「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

This method of oxygenating an organic substrate comprises oxygenating an organic substrate with the use of a bisaquatris[(2-pyridylmethyl)amine]ruthenium (II) complex salt (wherein the 2-pyridyl groups in each (2-pyridylmethyl)amine ligand may be the same or different and may be substituted with one to three substituents) and an oxidizing reagent in an aqueous solution.例文帳に追加

水溶液中で、ビスアクアトリス［（２−ピリジルメチル）アミンルテニウム（ＩＩ）錯塩（ただし、各々の（２−ピリジルメチル）アミン配位子中の２−ピリジル基は、同一又は異なって、１から３の置換基で置換されていてもよい。）、及び、酸化剤を用いて、有機系基質を酸素化させる、有機系基質の酸素化方法。 - 特許庁

Further, if the surface of the sapphire substrate is terminated with a desired functional group by processing the sapphire substrate in a solution including a surface termination group, it causes a difference between the densities of the surface termination group in the two regions, thereby enabling domain patterns having different chemical properties to be pattern-formed in a self-organizing manner.例文帳に追加

さらに、表面終端基を含む溶液中で処理することによって所望の官能基で表面を終端すると、これら２つの領域における表面終端基密度に差が生じ、化学的性質の異なるドメインパターンが自己組織化的にパターン形成される。 - 特許庁

This fuel battery system 2 is operated by feeding the fuel gas to an anode side substrate 13 in a general state, however, when the failure of a burner 32 and selecting the antifreezing action, it is so changed as to directly feed the methanol solution to the anode side substrate 13.例文帳に追加

上記構成を持つ燃料電池システム２は、通常状態ではアノード側基板１３に燃料ガスが供給されて運転しているが、バーナー３２の故障時及び凍結防止動作選択時に、メタノール水溶液を直接アノード側基板１３に供給するように切り替えて運転が行われる。 - 特許庁

The method for producing the electronic device comprises utilizing the metallic acid salt complex, wherein a substrate is arranged, a bottom electrode is formed on the substrate, the bottom electrode is coated with the solution containing polyether carboxylic acid salts of the first metal and the second metal, a film of oxides of the first metal and the second metal are formed out of the solution, and a top electrode is formed on the film of the oxides.例文帳に追加

また電子装置の製造方法はこのような金属酸塩錯体を使用し、基板を設け、基板上に下部電極を形成し、下部電極上に第１の金属と第２の金属のポリエーテル酸塩を含む溶液を付着させて第１の金属と第２の金属との酸化物フィルムを溶液から形成し、その酸化物フィルム上に上部電極を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The synthesizing method includes: a step (1) for preparing for a reaction mixed solution comprising a first substrate selected from a group comprising amino acids, peptides comprising least two amino acids and derivatives thereof, a second substrate selected from a group comprising peptides including at least two amino acids, and derivatives thereof, and an aminoacyl-tRNA synthetase; and a step (2) for incubating the reaction mixed solution.例文帳に追加

本発明の合成方法は、（１）アミノ酸と、少なくとも２個のアミノ酸からなるペプチドと、これらの誘導体とからなるグループから選択される第１の基質と、少なくとも２個のアミノ酸からなるペプチドと、その誘導体とからなるグループから選択される第２の基質と、アミノアシルｔＲＮＡシンセターゼとを含む反応混合液を用意するステップと、（２）前記反応混合液をインキュベーションするステップとを含む。 - 特許庁

This method of manufacturing a field emitter electrode comprises steps of: preparing a plating solution containing carbon nanotubes dispersed therein; immersing a positive electrode and a negative electrode including a substrate which has been surface-treated so as to provide nucleation sites for the carbon nanotubes, in the plating solution; and applying a predetermined voltage between the negative and positive electrodes so as to form a carbon nanotube-metal plating layer on the substrate.例文帳に追加

