| 意味 | 例文 |
surface- roughnessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4887件
To provide an epoxy resin composition capable of reducing the surface roughness of the surface of a roughening-treated cured body.例文帳に追加
粗化処理された硬化体の表面の表面粗さを小さくすることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To manufacture an electrolytic copper foil having small surface roughness of a deposition surface and excellent elongation without using any gelatin or glue.例文帳に追加
ゼラチンや膠などを用いなくても、析出面の表面粗さが小さく、伸び率に優れた電解銅箔を製造する。 - 特許庁
This rubber sealing material has an amide-based wax-coated film formed on the surface of a formed product of a vulcanized rubber, having 1-30 μm surface roughness.例文帳に追加
1〜30μmの表面粗さを有する加硫ゴム成形品表面にアミド系ワックス被膜を形成させたゴムシール材。 - 特許庁
The surface roughness of the coating film 9 is taken as smaller than that of the original surface by which the groove parts 2b is formed.例文帳に追加
また、被膜9は、溝部2bを形成する原表面よりも小さい表面粗さとされている構成とした。 - 特許庁
To improve surface roughness and work accuracy of a cutting finish surface and also extend a life of a ball end mill.例文帳に追加
切削仕上げ面の面粗度及び加工精度の向上を図るとともにボールエンドミルの寿命の延長を図ること。 - 特許庁
To provide a wire tool having superior cutting quality and surface roughness of a work surface, and capable of suppressing severance of wire caused by twist.例文帳に追加
切れ味が良く、加工面の面粗さが良好であり、捩れに起因する断線も少ないワイヤ工具を提供する。 - 特許庁
A surface of sealing resin 12 is a grained surface generally, and mean roughness is 13 to 15μ.例文帳に追加
封止樹脂12の表面は一般的に梨地面と成っており、その平均粗度は13から15ミクロン程度である。 - 特許庁
To provide a chip member for a micro-chemical system capable of maintaining the surface roughness after bonding as an optical surface.例文帳に追加
接合後の表面の粗さが光学表面を維持することができるマイクロ化学システム用チップ部材を提供する。 - 特許庁
Among them, the carbon coated layer 13 is used in which the surface roughness Ra of the layer surface 13a is 0.5 to 1.0 μm.例文帳に追加
このうち、カーボンコート層13は、層表面13aの表面粗さRaが0.5μm〜1.0μmとされてなる。 - 特許庁
The surface roughness of an adhesion surface 11ba of the mandril 11 for the adhesion of the multi-polar magnet 14 is Ra 0.8 or more.例文帳に追加
多極磁石14を接着する芯金11の接着面11baの表面粗さをRa0.8以上とする。 - 特許庁
The average surface roughness Ra of the light extraction side surface of the transparent protective layer 7 is set to 5-30 nm.例文帳に追加
透明保護層7の光取り出し側面の表面平均粗さRaを、5nm以上30nm以下に設定する。 - 特許庁
The embodiment in which the ten point average surface roughness (Rz) of the surface of the image forming layer is 0.5-7.0 μm is preferred.例文帳に追加
画像形成層の表面の十点平均表面粗さ(Rz)が、0.5〜7.0μmである態様が好ましい。 - 特許庁
Surface roughness Ra of at least a part coated by the resin composition of the material surface is 0.02≤Ra≤0.3.例文帳に追加
素材表面のうち、少なくとも樹脂組成物で被覆された部分の表面粗さRaは、0.02≦Ra≦0.3とする。 - 特許庁
There are protrusions and recesses on the surface of a conductive member 3, and average length Rsm value is one index of surface roughness.例文帳に追加
導電性部材3の表面には凹凸があり、表面粗さの指標の一つに平均長さRsm値がある。 - 特許庁
As a method for adhering, the reflector is suitably fixed to the polished surface without increasing the surface roughness.例文帳に追加
付着法として、表面の粗さを増大させることなく該反射体をその研磨された表面に適切に固着する。 - 特許庁
To provide a surface grinding machine improving the position detecting function of a touch probe sensor and providing a ground work having good surface roughness.例文帳に追加
タッチプロ−ブセンサの位置検出機能を高め、面粗度の良好な研削加工ワ−クを与える表面研削装置。 - 特許庁
Adjustment of surface roughness and surface height of each slide part is done by heat treatment, metal plating, and thin film containing carbon.例文帳に追加
各摺動部の面粗さや表面高度の調整は、熱処理、金属めっき、炭素含有薄膜により実現される。 - 特許庁
The surface hardness HV of the frictional surface of the clutch plate 19 is set at HV≥250, and surface roughness Ra is set at Ra≤0.2 μm.例文帳に追加
クラッチプレート19の摩擦面の表面硬さHVをHV≧250に,且つ表面粗さRaをRa≦0.2μmにそれぞれ設定する。 - 特許庁
Further, since the surface roughness of the wire surface itself influences on the adhesive strength with glass, the Ra of the wire surface is preferably controlled to ≤0.5 μm.例文帳に追加
さらに、ワイヤ表面の面粗さ自体もガラスとの密着強度に影響するので、ワイヤ表面のRaが0.5μm以下であることが好ましい。 - 特許庁
Alternatively, uneven parts or protruded parts may be formed on a surface of the secondary seal 12 facing the shaft 6, or the facing surface may be rougher in terms of surface roughness.例文帳に追加
