＭＯの組成に基づいて金属のモル比を決定することによって、ＰＣＭＯの組成を制御するＭＯＣＶＤプロセスが提供される。 - 特許庁

A method for removing resist includes an irradiation step of irradiating ion-implanted resist with ultraviolet light to an extent such that the cured layer of the resist formed by implanting ions becomes alkali-soluble, and a removing step of bringing the resist into contact with an alkali solution to peel the resist from a silicon substrate.例文帳に追加

レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。 - 特許庁

The semiconductor substrate 10 provided with element isolation grooves is coated with a hydrogenation polysilazane solution containing a dibutyl ether with a butanol concentration of 30 ppm or less and a hydrogenation polysilazane dissolved in the dibutyl ether, so as to form a hydrogenation polysilazane film 15, which is oxidized in an atmosphere containing vapor to make a silicon dioxide film 11.例文帳に追加

素子分離溝が設けられた前記半導体基板１０上に、ブタノール濃度が３０ｐｐｍ以下のジブチルエーテルと、ジブチルエーテルに溶解された過水素化ポリシラザンとを含有する過水素化ポリシラザン溶液を塗布して、過水素化ポリシラザン膜１５を形成し、水蒸気を含む雰囲気中で酸化して二酸化シリコン膜１１とする。 - 特許庁

In the electroluminescence element having a cathode and an anode on a substrate and a plurality of organic layers between them, at least one organic layer is formed using a dispersion solution and one of the organic layer contains a compound composed of an isomer.例文帳に追加

基板上に陰極と陽極を有し、その間に複数の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも１層が分散液を用いて形成される層であり、且つ該有機層のいずれかに異性体からなる化合物を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

Then, the device heat-treats the substrate 11, which is in a state where an organic solution 14x is applied to and filled in the slits 21a, in all columns under reduced pressure, to uniformly and totally dry it to film-deposit an organic EL layer 14, on a pixel electrode 12 exposed to an EL element formation region Re1 of each pixel PIX.例文帳に追加

次いで、全ての列のスリット２１ａ内に有機溶液１４ｘが塗布、充填された基板１１を、減圧した状態で加熱処理して、均一かつ一括して乾燥させて、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに露出する画素電極１２上に有機ＥＬ層１４を成膜する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a cover glass for a solar cell, a solution containing at least one element selected from a group consisting of organo silica sol and colloidal silica and condensate of organo alkoxysilane is applied on the surface of a glass to be used as a substrate, and the glass is heated to 620 to 730°C and then cooled down.例文帳に追加

オルガノシリカゾル及びコロイダルシリカからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分と、オルガノアルコキシシランの縮合物を含有する溶液を、基材とするガラスの表面に塗布した後、６２０〜７３０℃に加熱し、その後、冷却することを特徴とする、太陽電池用カバーガラスの製造方法、並びに。 - 特許庁

To provide a composition for coating film forming in which bonding force between titanium oxide fine particles and adhesion with a substrate are improved, making easy to permeate electrolyte solution by forming suitable meso pores, and capable of obtaining sufficient electron conductivity, in case of forming of a coating film with the use of an inexpensive device at a low temperature condition.例文帳に追加

低温条件かつ安価な装置を用いて塗膜を形成した場合にも、酸化チタン微粒子間の結合力及び基板との密着性を向上させ、適度なメソポアを形成して電解液を浸透しやすくし、充分な電子伝導性が得られる塗膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition containing a photosensitive resin, a polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator with good compatibility with one another, giving a homogeneous solution, excellent in shelf stability, developable with water and giving a strong photo-cured body having good adhesiveness to a substrate and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

感光性樹脂、重合性不飽和化合物および光重合開始剤それぞれの相溶性が良く、溶液は均質系であり、保存安定性に優れ、水現像が可能であり、強固で基材への接着性が良好な光硬化物が得られる感光性組成物ならびにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a condensation reaction product for filling a trench having good storage stability of a solution suitable for using for filling the trench formed in a substrate with silicon oxide and high filling performance, permitting the formation of a thick film, and having good crack resistance, and provide a method for manufacturing a trench filling film.例文帳に追加

基体に形成されたトレンチ内にシリコン酸化物を埋め込むために使用するのに好適な溶液の保存安定性が良く、埋め込み性が高く、厚膜化ができ、かつ良好なクラック耐性を有するトレンチ埋め込み用縮合反応物、及びトレンチ埋め込み膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The surface-treated metallic plate 5 includes an inorganic surface-treated layer 52 formed by being precipitated by cathode electrolytic treatment from an aqueous solution on a surface of a metal substrate 51, wherein the inorganic surface-treated layer 52 contains aluminum hydroxide or oxyhydroxide mainly containing Al, O, and F.例文帳に追加

金属基体５１の表面に、水溶液からの陰極電解処理により析出して形成された無機表面処理層５２を有する表面処理金属板５であって、前記無機表面処理層５２が、Ａｌ，Ｏ及びＦを主体とするアルミニウムの水酸化物又はオキシ水酸化物を含有することを特徴とする。 - 特許庁

This is the gel polymer electrolyte in which lithium ions can be conducted, and this is adopted while a matrix polymer formed by polymerizing substrate monomers having either one or both of an acrylate group and a methacrylate group and a reactive monomer having a dioxolane ring and a non-aqueous electrolytic solution are mixed.例文帳に追加

リチウムイオンを伝導可能なゲルポリマー電解質であって、アクリレート基またはメタクリレート基のいずれか一方または両方を有する基質モノマーとジオキソラン環を有する反応性モノマーとが重合されてなるマトリックスポリマーと、非水電解液とが混合されてなることを特徴とするゲルポリマー電解質を採用する。 - 特許庁

The metal oxide structure is obtained by dipping a substrate, having a crystal face comprising a metal-containing material with a regular crystal orientation structure to a fixed orientation, in a reaction solution, in which the metal oxide can be deposited, and depositing the metal oxide crystal on the crystal face comprising the metal-containing material.例文帳に追加

一定方位への規則的な結晶配向構造を有する金属含有材料を含む結晶面を有する基板を金属酸化物が析出可能な反応溶液中に浸漬させて該金属含有材料を含む結晶面に金属酸化物結晶を析出させることを特徴とする金属酸化物構造体である。 - 特許庁