本発明による電界放出エミッタ電極の製造方法は、カーボンナノチューブが分散されたメッキ液を用意する段階と、カーボンナノチューブの初期付着点を提供するよう表面処理された基板を具備する陰電極と、陽電極とを上記メッキ液に含浸する段階と、上記陰電極及び陽電極に所定の電圧を加えて上記基板上にカーボンナノチューブ‐金属メッキ層を形成する段階を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the zinc oxide film by energizing a conductive substrate 1000 as a cathode immersed into the aqueous solution containing at least nitrate ions and zinc ions and a zinc plate as an anode to each other to electrolytically deposit the zinc oxide film on the conductive substrate 1000, in which the powder of the zinc oxide produced in the solution during the electrolytic deposition is separated by a centrifuge 3001.例文帳に追加

少なくとも硝酸イオンと亜鉛イオンを含有してなる水溶液に浸漬された陰極としての導電性基板１０００と陽極としての亜鉛板との間に通電することにより、導電性基板１０００上に酸化亜鉛膜を電解析出させる酸化亜鉛膜の製造方法において、電解析出中に溶液中に発生する酸化亜鉛の粉を、遠心分離装置３００１により分離する。 - 特許庁

The production method of the laminate is characterized in that the aluminum oxide film is formed on a substrate by bringing a solution for formation of an aluminum oxide film, the solution containing an aluminum source and a solvent in a state where a difference in the polarizability is ≤5, into contact with the substrate heated to a temperature equal to or higher than the temperature of forming an aluminum oxide film.例文帳に追加

本発明は、アルミニウム源を含有し、かつ、分極率の値の差が５以下である状態の溶媒を含有するアルミニウム酸化物膜形成用溶液を、アルミニウム酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上にアルミニウム酸化物膜を形成することを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The bioactive material is manufactured by soaking the material to be coated (substrate) in an aqueous solution containing a water soluble compound containing titanium and a reagent producing titanium oxide from the compound, in particular an aqueous solution containing a titanium fluorocomplex compound as the water soluble compound containing titanium, and a fluoride ion trapping agent, and by forming a titanium oxide thin film on the surface of the material to be coated (substrate).例文帳に追加

被被覆材料（基材）をチタンを含む水溶性化合物と該化合物から酸化チタンを生成させる試薬を存在させた水溶液、特にチタンを含む水溶性化合物としてフルオロチタン錯化合物を含む水溶液中にフッ化物イオン捕捉剤の存在させた水溶液に浸漬し、前記被被覆材（基材）表面に酸化チタン薄膜を形成させることにより製造された生体活性材料。 - 特許庁

The cleaning method of removing contaminants on the surface of a substrate includes a step for generating cleaning active species from ions, hydrogen peroxide or oxygen by applying an electric field to a solution containing hydrogen peroxide or oxygen, and a step for cleaning the surface of the substrate by feeding a solution containing the cleaning active species thereto.例文帳に追加

本発明の洗浄方法は、基体表面の汚染を除去する洗浄方法において、イオン、過酸化水素または酸素を含有する溶液に電界を印加することにより該イオン、過酸化水素または酸素から洗浄活性種を生成する電界印加工程と、該洗浄活性種を含有する溶液を基体表面に供給して洗浄する洗浄工程と、を含むことを特徴としている。 - 特許庁

In this manufacturing method of the inkjet recording material having at least one ink accepting layer mainly containing inorganic particulates on a water-resistant substrate, a coating solution of the ink accepting layer is applied on the substrate, and in a drying process or after completion of drying thereof, a coating solution containing N-hydroxyalkylated chitosan is applied on the ink accepting layer and dried.例文帳に追加

耐水性支持体上に無機微粒子を主体に含有する少なくとも１層のインク受容層を有するインクジェット用記録材料の製造方法において、前記支持体上に、前記インク受容層の塗布液を塗布し、その乾燥過程もしくは乾燥終了後に、該インク受容層上にＮ−ヒドロキシアルキル化キトサンを含有する塗布液を塗布、乾燥することを特徴とするインクジェット用記録材料の製造方法。 - 特許庁

The biological allergen measurement method is characterized in that the amount of an environmental biological allergen is measured by bringing a test substance into contact with a water-soluble gel or aqueous solution containing a substrate of the protease of the environmental biological allergen, and by quantifying the physical change of the water-soluble gel or aqueous solution caused by the effect of the protease contained in the test substance on the substrate.例文帳に追加

