「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing a porous niobium material having a porous oxide film on the surface of a substrate made from niobium includes anodizing the surface of the substrate in an electrolytic solution containing hydrofluoric acid.例文帳に追加

本発明は、ニオブからなる基材の表面に多孔質酸化被膜を備えた多孔質ニオブ素材を製造するに際し、フッ酸を含有する電解液により基材の表面をアノード酸化することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the lens substrate comprises a process for forming a colored part on the surface of the lens substrate on which light is made incident by applying a coloring solution containing a coloring agent and benzyl alcohol.例文帳に追加

本発明のレンズ基板の製造方法は、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を付与して、レンズ基板の光が入射する面側に着色部を形成する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

A porous sintered substrate is immersed in a solution mainly composed of an acidic nickel salt, and then the porous sintered substrate is intermediately dried at a temperature higher than the melting point of the acidic nickel salt and lower than the decomposing temperature thereof.例文帳に追加

多孔性焼結基板を酸性ニッケル塩を主体とする溶液に浸漬した後、この多孔性焼結基板を酸性ニッケル塩の融点より高く分解温度より低い温度で加熱して中間乾燥する。 - 特許庁

Then, UV light 105 from a UV-irradiating device 103 is cast onto the mixed solution 104 supplied on the substrate 101 to generate hydroxyl and hydrogen radicals which clean the substrate 101.例文帳に追加

次いで、基板１０１上へ供給された混合液１０４へ、紫外光照射装置１０３より紫外光１０５を照射することにより、水酸基ラジカル及び水素ラジカルが生成し、基板１０１の洗浄を行う。 - 特許庁

This head 51 for manufacturing a micro-array is provided with a base part 57, and a plurality of needles 53 arrayed parallel to each other on the base part 57 and the tips thereof are brought into contact with the substrate 3 to dispose a solution on the substrate 3.例文帳に追加

マイクロアレイ作製用ヘッド５１は、基体部５７と、該基体部５７に互いに平行に配列され、先端が基板３に接触することで溶液を基板３に配置する複数のニードル５３とを備える。 - 特許庁

After providing a substrate having an exposed surface of copper, it is brought into contact with an oxidizing solution to maintain the surface of copper at low temperatures of not more than 100°C to grow a copper oxide film nanowire on the surface of the substrate.例文帳に追加

露出した銅の表面を有する基板を提供した後に、銅の表面を１００℃以下の低温に維持する酸化溶液と接触させて基板の表面に銅酸化膜ナノワイヤを成長させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a surface-treated anti-glaring plate by applying a surface treatment solution (C) to the anti-glaring surface (10a) of an anti-glaring substrate (10) and drying the coated anti-glaring substrate (10) to form a surface treatment film (11) without causing irregularity.例文帳に追加

防眩性基板(10)の防眩面(10a)に表面処理液(C)を塗布し、乾燥して、ムラを生ずることなく、表面処理膜(11)を形成して、表面処理防眩板(1)を製造しうる方法を提供する。 - 特許庁

The predetermined region 22 of the insulating substrate 12 is provided with a liquid-holding layer 21 which can hold a sample solution and is brought into direct contact with the insulating substrate 12, the working electrode 14 and the counter electrode 15 that cover them.例文帳に追加

絶縁基体１２上の所定の領域２２には試料溶液を保持可能であり、絶縁基体１２、作用電極１４、及び対極１５と直接接触して被覆する液体保持層２１が設けられている。 - 特許庁

This biochip having a substrate with a solution of a DNA, an RNA, a protein or a sugar chain, attached to the substrate has an electrophoretic region and a hybridization region to the objective molecule on the substrate, and constituted so that the objective molecule can be confirmed by carrying out the electrophoresis of the solution in the electrophoretic region.例文帳に追加

