「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Metal film surface treatment, a nonmetal film surface treatment or composite film surface treatment of them is applied to a mold and, if necessary, the surface of the mold is polished to set the surface roughness Rz (ten- score average roughness) of the mold to 0.001-0.5 μm.例文帳に追加

金属被膜表面処理、非金属被膜表面処理、又はそれらの複合被膜表面処理を施し、必要に応じて磨きを行い、金型の表面粗さＲｚ（十点平均粗さ）を０．００１〜０．５μｍにする。 - 特許庁

The semiconductor packaging substrate includes an electrode having at least two regions having different surface roughness such as a peripheral part 2a with larger surface roughness and a central part 2b with smaller surface roughness, which allows fine bumps to be formed with high accuracy on the central part 2b with smaller surface roughness and obtains strong adhesiveness between the periphery part 2a with large surface roughness and a seal material.例文帳に追加

表面粗さが大きい周縁部２ａと、表面粗さが小さい中央部２ｂの、少なくとも二つの表面粗さの異なる領域を持つ電極を有した半導体実装基板を用いることにより、表面粗さが小さい中央部２ｂ上には微細なバンプを高精度で形成できると共に、表面粗さが大きい周縁部２ａと封止材料の強固な接着を得ることが可能となる。 - 特許庁

The pot 1 is coated with the fluoroplastic on the internal surface and the surface is at least partially roughened to have a surface roughness of 1-10 μm.例文帳に追加

鍋１は、内面をフッ素樹脂塗装し、その表面を少なくとも部分的に表面粗さ１〜１０μｍに粗面化する。 - 特許庁

Next, the surface of the ceramic layer is subjected to stone polishing, and its surface is arranged to such an extent that a surface roughness Ra is about 0.005 to 0.01 μm.例文帳に追加

次にセラミック層の表面に砥石研磨をして、表面粗さＲａが０．００５〜０．０１μｍ程度に整面する。 - 特許庁

In the rolling slide surface (raceway surface) 1a, center line surface roughness (Ra) is set in a range of 0.02-0.2 μm.例文帳に追加

そして、この転がり摺動面（軌道面）１ａは、その中心線表面粗さ（Ｒａ）を０．０２〜０．２μｍの範囲内に設定した。 - 特許庁

Surface roughness of a transfer surface of the forming die 9 is reduced by irradiating the transfer surface with gas cluster ion beam 8.例文帳に追加

この成形型９の転写面に対しガスクラスターイオンビーム８を照射して当該転写面の表面粗さを低減させる。 - 特許庁

The substrate for a solar cell consists of: a surface roughness layer composed of a thermoplastic crystalline resin composition containing inert particles, and having surface roughness Ra in the range of 30-500 nm; and a support layer composed of a thermoplastic crystalline resin contacting the surface roughness layer.例文帳に追加

不活性粒子を含有する熱可塑性結晶性樹脂の組成物から構成され表面粗さＲａが３０〜５００ｎｍの粗面層、およびこれに接する熱可塑性結晶性樹脂から構成される支持層からなる太陽電池の基材。 - 特許庁

The substrate for an electronic device has a pair of main surfaces opposite to each other, the surface roughness of the main surface is 0.4 nm or less at RMS (root mean square roughness), and both main surfaces are different in surface roughness.例文帳に追加

基板は対向する一対の主表面を有し、前記主表面の表面粗さがＲＭＳ（二乗平均平方根粗さ）で０.４ｎｍ以下であり、且つ、両主表面の表面粗さが異なるように構成される電子デバイス用基板とした。 - 特許庁

At this time, the roughness (interface roughness) of the base film is about 0.5 nm (RMS) or less so that the scattering loss may be not derived from reflecting the roughness on the surface of the multilayer reflection film 3.例文帳に追加

このとき下地膜部分の粗さ（界面粗さ）はおよそ0.5nm（ＲＭＳ）以下であり多層反射膜３の表面に粗さが反映されて散乱損失の原因となることはない。 - 特許庁

A disk substrate having a relation represented by 0<Ra1-Ra2≤0.2nm is used, where Ra1 is average surface roughness of an inner peripheral surface and Ra2 is average surface roughness of the outer peripheral surface of its data area.例文帳に追加

内周面の平均表面粗さをＲａ1、及びそのデータ領域の外周面の平均表面粗さをＲａ2とするとき、０＜Ｒａ1−Ｒａ2≦０．２ｎｍで表される関係を有するディスク状基板を使用する。 - 特許庁

The spherical surface roughness in the inner most side from the axial center of the inside diameter surface 1 is made R2 and when the spherical surface roughness in the opening side from the axial center of the inside diameter surface 1 is made R1, R1<R2<2R1 is obtained.例文帳に追加

