「substrate temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface of the photoresist 2 is heated to a predetermined temperature, while the semiconductor substrate 1 coated with the photoresist 2 is cooled to a predetermined temperature.例文帳に追加

フォトレジスト２の表面は所定の温度に加熱され、フォトレジスト２が塗布された半導体基板１は所定の温度に冷却される。 - 特許庁

Temperature is managed for the disk substrate, the UV curable resin and room temperature, to stabilize the formed film thickness.例文帳に追加

このようにディスク基板、紫外線硬化性樹脂、室温について温度管理を行うことで、形成される膜厚を安定させる。 - 特許庁

A temperature sensor (16), a fiber temperature adjusting circuit (14) and conducting electrodes (8), etc., can be provided on the substrate (3).例文帳に追加

また、基板（3）上には、温度センサ（16）、ファイバ温度調節回路（14）、通電用電極（8）等を設けることも可能である。 - 特許庁

A temperature-sensitive film 12 comprising a platinum pattern to be a temperature-measuring end is formed on a substrate 1 made of alumina having electric insulation property.例文帳に追加

電気絶縁性を有するアルミナ製の基板１１上に、測温端となる白金パターンから成る感温薄膜１２を形成している。 - 特許庁

Alternatively, a method comprises a heat treatment process which is performed at temperature higher than film formation temperature of the amorphous oxide layer after forming the amorphous oxide layer on the substrate.例文帳に追加

または、基板上に、非晶質酸化物層を形成する後に、非晶質酸化物層の成膜温度よりも高い温度で熱処理する工程を含む。 - 特許庁

The PCMO composition is controlled by adjusting the substrate temperature, the vaporizer temperature or the both thereof.例文帳に追加

ＰＣＭＯの組成は、基板温度、蒸発器温度、またはその両方を調節することによって、さらに制御される。 - 特許庁

Similarly, a second irreversible temperature indicating label is obtained by a green substrate 1 and wax 2-1 that melts at a second temperature.例文帳に追加

同様に、緑色基材１と第二の温度で融解するワックス２−１によって第二の不可逆性示温ラベルを得る。 - 特許庁

The substrate is exposed to gaseous chemistry without plasma under control conditions including wall temperature, surface temperature, and gas pressure.例文帳に追加

基板は、壁温度、表面温度およびガス圧を含む制御状態の下で、プラズマ無しで、ガス化学にさらされる。 - 特許庁

Hydrogen gas is supplied and rise in its temperature is continued, until the underlaying substrate reaches a predetermined formation temperature (step S4).例文帳に追加

水素ガスの供給と昇温とは、下地基板が所定の形成温度に達するまで継続される（ステップＳ４）。 - 特許庁

After providing the atmosphere 19, a substrate temperature is lowered from the growth temperature of the GaN based semiconductor region 17.例文帳に追加

雰囲気１９が提供された後に、ＧａＮ系半導体領域１７の成長温度から基板温度を下げる。 - 特許庁

Reaction of metal material gas and reducing gas is performed in a temperature region where film forming speed depends on a substrate temperature.例文帳に追加

金属原料ガスと還元性ガスとの反応は、成膜速度が基板温度に依存する温度領域で行われる。 - 特許庁

The temperature of the sample m can precisely be obtained by measuring the temperature of the substrate W using the interferometer 11.例文帳に追加

干渉計１１を利用して、基板Ｗの温度を計測することで、試料ｍの正確な温度を知ることができる。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF HEATING PLATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND COMPUTER PROGRAM FOR MEASURING TEMPERATURE OF HEATING PLATE例文帳に追加

加熱プレートの温度測定方法、基板処理装置及び加熱プレートの温度測定用のコンピュータプログラム - 特許庁

Subsequently, a glass film is formed by heating it at a temperature lower than the diffusion temperature of Al and Al is diffused to the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

次に、Ａｌの拡散温度よりも低い温度で加熱してガラス膜を形成し、しかる後、Ａｌを半導体基板１に拡散する。 - 特許庁

The turbine combustor component 5 has a substrate 20 having a high temperature side face 22 and a low temperature side face 24, and the coating system 10.例文帳に追加

タービン燃焼器部品５は、高温側面２２および低温側面２４を有する基板２０と、コーティングシステム１０を有する。 - 特許庁

A temperature sensor 15 detecting temperature is provided on a semiconductor substrate, on which the load controller 1 is formed.例文帳に追加