被検物と、環境中の生物由来アレルゲンが有するプロテアーゼの基質を含む、水溶性ゲルまたは水溶液とを接触させ、前記被検物に含まれる前記プロテアーゼの前記基質に対する作用によって生じた前記水溶性ゲル状または前記水溶液の物性変化を定量化することにより環境中の生物由来アレルゲン量を測定することを特徴とする生物由来アレルゲン測定方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the display apparatus by discharging and arranging the function solution on the substrate 12 as droplets 8, a plurality of grooves 7d are formed in an area 7 on the substrate 12 so that when a droplet 8 lands the area 7 partitioned by partition walls 6, the function solution is allowed to flow along the extended direction of the area 7 formed like a rectangle.例文帳に追加

基体１２上に機能液を液滴８として吐出して配置する液滴吐出による表示装置の製造方法であって、この基体１２上の領域７に溝７ｄを形成して、隔壁６によって区画される領域７に液滴８が着弾するときに、矩形状に形成された領域７の延長方向に沿って、機能液が流れていくように溝７ｄを複数配置した。 - 特許庁

When a fluorine capturing agent is added to an aqueous solution containing a fluoro-metallic complex compound and a thin metal oxide film derived from the fluoro-metallic complex compound is deposited on a substrate immersed in the aqueous solution, the deposition of the thin metal oxide film is carried out while continuously, intermittently or temporarily applying sonic waves or ultrasonic waves to the aqueous solution.例文帳に追加

フルオロ金属錯体化合物を含有する水溶液に、フッ素捕捉剤を添加して、前記水溶液に浸漬した基材上に、前記フルオロ金属錯体化合物由来の金属酸化物薄膜を析出させる方法であって、前記金属酸化物薄膜の析出を前記水溶液に連続的にまたは断続的にまたは一時的に音波及び／又は超音波を与えながら行う金属酸化物薄膜の製造方法。 - 特許庁

For the organic electroluminescent element comprising a pair of electrodes formed on a substrate, and at least a hole injection layer and one or more of organic layers, The hole injection layer is formed by using a solution composed by mixing an organic solution dissolving π-conjugated polymer and an organic solution dissolving a compound obtained by oxidizing the π-conjugated polymer.例文帳に追加

基板上に一対の電極を有し、かつ該電極間に少なくとも正孔注入層と一層以上の有機層を有する有機電界発光素子であって、π共役系高分子が溶解した有機溶液とこれを酸化し得る化合物が溶解した有機溶液とを混合した溶液を用いて、正孔注入層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

In a method for forming a positive oxide thin film pattern in which the top of a substrate is coated with a composition containing a metal alkoxide and a chelate stabilizer, the resulting coating film is irradiated with light, a chemical reaction of the unirradiated part in the coating film is allowed to proceed and the irradiated part is dissolved and removed by etching with an etching solution, an aqueous alkali solution is used as the etching solution.例文帳に追加

金属アルコキシド及びキレート安定化剤を含む組成物を基板上に塗布し、塗布膜に光照射すると共に、この塗布膜における非照射部の化学反応を進行させた後、エッチング溶液にてエッチングして照射部を溶解、除去するポジ型酸化物薄膜パターンの形成方法において、前記エッチング溶液としてアルカリ水溶液を用いることを特徴とするものである。 - 特許庁

The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.例文帳に追加

本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁

According to the method of etching metal, at a concentration control point 6 where a groove 3 formed in a copper substrate 2 by etching is reached to a predetermined depth, a concentration of a liquid chemical for forming an etching controlled coating by replenishing a new solution into an etching solution 4, is reduced from 1,000 ppm to 500 ppm.例文帳に追加

この金属のエッチング方法によれば、エッチングにより銅基板２に形成される溝３が設定深さに達した濃度制御点６において、エッチング液４中に新液を補充してエッチング抑制被膜を形成するための薬液の濃度を１０００ｐｐｍから５００ｐｐｍへ低下させる。 - 特許庁