内径面１の軸方向中央から奥側の球面面粗度をＲ２とし、内径面１の軸方向中央から開口側の球面面粗度をＲ１としたときに、Ｒ１＜Ｒ２＜２Ｒ１となる。 - 特許庁

The first smoothing layer 16 is welded to the surface of the first support substrate 14 to form, on the surface of the support substrate 17, surface roughness that is smaller than the surface roughness of the first support substrate 14.例文帳に追加

第１平滑層１６は第１支持基板１４の表面に溶着されて、支持基板１７の表面に第１支持基板１４の表面粗さより小さい表面粗さの表面を形成するものである。 - 特許庁

Roughness of the uppermost surface is preferably 0.1 to 3 μm expressed by the arithmetic mean roughness Ra specified by JIS B0601.例文帳に追加

最表面の粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に規定される算術平均粗さＲａで表して０．１〜３μｍであることが好適である。 - 特許庁

The surface roughness of the wall surfaces of the drainage grooves 10 is an arithmetic mean roughness (Ra) of ≤2.0 μm defined by Japan Industrial Standard (JIS).例文帳に追加

排水溝１０の壁面の表面粗さは、日本工業規格で規定する算術平均粗さ（Ｒａ）で、２．０μｍ以下である。 - 特許庁

The surface roughness of the DLC film 20 is set at 0. 05 μm or less in centerline average roughness Ra and set at 0.5 μm or less at maximum height Rmax.例文帳に追加

また、ＤＬＣ膜20の表面粗さを、中心線平均粗さRaで０．０５μｍ以下とし、最大高さRmaxで０．５μｍ以下にする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which prevents falling of a pattern and ensures improved edge roughness, density dependence and surface roughness in etching.例文帳に追加

パターン倒れが防止され、エッジラフネス、疎密依存性、及びエッチング時の表面荒れが改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A potential distribution 11 is formed along the surface roughness, and carriers can be considered to be conducted along equipotential lines in approximation, so that the conduction of carriers is not prevented by the surface roughness.例文帳に追加

電位分布が表面粗さに沿うようになり、キャリアは等電位線に沿って伝導すると近似的に言えるので、表面粗さはキャリア伝導を妨げないことになる。 - 特許庁

Each surface roughness of a raceway face 1a of an outer ring 1 and a raceway face 2a of the inner ring is set less than 2 times the surface roughness of the rolling face 3a of the tapered roller 3.例文帳に追加

外輪１の軌道面１ａおよび内輪２の軌道面２ａの面粗さを、何れも円すいころ３の転動面３ａの面粗さの２倍未満とする。 - 特許庁

The surface roughness of the circumferential surface of the intermediate transfer belt 4 in an initial using state is set to be ≥0.6μm and <1.0μm in ten-point average roughness (Rz).例文帳に追加

使用初期状態での中間転写ベルト４の外周面の表面粗さは、１０点平均粗さ（Ｒｚ）で０．６μｍ以上１．０μｍ未満に設定する。 - 特許庁

The surface roughness of the discharge pipe composing the high pressure discharge lamp is set so as to be larger than the surface roughness of the outer pipe and the water cooling pipe.例文帳に追加

前記高圧放電ランプを構成する放電管の表面粗さを、前記外管および前記水冷管の表面粗さよりも大きくしたことを特徴とする。 - 特許庁

A ratio of the surface roughness Ra1 of the insulation tape 15 to the surface roughness Ra2 of the positive electrode plate 10 ranges from 0.5 to 1.5 (0.5Ra2≤Ra1≤1.5Ra2).例文帳に追加

そして、絶縁テープ１５の表面粗さＲａ１が正極板１０の表面粗さＲａ２に対して０．５以上で１．５以下（０．５Ｒａ２≦Ｒａ１≦１．５Ｒａ２）である。 - 特許庁

The surface roughness of the face of the thermoplastic resin coating 5 to the coated optical fiber wire 6, namely, of the inner surface of the coating 5 is ≤0.5 μm arithmetic average roughness Ra.例文帳に追加

また、熱可塑性樹脂被覆５の光ファイバ素線６と接する面、すなわち、内面の表面粗さは、算術平均粗さＲａで０．５μｍ以下である。 - 特許庁

In the optical integrated circuit module 1, the end face 4 of the SOB 3 is polished to a surface roughness smaller than the surface roughness cut with a dicer.例文帳に追加

この光集積回路モジュール１では、ＳＯＢ３の端面４は、ダイサーで切削された表面粗さよりも小さい表面粗さに研磨された面になっている。 - 特許庁

Irregularity 72 with surface roughness (ten-point average roughness specified in JIS B 0601) of ≤0.3 μm is provided on the surface 71 of the light diffusion substrate 7.例文帳に追加

この光拡散基板７の面７１には、表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下の凹凸７２が設けられている。 - 特許庁

To provide an ultrasonic apparatus for measuring a surface roughness, which includes a simple and compact structure, is excellent in portability and accurately measures the surface roughness for a short time, and to proved a method therefor.例文帳に追加