負荷制御装置１が形成された半導体基板には、その温度を検知する温度センサ１５が設けられる。 - 特許庁

Similarly, a second irreversible temperature indicating label is constituted by a green substrate and wax 2-1 that melts at a second temperature.例文帳に追加

同様にして、緑色の基材１、第二の温度で融解するワックス２−１によって第二の不可逆性示温ラベルが構成される。 - 特許庁

Also, on the substrate (4), a temperature sensor (6), a fiber temperature adjusting circuit (7), an electrode for energization (8) or the like can be provided.例文帳に追加

また、基板（4）上には、温度センサ（6）、ファイバ温度調節回路（7）、通電用電極（8）等を設けることも可能である。 - 特許庁

Hereafter, a treatment setting the temperature of the semiconductor substrate 1 higher than the heat treatment temperature of the second heat treatment is not executed.例文帳に追加

これ以降、半導体基板１の温度が第２の熱処理の熱処理温度よりも高温となるような処理は行わない。 - 特許庁

A softening area 27 irradiated with the second spot light 26 is heated to a temperature higher than the softening temperature Ts of the glass substrate 12.例文帳に追加

第２のスポット光２６が照射される軟化領域２７は、ガラス基板１２の軟化点Ｔｓよりも高い温度に加熱される。 - 特許庁

The gas heated at suitable temperature in a suitable source position in the reaction tube 23 forms uniform temperature distribution at a part in the vicinity of the processed substrate 21.例文帳に追加

反応管２３内の好適位置で好適温度に加熱されたガスは、被処理基板２１付近において均一な温度分布を形成する。 - 特許庁

The chemical remaining on the surface of the substrate 1 is cooled to a temperature lower than a normal temperature by a cooling liquid supplied from a cooling liquid nozzle 7.例文帳に追加

そして、冷却液ノズル７から供給された冷却液により、基板１の表面に残存する薬液が常温より低い温度に冷却される。 - 特許庁

The insulation layer is softened at a temperature higher than the normal operation temperature of the battery group and connects electrically the substrate and the electrode.例文帳に追加

絶縁層は、電池群の定常作動温度より高い温度で軟化して、基材と電極とを電気的に接続させる。 - 特許庁

To provide a system for processing substrate in which temperature control of units for processing substrates in the vicinity of normal temperature can be performed precisely.例文帳に追加

常温付近で基板に対して処理を行うための処理ユニットにおける温度制御を精密に行うことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device which stabilizes a temperature in a treatment chamber at a target temperature in a short period of time while suppressing overshoot.例文帳に追加

オーバーシュートを抑制しつつ、短期間で処理室内の温度を目標温度に安定させることのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a CMOSN-type substrate diode for temperature sensor which is not affected by a parasitic transistor with low consumption current, and a temperature sensor.例文帳に追加

低消費電流で、寄生トランジスタの影響を受けない温度センサ用ＣＭＯＳＮ型基板ダイオードおよび温度センサを提供すること。 - 特許庁

Then the temperature of the substrate 2 is maintained at a temperature T and en emitter film 70 and an emitter contact film 80 are grown.例文帳に追加

次に、基板２を温度Ｔに維持し、エミッタ膜７０およびエミッタコンタクト膜８０を成長する。 - 特許庁

In this case, when the cooling nozzle 3 is faced to a substrate surface Wf, the cooling temperature (discharge cooling medium temperature) is sharply reduced.例文帳に追加

このとき、冷却ノズル３が基板表面Ｗｆ上に対向すると冷媒温度（吐出冷媒温度）が急激に低下する。 - 特許庁

At this time, the substrate is heated to a prescribed temperature selected from within the range from 100°C to near the liquid crystal transition temperature.例文帳に追加

その際、１００℃から液晶転移温度付近までの範囲内から選択された所定温度に加熱する。 - 特許庁

After the temperature of the molding falls to specified temperature, the molds are released and the substrate 5 having the cores 3 buried is taken out.例文帳に追加

成形品の温度が所定の温度まで低下したところで、型を開き、コア３が埋め込まれた基板５を取り出す。 - 特許庁

A transmitting section 36A transmits the component type data, the original substrate type data and the temperature data to a temperature setting device 20.例文帳に追加