This method for depositing a nickel metal thin film has a stage in which a solution for depositing a nickel metal film composed of an alcohol solution containing a reducible chelate type ligand having a hydrazone unit and nickel ions is applied on a substrate to deposit a gel film and a stage in which the obtained gel film is subjected to heat treatment in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

ヒドラゾンユニットを有する還元性のキレート型配位子と、ニッケルイオンとを含有するアルコール溶液からなるニッケル金属膜形成用溶液を基板上に塗布して、ゲル膜を形成する工程と、得られたゲル膜を不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程とを具備するニッケル金属薄膜の形成方法である。 - 特許庁

The substrate of a semiconductor integrated circuit is spin coated with diamond colloid solution produced by dispersing fine diamond particles of nanometer size into water or an organic solution and then dried to form an insulation layer of low permittivity porous structure diamond film where the fine diamond particles are dispersed uniformly through air gaps of nanometer size (nano pores).例文帳に追加

半導体集積回路などの基板に、ナノメートルサイズのダイヤモンド微粒子を水あるいは有機溶液に分散したダイヤモンドコロイド溶液をスピンコートなどにより塗布し乾燥させることにより、ダイヤモンド微粒子がナノメートルサイズの空隙（ナノポア）をもって均一に分散された低誘電率のポーラス構造ダイヤモンド膜を形成する。 - 特許庁

The method is characterized by mixing a solution containing titanium with a solution containing at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, nickel, iron, zirconium, phosphorus and boron, hydrolyzing the resultant mixture at a temperature range of 40-90°C to produce the composite oxide slurry and supporting the slurry on the substrate.例文帳に追加

チタンが存在する溶液と、ケイ素、アルミニウム、ニッケル、鉄、ジルコニウム、リン及びホウ素からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素が存在する溶液とを混合し、これを温度４０〜９０℃の範囲で加水分解することにより得られた複合酸化物スラリーを、基材に担持させることを特徴とする。 - 特許庁

The method for metallizing the nucleic acid comprises steps of first manufacturing the solution of composite particles (THP-Au particles) of tris(hydroxymethyl)-phosphine (THP) and gold, then dropping the THP-Au particle solution on the solidified substrate of the nucleic acid, and thereby bonding the THP-Au particles to the nucleic acid.例文帳に追加

本実施の形態における核酸金属化方法では、先ず、トリス（ヒドロキシメチル）ホスフィン（ＴＨＰ）と金との複合体粒子（ＴＨＰ−Ａｕ粒子）の溶液を作製し、次に、このＴＨＰ−Ａｕ粒子溶液を核酸の固定化された基板に滴下することによって、ＴＨＰ−Ａｕ粒子と核酸とを結合させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high sensitivity and can obtain a satisfactory spacer shape, can suppress production of contaminants during spacer formation, and can form a spacer for a liquid crystal display element that is superior in adhesion to a substrate and in resistance to a stripping solution, such as aqueous strong alkali solution in reprocessing.例文帳に追加

高感度で十分なスペーサー形状が得られ、スペーサー形成時に発生する汚染物を抑制することができ、再処理時の強アルカリ水溶液等剥離液に対する耐性や基板との密着性に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a post-ashing treatment solution which prevents the corrosion of metallic wiring and reliably removes residue such as a degenerated photoresist film and a metallic deposition from a substrate subjected a ashing after dry etching under severer conditions in an ultrafine patterning process and a treatment method using the solution.例文帳に追加

超微細パターン化プロセスにおけるより過酷な条件のドライエッチング、続いてアッシングが施された基板において、金属配線に対する腐食を防止し、かつホトレジスト変質膜、金属デポジション等の残渣物を確実に除去し得るアッシング後の処理液およびこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

Substrate treatment equipment has a spin chuck 1 holding a wafer W in approximately horizontal manner and being rotated, a sulfuric-acid nozzle 2 for supplying the surface of the wafer W held to the spin chuck 1 with sulfuric acid (H_2SO_4) and a hydrogen-peroxide solution nozzle 3 for supplying the surface of the wafer W, held to the spin chuck 1 with a hydrogen-peroxide solution.例文帳に追加

ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に硫酸（Ｈ２ＳＯ４）を供給するための硫酸ノズル２と、スピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に過酸化水素水を供給するための過酸化水素水ノズル３とを備えている。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate which yields no residue by development, exhibits high sensitivity and high resolution, has high adhesiveness to a substrate and excellent etching resistance, is developable with a diluted alkali aqueous solution, and produces fine chips of stripped material in a stripping process with the alkali aqueous solution.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing an organic transistor comprises the steps of: depositing, from a solution, an organic semiconductor layer 3 on a substrate 1; and depositing, from a solution, a layer of low permittivity insulating material, forming at least a part of a gate insulator 2 such that the low permittivity insulating material is in contact with the organic semiconductor layer 3.例文帳に追加

基板１上に、溶液から有機半導体層３を堆積させる工程、および溶液から低誘電率絶縁材料の層を堆積させて、その低誘電率絶縁材料が有機半導体層３と接触するようにゲート絶縁体２の少なくとも一部を形成する工程を含む有機トランジスタを形成する。 - 特許庁

The cleaning method for the substrate by using a cleaning solution so as to remove particles of a contaminant is characterized by using, as the cleaning solution, a solvent that is selected from among chain hydrofluorocarbon and hydrofluoroether each having an electrically negative level larger than the contaminant and a molecular volume of ≤130 Å^3.例文帳に追加

汚染物質の粒子の除去のために基板を洗浄液で洗浄する方法であって、前記洗浄液として、電気陰性度が前記汚染物質よりも大きく、分子容積が１３０Å^３以下である鎖状のハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルから選ばれる溶剤を用いることを特徴とする洗浄方法。 - 特許庁

In the micro-plasma deposition method, in the upstream side or in the middle of a micro-plasma gas supply line, the raw material solution is supplied in a direction substantially orthogonal to the line, the solution is reacted, decomposed or atomized by micro-plasma, and reaction products or particles are deposited on a substrate installed on the downstream side of micro-plasma.例文帳に追加

マイクロプラズマガス供給ラインの上流又は途中において、同ラインとほぼ直交するように液体を供給し、該液体をマイクロプラズマにより反応、分解又は霧化させ、マイクロプラズマ下流に設置した基体上に反応生成物又は微粒子をデポジットさせることを特徴とするマイクロプラズマデポジション方法。 - 特許庁

The circulation path includes a washing tank 10 in which a glass substrate 200 is washed using an aqueous solution of hydrogen peroxide and chelating agents 100, a storage tank 16 in which the aqueous solution of hydrogen peroxide and chelating agents 100 is stored temporarily, and a feed pipe 18 and a return pipe 15 connecting these washing tank 10 and storage tank 16.例文帳に追加

循環路は、キレート過水液１００を用いてガラス基板２００の洗浄を行なう洗浄槽１０と、キレート過水液１００を一時的に貯留する貯留槽１６と、これら洗浄槽１０および貯留槽１６を接続する送り管１８および戻し管１５とを含んでいる。 - 特許庁

A silicon wafer 50 is employed as the semiconductor substrate and a silicon oxide film 70 is formed on the main surface 51 of the silicon wafer 50, then, the oxide film 70 is removed through etching employing the water solution of potassium hydroxide as the etching solution, and, subsequently, the silicon wafer 50 is processed through etching treatment from the side of the main surface 51 of the same.例文帳に追加

半導体基板としてシリコンウェハ５０を用い、このシリコンウェハ５０の主表面５１にシリコン酸化膜７０を形成した後、エッチング液として水酸化カリウム水溶液を用いて、酸化膜７０をエッチング除去し、続いてシリコンウェハ５０をその主表面５１側からエッチング処理する。 - 特許庁

A solution containing a polymer matrix containing a polyvinylidene fluoride system compound, a support electrolyte, and an electrolytic solution at least containing a phosphoric ester class and having a viscosity of 2 to 30 Pa s at 25°C is coated on a substrate, which is then put under a drying treatment.例文帳に追加

ポリフッ化ビニリデン系高分子化合物を含有する高分子マトリックス、支持電解質、および少なくともリン酸エステル類を含有する電解液を含有し、かつ２５℃における粘度が２〜３０Ｐａ・ｓである溶液を、基板上に塗布したのち、乾燥処理することを特徴とするイオン伝導性フィルムの製造方法。 - 特許庁