基板上にＤＮＡまたはＲＮＡまたは蛋白あるいは糖鎖の溶液を付着させたバイオチップであって、前記基板上に目的とする分子に対して電気泳動領域とハイブリダイゼーション領域を有し、この両方の領域に前記溶液を付着させ、電気泳動領域の溶液を電気泳動することにより目的とする分子が確認できるように構成する。 - 特許庁

The functional device includes a transparent photoelectrode configured of a photoelectric substrate 11 and a photoelectrode layer 12a, a counter electrode substrate 18a made of metal, an electrolyte solution 15 filled in gaps of both substrates, a corrosion resistant conductive layer 17a formed in the counter electrode substrate and having corrosion resistance to the electrolyte solution, and a conductive catalyst layer 16.例文帳に追加

機能性デバイスは、光電基板１１と光電極層１２ａからなる透明な光電極と、金属からなる対向電極基板１８ａと、両基板の間隙に充填された電解質溶液１５と、対向電極基板に形成され電解質溶液に対して耐腐食性を有する耐腐食性導電層１７ａ及び導電性触媒層１６を有する。 - 特許庁

A functional device has a transparent photoelectrode consisting of a photoelectric substrate 11 and a photoelectrode layer 12a, a counter electrode substrate 18a consisting of a metal, an electrolyte solution 15 filling the gap of both substrates, and a corrosion-resistant conductive layer 17a formed on the counter electrode substrate and exhibits corrosion resistance to the electrolyte solution, and a conductive catalyst layer 16.例文帳に追加

機能性デバイスは、光電基板１１と光電極層１２ａからなる透明な光電極と、金属からなる対向電極基板１８ａと、両基板の間隙に充填された電解質溶液１５と、対向電極基板に形成され電解質溶液に対して耐腐食性を有する耐腐食性導電層１７ａ及び導電性触媒層１６を有する。 - 特許庁

The analyzer has: a first treatment part for irradiating the film formed on a substrate with ultraviolet rays to remove the same; a second treatment part for supplying a dissolving solution to the surface of the substrate to dissolve the substance on the substrate; and a third treatment part for analyzing the substance in the dissolving solution used in the second process.例文帳に追加

基板上に形成された被膜を、紫外線を照射することで除去する第１の処理部と、前記基板表面に溶解液を供給して前記基板上の分析対象物質を溶解させる第２の処理部と、前記第２の工程で用いた前記溶解液中の前記分析対象物質を分析する第３の処理部と、を有することを特徴とする分析装置。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display panel and a thinning method of a glass substrate for the organic EL display panel capable of thinning the glass substrate by immersing it in an etching solution without damaging components of the organic EL display panel by the etching solution; and to provide a glass substrate for an organic EL display panel and an organic EL display using these methods.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイパネルの構成部材をエッチング液によって損傷させることなく、エッチング液に浸漬してガラス基板を薄型化することが可能な有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法及び有機ＥＬディスプレイパネル用ガラス基板の薄型化方法、並びにこれらの方法を使用した有機ＥＬディスプレイパネル用ガラス基板及び有機ＥＬディスプレイの提供。 - 特許庁

In the method of manufacturing an information recording medium having a dye recording layer 204 on which information can be recorded on a substrate 202, when a dye solution for forming the dye recording layer 204 is applied onto the substrate 202 while the substrate 202 is rotated, the thickness of the ejection nozzle 406 for ejecting the dye solution is formed so as to be at least 0.3 mm.例文帳に追加

基板２０２上に、情報を記録することができる色素記録層２０４を有する情報記録媒体の製造方法において、基板２０２を回転させながら色素記録層２０４を形成するための色素溶液を基板２０２上に塗布する場合に、色素溶液を吐出するための吐出ノズル４０６の肉厚を少なくとも０．３ｍｍ以上の厚肉に形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for liquid phase growth equipped with a mechanism stirring a raw material solution in a cooling process, by which the temperature of the raw material solution is homogenized and the difference of the film thickness of the epitaxial layer grown on a substrate, even on a substrate with a large area, between its periphery and center is minimized.例文帳に追加