簡単な構造で小型であり、可搬性に優れ、短時間で正確な表面粗さの測定が可能な超音波表面粗さ測定方法と装置を提供する。 - 特許庁

Thus, even in the case of grinding the plurality of workpieces W (hard members), the surface roughness of each work W is made close to the predetermined surface roughness.例文帳に追加

これにより、複数のワークＷ（硬質部材）を研削する場合でも、各ワークＷの表面粗さを予定表面粗さに近づけることができるようにする。 - 特許庁

The relationship between surface roughness Rz' of the developer carrier 102 and surface roughness Rz of the thin layer forming member 104 is defined as -10 μm≤(Ra-Rz')≤5 μm.例文帳に追加

現像剤担持体１０２の表面粗さＲｚ’と薄層形成部材１０４の表面粗さＲｚとの関係を、−１０μｍ≦（Ｒｚ−Ｒｚ’）≦５μｍとする。 - 特許庁

To provide a piston for an internal combustion engine capable of reducing the consumption of lubricating oil by making the surface roughness of a ring land part greater than the surface roughness of a skirt part.例文帳に追加

リングランド部の表面粗さをスカート部の表面粗さより粗くすることにより、潤滑油消費量を低減させた内燃機関のピストンを提供する。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the magnetic layer is made equal to or less than 12.0 nm, and the improvement rate of the surface roughness of the nonmagnetic supporting body by the magnetic layer is made equal to or less than 0.8.例文帳に追加

また、前記磁性層の表面粗度Ｒａは、１２．０ｎｍ以下とし、その磁性層による非磁性支持体表面粗度の改善率は０．８以下とする。 - 特許庁

Preferably, smoothness is previously increased by mechanical polishing as for the copper foil in which the roughness of the surface is not uniform, or the average surface roughness is ≥10 μm in terms of Rz.例文帳に追加

銅箔表面の粗さが不均一であり、或いは平均表面粗度がＲｚ：１０μｍ以上の箔については予め機械的研磨で平滑度を上げると良い。 - 特許庁

To obtain a plane ground workpiece superior in surface roughness, without marks( traces) of a grinding wheel.例文帳に追加

砥石車の軌跡（ビレ）がない、面粗度の良好な平面研削加工品を得る。 - 特許庁

Furthermore, the surface roughness of the through hole or the blind hole is taken as ≤25 μm.例文帳に追加

さらに、当該貫通または非貫通孔の表面粗さを２５μｍ以下とする。 - 特許庁

The surface of the strained second semiconductor crystalline material has a reduced roughness.例文帳に追加

歪んだ第２の半導体結晶材料の表面の粗さは、低減されている。 - 特許庁

To propose a finish machining tool for providing high dimensional accuracy and superior surface roughness.例文帳に追加

高い寸法精度と良好な面粗さを得る仕上げ加工用工具を提案する。 - 特許庁

The cementitious hardened body preferably has a surface roughness (Ry) of ≥10 μm.例文帳に追加

上記セメント質硬化体は、表面粗さ(Ｒy)が10μm以上であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for producing a sponge rubber with low density and low roughness of the surface thereof.例文帳に追加

低密度で表面荒れの少ないスポンジゴムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Further the surface roughness (Ra) of the black colored resin film is made as 1.0-5.0 μm.例文帳に追加

また、前記黒色樹脂皮膜の表面粗さ（Ｒａ）を１．０〜５．０μｍとする。 - 特許庁

Preferably, a surface roughness Ra value of the photosensitive film 2 is 0.05-0.2 μm.例文帳に追加

感光性フィルム２の表面粗さＲａ値は、０．０５μｍ〜０．２μｍが好ましい。 - 特許庁

The maximum roughness of the top surface of the peripheral projection 31 is less than 10 μm.例文帳に追加

周辺突状部３１の頂面の凹凸の最大値が１０μｍ未満である。 - 特許庁

The surface roughness is preferably set in ≥20 μm to <60 μm.例文帳に追加

表面粗さの大きさは、２０μｍ以上６０μｍ未満とするのが好適である。 - 特許庁

The chamfers 20b have a surface roughness larger than the outer circumference 20a.例文帳に追加

面取り面２０ｂは、表面粗さが外周面２０ａよりも大きくされている。 - 特許庁

Based on it, surface roughness (Ra) of the carrier is set to 0.08 μm or less.例文帳に追加

これに基づき、キャリアの表面粗さ（Ｒａ）は０．０８μｍ以下とされている。 - 特許庁

Since the surface 18a is not post-processed in making roughness, various characteristics are not deteriorated.例文帳に追加

粗面化に際し表面１８ａを後処理しないので、諸特性は劣化しない。 - 特許庁

To reduce the surface roughness of lands of an electron beam resist.例文帳に追加

電子線レジストのランド部分の面粗さを低減することを提供することにある。 - 特許庁

The surface roughness of the fixing member is set to 1.0 to 4.0 (μm).例文帳に追加

そして、前記定着部材の表面の表面粗さは１．０〜４．０〔μｍ〕にされる。 - 特許庁