This invention relates to the anodization apparatus having the porous layer formed on the substrate to be treated which is arranged in an electrolyte solution by passing current between electrodes of an anode and a cathode in the electrolyte solution, wherein the electrode has a structure that at least metallic electrode member is covered with a non-metallic electrode member.例文帳に追加

電解質溶液中で陽極と陰極の電極間で通電して前記電解質溶液中に配置された被処理基板に多孔質層を形成する陽極酸化装置であって、前記電極は少なくとも金属電極部材が非金属電極部材で覆われた構造を有するものである陽極酸化装置。 - 特許庁

The method for manufacturing the polymer electrolyte membrane includes a defoaming step of defoaming a polymer electrolyte solution including a polymer electrolyte and an organic solvent under reduced pressure wherein the pressure exceeds vapor pressure of the organic solvent plus 1.0 kPa, and a coating step of coating the polymer electrolyte solution on a support substrate after the defoaming step.例文帳に追加

高分子電解質と有機溶媒とを含む高分子電解質溶液を有機溶媒の蒸気圧＋１．０ｋＰａを越える圧力で減圧脱泡する脱泡工程と、脱泡工程後、高分子電解質溶液を支持基材に塗布する塗布工程とを備える高分子電解質膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a polishing method which can continuously polish a substrate having an insulating film, a barrier metal film and a conductor film with the same polishing solution for metal, can obtain good flatness of a wiring portion and an insulating film convex portion, and can reduce scratches, and to provide a polishing solution for metal used therefor.例文帳に追加

絶縁膜、バリア金属膜及び導体膜を有する基板を、同一金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、配線部と絶縁膜凸部の平坦性が良好で、かつ、スクラッチを低減することが可能な研磨方法及びそれに用いる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

The method includes a wiring pattern forming step of ejecting, to a recipient layer formed on a substrate, droplets of a solution containing conductive microparticles dispersed by means of a dispersing agent to form a desired wiring pattern, and a solvent supplying step of further supplying a solvent of the solution at least to the wiring pattern.例文帳に追加

基板に設けられた受容層上に、分散剤を用いて導電性微粒子を分散させた溶液の液滴を射出して所望の配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、少なくとも前記配線パターン上に、前記溶液の溶媒をさらに供給する溶媒供給工程と、を備えている。 - 特許庁

Unevenness of a fluorescent substance on a substrate panel is prevented by arranging plural nozzles equipped with adjustable flow passage in a route in which the fluorescent solution is ejectable, by ejecting a gas in a desired direction from surroundings of an ejecting port, and by guiding the fluorescent solution ejected from the nozzle by the discharged gas.例文帳に追加

蛍光体液を吐出可能な吐出道内に、調節可能な流路抵抗体を配置したノズルを複数備えることや、ノズルの吐出口の周辺から、所望の方向に気体を放出させ、ノズルから吐出される蛍光体液を放出気体にて案内をすることで、基板パネルの蛍光体のムラを防止する。 - 特許庁

A p-type doped silicon wafer 50 is employed as a semiconductor substrate, an aqueous solution 20 of potassium hydroxide is employed as an etching liquid and etching is performed by conditioning the concentration of KOH in the aqueous solution 20 of potassium hydroxide in the range of 40-50 wt% and the liquid temperature at 110°C or above.例文帳に追加

半導体基板としてｐ型にドープされたシリコンウェハ５０を用い、エッチング液として水酸化カリウム水溶液２０を用い、水酸化カリウム水溶液２０のＫＯＨ濃度を４０重量％以上５０重量％以下の範囲とし、液温度を１１０℃以上にて調整することにより、エッチング処理を行う。 - 特許庁

In the manufacture of copper wiring substrate formation by a semi additive method, an etching solution containing a hydrogen peroxide of 0.1 to 10 wt.% and a phosphoric acid of 0.5 to 50 wt.% is used as an etching solution of a metal thin film layer (seed layer), whose weight ratio of a hydrogen peroxide/phosphoric acid is 0.02-0.2.例文帳に追加