冷却過程において原料溶液を撹拌する機構を備えることによって原料溶液の温度を均質化し、これにより、大面積の基板上でも、その上に成長されるエピタキシャル層の膜厚が周辺と中央とで差が生じないようにした液相成長装置を提供することにある。 - 特許庁

A process for forming the film for infrared detection preferably includes a process for producing a solution by dissolving the vinylidene fluoride-based polymer into an organic solvent, and applying and depositing it on a substrate; and a post treatment process for vaporizing the organic solvent by heating the substrate onto which the solution is applied, and annealing a dielectric body film.例文帳に追加

前記赤外線検出用膜を形成する工程は、ビニリデンフルオライド系ポリマーを有機溶剤を用いて溶液を作成し、基板上に塗布して堆積する工程と、溶液を塗布した基板を加熱処理することによって有機溶媒を蒸発させ、誘電体膜をアニールする後処理工程とを含むことが好ましい。 - 特許庁

To provide a method and a device for removing a resist bead that is generated in a peripheral part of a glass substrate, which prevents a rear end void caused from splash of developing solution onto the substrate without lengthening the line process time in a large scaled system nor increasing the amount for use of developing solution, rinse and the like.例文帳に追加

ガラス基板の周縁部に発生するレジストビードの除去において、現像液の飛沫が基板上に跳ねて白抜けを発生させない、大型化してもタクトタイムが長くならず、更に現像液、リンス液などの使用量が増大しないレジストビード除去 方法及び除去装置を提供すること。 - 特許庁

Then, the developing solution is fed in a belt shape from the developing solution feed nozzle 42 to the surface of the substrate G from its one edge to the other edge to carry out a developing process, then rinse liquid is fed from a rise feed nozzle to the surface of the substrate G subjected to the developing process to clean the surface.例文帳に追加

次いで、現像液の薄膜が形成されたＬＣＤ基板Ｇ表面の一端から他端に向かって現像液供給ノズルから帯状に現像液を供給して現像処理した後、現像処理後のＬＣＤ基板Ｇ表面にリンス液供給ノズルからリンス液を供給して洗浄する。 - 特許庁

The jet head 11 is mounted on a carriage movable in a region facing the substrate 14 and the scanning by the carriage is performed while the solution jet mouth surface of the jet head 11 and the regions to be formed with the functional elements of the substrate 14 maintain a specified distance, by which the application of the liquid drop of the solution is performed.例文帳に追加

噴射ヘッド１１は、基板１４と相対する領域で移動可能なキャリッジ上に搭載されるとともに、該噴射ヘッド１１の溶液噴射口面と前記基板１４の機能性素子が形成される領域とが、一定の距離を保ちつつ、前記キャリッジによる走査を行いつつ、前記溶液の液滴付与を行う。 - 特許庁

The method of manufacturing a solar battery element comprises the steps of immersing a semiconductor substrate showing one conductive type in a solution containing ozone, and forming a reverse conductive type region showing a conductive type reverse to one conductive type on at least a part of the semiconductor substrate raised from the solution.例文帳に追加

オゾンを含有する溶液に、一導電型を示す半導体基板を浸漬する工程と、前記溶液から引揚げられた前記半導体基板の少なくとも一部に、前記一導電型と逆の導電型を示す逆導電型領域を形成する工程と、を有してなる太陽電池素子の製造方法。 - 特許庁

Next, a solution containing a fluorescent material with platinum fine particles dispersed , for instance, a chloroplatinic solution containing a fluorescent material is applied to the substrate by a discharge device 20f; a first reaction layer is formed by baking it at 500°C; and an electrolyte membrane is formed on the first substrate by a discharge device 20g.例文帳に追加