送信部３６Ａは、部品種類データ、原基板種類データ、及び温度データを温度設定装置２０へ送信する。 - 特許庁

With the increase or decrease in temperature of the heat plate 70, the temperature of the housing 51 is also increased or decreased, providing a heat treatment evenly on the substrate W.例文帳に追加

よって、熱プレート７０の昇降温に応じてハウジング５１も昇降温し基板Ｗへの熱処理を均一に施すことができる。 - 特許庁

A temperature rising nozzle 3 is used for high-efficient heat transmission to jet hot air vertically to a printed substrate 1 in a temperature rising area.例文帳に追加

昇温領域ではプリント基板１に対して垂直に熱風を吹き付ける昇温ノズル３による高効率熱伝達を行う。 - 特許庁

In other words, the temperature of the substrate is satisfactorily conducted to the vertically impinging high-temperature gas.例文帳に追加

この現象を別の言い方をすると基板の温度は垂直に入射する高温ガスに対してよく伝わる。 - 特許庁

In this case a temperature of the first resin liquid 2 is adjusted at a higher temperature than that of the second resin liquid 3 and the substrate is impregnated with respective resin liquids 2 and 3.例文帳に追加

この際に、第一の樹脂液２の温度を第二の樹脂液３よりも高い温度に調整して、各樹脂液２，３を基材に含浸する。 - 特許庁

To obtain a ceramic substrate exhibiting high reliability of connection with an external terminal in which temperature control characteristics exhibits excellent temperature rising/lowering characteristics or chucking characteristics.例文帳に追加

温度制御特性が昇降温特性あるいは吸着特性に優れると共に、外部端子との接続信頼性の高いセラミック基板を得ること。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing device which improve treatability at high temperature by raising a heating temperature of a substrate.例文帳に追加

基板の加熱温度を上げて高温処理能力を向上させることが可能な半導体製造装置を提供することにある。 - 特許庁

An integrated value of the difference between the surface temperature of a baking plate measured when a substrate is placed on the baking plate and a set temperature is calculated.例文帳に追加

ベークプレートに基板が載置された際に実測されたベークプレートの表面温度と設定温度との差の積分値を算定する。 - 特許庁

A temperature control case 5 is provided to cover the electronic components 3 and the temperature sensor 4 provided on the substrate 1.例文帳に追加

そして、基板１の表面に設けられる電子部品３および温度センサ４を被覆するように温度制御ケース５が設けられている。 - 特許庁

The protective coat 33 having a bending elastic modulus near 5 GPa or so at normal temperature breaks a glass substrate 3 having a bending elastic modulus of 6 GPa or so at normal temperature.例文帳に追加

常温での曲げ弾性率が５ＧＰａ付近の保護膜33は、常温での曲げ弾性率が６ＧＰａ程度のガラス基板３を破壊してしまう。 - 特許庁

The cooling device 1 has a temperature distribution detecting means 13 which can detect a temperature distribution in the substrate W.例文帳に追加

また、ハンダ付け装置１は、温度分布検知手段１３を有し、基板Ｗにおける温度分布を検知することができる。 - 特許庁

To provide a method for exactly controlling a temperature in rapid thermal process(RTP) low temperature operation in the production process of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の製造プロセスにおいてＲＴＰ（急速熱処理）低温操作を正確に温度制御する方法を提供する。 - 特許庁

To solder an integrated circuit package on a substrate while suppressing temperature rise of the integrated circuit package to be equal to or under heat resistant temperature.例文帳に追加

集積回路パッケージの温度上昇を耐熱温度以下に抑制しながら、集積回路パッケージを基板に半田付けする。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 17, a temperature detector 11, control unit 12, temperature set 13, output 14, heater 15, and semiconductor circuit 16, are formed.例文帳に追加

半導体基板１７上に、温度検出部１１、制御部１２、温度設定部１３、出力部１４、発熱部１５、半導体回路１６を備える。 - 特許庁

To provide a substrate processor having a temperature control function for holding a wafer at a prescribed temperature regardless of a great change of the gas flow rate.例文帳に追加

ガス流量が大きく変化してもウェハの温度が所定の温度に保持されるような温度制御機能を備えた基板処理装置を提供する。 - 特許庁