セミアディティブ法における銅配線基板製造において、金属薄膜層（シード層）のエッチング液として、過酸化水素 ０．１〜１０重量％とリン酸 ０．５〜５０重量％を含有し、かつ過酸化水素／リン酸の重量比が ０．０２〜０．２であるエッチング液を使用する銅配線基板製造方法。 - 特許庁

Therefore, when a wafer W which is wet with a processing solution is carried to the high- pressure processing unit 26, even if the processing solution adhering to the substrate W or its evaporation material is moved to the main carrying path 21, the developing units 231, 232, and 243 exist before the main carrying path 21.例文帳に追加

したがって、処理液で濡れた基板Ｗを高圧処理ユニット２６に搬送している際に、基板Ｗに付着している処理液、またはその蒸発物が主搬送路２１側に移動しようとしても、主搬送路２１に至るまでに現像処理ユニット２３１，２３２，２４３が介在することとなる。 - 特許庁

The phase contrast of a phase shift mask 10 in which a transparent substrate 11 and a phase shifter film 12 comprise the combination of synthetic quartz glass and the oxide or oxynitride of molybdenum silicide is adjusted by etching the mask 10 with an etching solution comprising an aqueous solution of a strong alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.例文帳に追加

透明基板１１と位相シフタ膜１２が合成石英ガラスとモリブデンシリサイドの酸化物あるいはモリブデンシリサイドの酸化窒化物の組み合わせからなる位相シフトマスク１０を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカリの水溶液からなるエッチング薬液を用いてエッチングして位相差調整を行う。 - 特許庁

The microorganism culture sheet is produced by a process for printing a frame with UV foam ink on a substrate sheet, a process for forming a medium solution layer in the frame and drying the medium solution to form a medium layer, and a process for irradiating the frame with UV and foaming the foam ink to form a frame layer.例文帳に追加

基材シートの上に、ＵＶ発泡インキで枠型を印刷する工程、前記枠型内に、培地溶液層を形成し、前記培地溶液を乾燥して培地層を形成する工程、および前記枠型にＵＶを照射して前記発泡インキを発泡させて枠層を形成する工程とによって製造することができる。 - 特許庁

In the method of forming patterns each composed of the conductive pattern and the insulating pattern, on the substrate on top of another, the surface tension of the solution for a conductive pattern for forming the conductive pattern is larger than that of the solution for an insulating pattern for forming the insulating pattern.例文帳に追加

導電性のパターンと絶縁性のパターンからなるパターンを基体上に重ねて形成する方法であって、前記導電性のパターンを形成するための導電パターン用溶液の表面張力が、前記絶縁性のパターンを形成するための絶縁パターン用溶液の表面張力より大きい溶液を用いる。 - 特許庁

A solution having a polymer and an organic solvent as main components is prepared, the obtained solution is subjected to spinning by a charge spinning method, polymer fibers are collected on a collecting substrate and stacked on other layer, to manufacture a filter containing nonwoven fabric consisting of fibers of diameters of 0.001-1μm subjected to charging treatment.例文帳に追加

高分子と有機溶媒とを主成分とする溶液を製造し、ついで得られた溶液を荷電紡糸法を用いて紡糸し、捕集基板に高分子繊維を捕集し、他の層と積層することにより、繊維径が０．００１〜１μｍの繊維からなる荷電処理された不織布を含むフィルタを作成する。 - 特許庁

To provide a hybridization solution so prepared that, when a nucleic acid is to be specifically detected by a hybridization method, a non-specific binding which may occur between a free target nucleic acid in a sample nucleic acid and/or the hybridization solution and a nucleic acid-catching probe and/or a nucleic acid-catching substrate is inhibited to obtain a highly reliable result.例文帳に追加

核酸をハイブリダイゼーション法により特異的に検出する際に、試料核酸および／またはハイブリダイゼーション液中の遊離標的核酸と、核酸捕捉用プローブおよび／または核酸捕捉用基板との間に生じる非特異的な結合を抑制し、信頼性の高い結果を得ることを課題とする。 - 特許庁