次に、吐出装置２０ｆにおいて白金微粒子を分散させ蛍光材料を含有する溶液、例えば、蛍光材料を含有する塩化白金酸溶液を基板上に塗布し、５００℃で焼成して第１の反応層を形成し、第１の基板に、吐出装置２０ｇにおいて電解質膜を形成する。 - 特許庁

Next, a block layer 14 having blocking action with respect to the antibody (or antigen) solution is formed to the whole or a part of the surface of the non-electrode part, to which the metal electrodes 12a and 12b are not formed, on the piezoelectric substrate 11 as pretreatment introducing the antibody solution into the region on the surface of the piezoelectric substrate 11.例文帳に追加

次に、圧電性基板１１の表面上に抗体溶液を導入する前処理として、圧電性基板１１上において金属電極１２ａ，１２ｂが形成されていない非電極部の表面上の全体又は一部に、抗体（又は抗原）溶液に対してブロッキング作用を有するブロック層１４を形成する。 - 特許庁

When a coating solution 73 which forms a piezoelectric body precursor film is coated onto a plurality of flow passage forming substrate wafers 110 in order by a spin coating method, the order of the flow passage forming substrate wafers 110, from which the coating of the coating solution 73 which forms each of the layers of the piezoelectric body precursor film is started, is shifted by a predetermined number of wafers.例文帳に追加

複数の流路形成基板用ウエハー１１０に順番に圧電体前駆体膜となる塗布溶液７３をスピンコート法により塗布する際に、圧電体前駆体膜の各層となる塗布溶液７３の塗布を開始する流路形成基板用ウエハー１１０の順番を所定枚数ずらして行う。 - 特許庁

Plating equipment plates, the surfaces of which are to be plated of a substrate by conducting electricity between an anode 30 set up in a plating tank 10 and a substrate W, while a plating solution made to flow in the tank 10 from a solution jetting pipe 35 is jetted upon the surface to be plated.例文帳に追加

めっき槽１０内に陽極電極３０を配設し、めっき液噴射管３５からめっき槽１０内にめっき液を流入することで被めっき基板Ｗの被めっき面にめっき液の噴流を当接しながら陽極電極３０と被めっき基板Ｗ間に通電することでめっきを行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the fuel cell diffusion layer includes a reforming treatment process S102 performing reforming treatment by applying a reforming treatment solution containing a coupling agent to a substrate for the fuel cell diffusion layer and impregnating it, and a hydrophobic process S106 performing hydrophobic treatment by applying a water repellent solution to a reforming treatment part of the substrate for the fuel cell diffusion layer and impregnating it.例文帳に追加

燃料電池拡散層用基材にカップリング剤を含有する改質処理液を塗布し、含浸させて改質処理する改質処理工程Ｓ１０２と、燃料電池拡散層用基材の改質処理部分に撥水処理液を塗布し、含浸させて疎水化処理する疎水化工程Ｓ１０６と、を有する。 - 特許庁

The thin film of metallic iridium and/or the iridium oxide is formed on a substrate such as glass or silicon, by spraying an alcohol solution (for instance, a solution of methanol, ethanol, propanol or the like) of an iridium complex (for instance, (1,3-cyclohexadiene) (ethylcyclopentadienyl) iridium or the like) onto the substrate which has been heated to a decomposition temperature of the iridium complex or higher.例文帳に追加

イリジウム錯体（例えば（１，３−シクロヘキサジエン）（エチルシクロペンタジエニル）イリジウムなど）のアルコール溶液（例えばメタノール、エタノール、プロパノール等の溶液）を、イリジウム錯体の分解温度以上に加熱したガラスやシリコンなどの基板に噴霧し、当該基板上に金属イリジウム及び／又はイリジウム酸化物薄膜を形成させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical recording medium includes a step of discharging and applying a dye solution onto a substrate by a spin coating method to form a dye recording layer, wherein the substrate is rotated at a rotation speed of 400rpm or higher during a period from the beginning to the end of the discharge of the dye solution.例文帳に追加

基板上に、スピンコート法により色素溶液を吐出して塗布し色素記録層を形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、前記色素溶液の吐出開始から吐出終了までの基板の回転速度が４００ｒｐｍ以上である光記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

The anode forming device 100 is provided with a first supply part which supplies a first electrolytic solution 106 between the negative electrode 105 and the substrate 101 and a second supply part which supplies a second electrolytic solution 107 having a conductivity of 5Sm^-1 or higher between the positive electrode 105 and the substrate 101.例文帳に追加

陽極化成装置１００は、陰電極１０５と基板１０１との間に第１の電解質溶液１０６を供給する第１の供給部と、陽電極１０５と基板１０１との間に５Ｓｍ^−１以上の導電率を有する第２の電解質溶液１０７を供給する第２の供給部と、を備える。 - 特許庁

A diaphragm part 2A is formed in a sealing gas introducing portion, in a support substrate 2 for bonding the quartz oscillator 1, and the diaphragm part is distorted to a sealing gas introducing part side by the solution pressure received when immersing the sealing gas introducing portion into a solution, so as to reduce the distortion of the quartz substrate to the sealing gas introducing part side.例文帳に追加

水晶振動子１を貼付ける支持基板２には封入気体導入部分にダイアフラム部２Ａを形成し、水晶振動子部分を溶液中に浸漬したときに受ける溶液圧でダイアフラム部を封入気体導入部側に歪ませ、水晶基板が封入気体導入部側に歪むのを少なくする。 - 特許庁

The measuring method enables the output of a conversion value as a resist film thickness value by converting a weight difference between a substrate weight before resist application and a substrate weight after resist application into the film thickness by using a data table for converting a target film thickness and the weight difference of a resist solution registered in advance when the resist solution is applied.例文帳に追加

レジスト溶液の塗布時、予め登録したレジスト溶液の目標膜厚と重量差を変換するデータテーブルを用いて、レジスト塗布前の基板重量と、レジスト塗布後の基板重量の重量差から膜厚に換算し、該換算値をレジスト膜厚値として出力する測定方法。 - 特許庁

Also provided is a method for testing an agent for its ability to inhibit binding between fibroblast growth factor (FGF) and heparanase substrate, comprising the steps of: interacting in solution immobilized FGF on a solid support with the agent and labeled heparanase substrate, and detecting the presence or absence of label in the solution remote from the solid support.例文帳に追加

線維芽細胞成長因子（FGF）とへパラナーゼ基質との結合を阻害する能力に関しては、固体支持体上に固定化したFGFを物質および標識基質と溶液中で相互作用させる段階、および固体支持体から離れた溶液中の標識の有無を検出する段階を含む。 - 特許庁

The method includes immersing a substrate having a miscut surface into a reaction solution containing a precursor compound for a perovskite-type ferroelectric and water, and implementing a hydrothermal reaction in the reaction solution at a temperature lower than the phase transition temperature of the perovskite-type ferroelectric, thereby a perovskite-type ferroelectric layer is formed on the miscut surface of the substrate.例文帳に追加

ペロブスカイト型強誘電体生成用の前駆化合物及び水を含む反応液に、ミスカット表面を持つ基板を浸漬した後、ペロブスカイト型強誘電体の相転移温度より低い温度で反応液を水熱合成することにより、基板のミスカット表面上にペロブスカイト型強誘電体層が形成される。 - 特許庁

When a solution is delivered while carrying out a sending action of the nozzle 10, the sending direction component of a relative velocity of the nozzle 10 is offset by delivering the solution from the nozzle 10 in the direction slanting to the vertical line on the reverse side of the sending direction so that a coating area of a substrate is coated with the solution from the vertical direction.例文帳に追加

ノズル１０の送り動作をしながら溶液を吐出した場合に、ノズル１０の相対速度の送り方向成分は、送り方向と逆方向に鉛直線から傾斜した向きにノズル１０から溶液が吐出されることによって相殺され、基板の塗布領域に対して鉛直方向から溶液が塗布される。 - 特許庁

During or after the polishing step 2, a chemical conversion treatment is conducted through a contact with an electrolytic solution, either with the surface of the substrate in contact as is with the working solution or immediately after the working solution is removed, whereby the surface of the embedded metallic material is provided with a protective chemical conversion coating.例文帳に追加

研摩工程２の進行中又は完了後に、基材表面を作業液に接触した状態のままか、もしくは作業液を除去した直後に電解液接触による化成処理を行うことによって埋込んだ金属材料表面に保護性の化成皮膜を形成する（工程３）。 - 特許庁

To provide an abrasive cleaning composition that can abrasively clean a precision-worked surface of a substrate with efficiency and that reuses an abrasive media solution composition by simply removing metal oxide particles, removed flash particles or the like from an abrasive media solution composition utilizing the specific gravity differential after abrasive cleaning and recycling the resulting abrasive media solution composition.例文帳に追加

精密加工した基材の表面を、効率的に研磨洗浄でき、研磨洗浄後に研磨メディア溶液組成物から比重の差を利用して、簡単に金属酸化物の粒子や除かれたバリの粒子などを除去し、研磨メディア溶液組成物を再循環して使う研磨洗浄組成物を提供する。 - 特許庁

The anode electrode for visible light decomposition of water is obtained by immersing a nano-porous titanium oxide electrode, which is prepared by forming a titanium oxide layer on an ITO substrate or the like and has a fine porous structure, in a mixed solution of a SbCl_3 acetone solution and a Na_2S_2O_3 aqueous solution to deposit antimony sulfide.例文帳に追加

ＩＴＯ基板などの上に酸化チタン層を形成して作成した微細な多孔質構造を有するナノポーラス酸化チタン電極を、ＳｂＣｌ３アセトン溶液とＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液との混合溶液に浸漬して硫化アンチモンを析出させて得られる、水の可視光分解用アノード電極。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a transparent conductive layer that adds ion to a conductive polymer solution (25) and adopts a wire (30) to which an electric potential with polarity opposite to that of the ions is applied and in which thereby a transparent substrate (10) is not only uniformly coated with the conductive polymer solution (25), but also accurately patterned with the conductive polymer solution (25).例文帳に追加

伝導性高分子溶液（２５）にイオンを添加し、このイオンと反対極性の電位を印加したワイヤー（３０）を採用することにより、伝導性高分子溶液（２５）を透明基板（１０）に均一にコートし且つ正確なパターニングを実現することが可能な透明導電膜製造装置を提供する。 - 特許庁

A photocatalyst hydrophilic film 16 is formed by dissolving a solute having silicon dioxide which is the basic component of the film 16, applying or dropping a film stock solution mixed with photocatalyst particles 18 onto the surface of a glass substrate 12 and rotating the glass substrate 12 in this state to thinly spread the film stock solution over the entire part of the surface of the glass substrate 12 and further calcining the substrate.例文帳に追加

光触媒性親水膜１６は、光触媒性親水膜１６の基本成分である二酸化珪素を有する溶質を溶剤中に溶かし込むと共に、光触媒粒子１８を混合した被膜原液をガラス基板１２の表面上に塗布若しくは滴下した状態で、ガラス基板１２を回転させることで被膜原液をガラス基板１２の表面全体に薄く広げられ、更に、焼成処理することで形成される。 - 特許庁

This method for testing an agent for its potential to inhibit heparanase catalytic activity comprises interacting immobilized heparanase substrate binding protein on a solid support with labeled heparanase substrate to provide immobilized labeled substrate, interacting a heparanase enzyme solution with the substrate in the presence of the agent, and detecting the presence or absence of label in the solution remote from the solid support.例文帳に追加

へパラナーゼ触媒活性を阻害する能力に関する物質を試験する方法であって、固定化した標識ヘパラナーゼ基質（標識基質と略す）を得るために、固体支持体上に固定化した基質結合蛋白質を標識基質と相互作用させる段階、試験物質と、へパラナーゼ酵素溶液を、固定化した標識基質と相互作用させる段階、および固体支持体から離れた溶液中の標識の有無を検出する段階を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the plated substrate 100 is based on an electroless plating method and includes a process for forming a catalyst layer on a substrate by dipping the substrate into a catalyst solution containing palladium, hydrogen peroxide and hydrochloric acid and a process for forming a metal layer by depositing a metal on an area, where the catalyst layer is not formed, by dipping the substrate in an electroless plating solution.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板１００の製造方法は、無電解めっき法によりめっき基板を製造する方法であって、パラジウム、過酸化水素および塩酸を含む触媒溶液に基板を浸漬することにより、当該基板上に触媒層を設ける工程と、無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、前記触媒層の形成されていない領域に金属を析出させて金属層を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing carbon nanotubes comprises a step of manufacturing a substrate equipped with a metal fine particle layer on a basic substrate by dropping and drying, on the basic substrate, a catalyst solution containing metal fine particles fabricated by an active liquid surface continuous vacuum deposition method, and a step of arranging the substrate in a chamber and subjecting the substrate to a chemical vapor deposition (CVD) treatment to manufacture the carbon nanotubes.例文帳に追加

活性液面連続真空蒸着法により作製した金属微粒子を含む触媒溶液を基礎基板上に滴下し乾燥させ基礎基板上に金属微粒子層を備える基板を製造する工程と、基板をチャンバー内に配置し基板に化学気相成長（ＣＶＤ）処理しカーボンナノチューブを製造する工程とを含むカーボンナノチューブの製造方法。 - 特許庁

This liquid imparting device includes an oscillator in a substrate mounting part, and a mechanism for controlling a frequency/amplitude/time of the oscillator inside or outside the liquid imparting device, and the reaction of the substrate with the probe in the probe solution is promoted by imparting vibration to the substrate.例文帳に追加

液体付与装置において、基板搭載部に振動子を設け、液体付与装置内又は装置外に振動子の周波数・振幅・時間を制御する機構を設け、基板へ振動を与える事で基板とプローブ溶液内のプローブの反応を促進することに関する。 - 特許庁

A roll-shape long substrate 1 prepared by winding a long substrate multiple times into a roll shape with a prescribed space between the respective rolled parts is immersed in a reaction solution 6 for inorganic film formation in a reaction tank 5, to deposit an inorganic film on a surface of the long substrate.例文帳に追加

長尺基板を各巻部同士の間に所定の間隔を設けた状態でロール状に複数回巻回してなるロール状長尺基板１を、反応槽５内の無機薄膜形成用反応液６に浸漬して長尺基板表面に無機薄膜を析出させる。 - 特許庁

In a method for producing the oriented thin film of copper- aluminum oxide a raw material aqueous solution comprising copper nitrate, aluminum nitrate, and water is applied on a crystalline silicon substrate, a crystalline silicon oxide substrate, and a crystalline aluminum oxide substrate, and the coated substrates, after being allowed to stand, are dried, and burned.例文帳に追加

硝酸銅と硝酸アルミニウムと水からなる原料水溶液を結晶性のシリコン基板、結晶性の酸化シリコン基板、結晶性の酸化アルミニウム基板に塗布し、静置した後、乾燥させ、次いで焼成する配向構造を有する銅アルミ酸化物薄膜の製造方法。 - 特許庁

The thin film production method comprises: a stage where the planar substrate is preheated; a stage where the preheated planar substrate is sucked on a hot plate; and a stage where a solution comprising the raw material for a thin film is sprayed on the surface of the planar substrate sucked on the hot plate.例文帳に追加

また、板状の基板を予備加熱する工程と、予備加熱された板状の基板をホットプレート上に吸着する工程と、ホットプレート上に吸着された板状の基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