また、二次シール12のシャフト6との対向面に、凹凸部や突出部を形成したり、前記対向面の面粗さを粗くしても良い。 - 特許庁
The rough surface treatment is desirably performed to the inner peripheral surface of the piston seal 3 in the circumferential direction at 2.5 Rz or more and 10 Rz or less of the surface roughness.例文帳に追加
又、ピストンシール3の内周面にも円周方向に、2.5Rz以上、10Rz以下の面粗しを実施すると、より好ましい。 - 特許庁
Here, the surface roughness of the wall surface is represented by making the property values of the virtual particles agree with the property value of the wall surface of the boundary.例文帳に追加
その際、仮想粒子の物性値を境界の壁面が持つ物性値に一致させることにより壁面の表面粗さを表現する。 - 特許庁
The surface roughness Ra of the first main surface of the GaN substrate is set at 20 nm or smaller and that of the second main surface set to 20 μm or smaller.例文帳に追加
GaN基板の第1の主面の表面粗さRaを20nm以下、第2の主面の表面粗さRaを20μm以下とする。 - 特許庁
Retained austenite amount in the surface part is set to be 20 to 50 vol.% and surface roughness of the surface part is set to be Hv 700 to 900.例文帳に追加
又、この表面部分の残留オーステナイト量を20〜50容量%とし、この表面部分の表面硬さをHv700〜900とする。 - 特許庁
The maximum surface unevenness height Sz of three-dimensional surface roughness of a heating body surface on the fixation roller side is set to a range of 2-85 μm.例文帳に追加
定着ローラ側の加熱体表面の三次元表面粗さの最大の表面凹凸高さSzを2〜85μmの範囲にする。 - 特許庁
In the forming device, a grinding wheel 12a for large surface roughness and a grinding wheel 12b for small surface roughness are arranged to the same honing head 20, and an axial length b of the grinding wheel 12b for small surface roughness becomes short by an axial t length corresponding to the head region T.例文帳に追加
成形装置は、面粗度大用砥石12aと面粗度小用砥石12bとを同一ホーニングヘッド20に設け、面粗度小用砥石12bの軸方向長さbが前記頭部領域Tに相当する軸方向長さt分だけ短くしたことを特徴とする。 - 特許庁
In the process in which a thin film-like object is supported by a substrate and flocculation molded, the surface roughness on the identical substrate is changed, and contraction of the film-like object is controlled by the portion having a larger surface roughness and the porosity formation of the film-like object is developed by the portion having a smaller surface roughness.例文帳に追加
薄膜状物を基板で支持して、凝固成形させる工程において、同一基板上の表面粗さを変え、表面粗さが大きい部分で薄膜状物の収縮を制御し、かつ、表面粗さの小さい部分で薄膜状物の多孔化を発現させる。 - 特許庁
This method of detecting the micro surface roughness and defect detects the micro surface roughness and defect having 0.5-6 μm of roughness in the magnetic metal specimen, and detects the surface defect by detecting a signal caused by a strain in a defective part of the specimen.例文帳に追加
磁性金属被検体の凹凸量0.5μm以上6μm以下の微小凹凸表面欠陥を検出する微小凹凸表面欠陥の検出方法であって、前記被検体の欠陥部の歪に起因する信号を検知することによって前記表面欠陥を検出する。 - 特許庁
To provide a means for stably manufacturing a metal band having a small surface roughness, capable of suppressing change of a surface roughness of a work roll even though an amount of oil introduced to a roll bite is small while preventing occurrence of seizure specifically when using the work roll having a reduced surface roughness.例文帳に追加
特にワークロールに表面粗さが小さいものを使用する場合に、焼付きの発生を防止しながら、ロールバイトへの導入油量が小さくても、ワークロールの表面粗さの変化が抑制され、表面粗さの小さい金属帯を安定して製造するための方途について、提供する。 - 特許庁
A laminated film 100 includes a first resin film 10 with both sides different in surface roughness and a second resin film 20 with both sides different in surface roughness, and the sides of larger surface roughness of first and second resin films are bonded.例文帳に追加
積層フィルム100は、両面の表面粗さが異なる第1の樹脂フィルム10と、両面の表面粗さが異なる第2の樹脂フィルム20と、を含み、第1の樹脂フィルムの表面粗さが大きい側の面と第2の樹脂フィルムの表面粗さが大きい側の面とが貼り合わされている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing characteristic degradation caused by surface roughness of a wafer by sufficiently preventing the surface roughness of the wafer in a heat treatment process, and to provide a semiconductor device whose characteristic degradation caused by surface roughness is prevented.例文帳に追加
熱処理工程においてウェハの表面荒れを十分抑制することにより、当該表面荒れに起因した特性の低下を抑制することが可能な半導体装置の製造方法、および表面荒れに起因した特性の低下が抑制された半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for measuring a roughness; whereby the surface roughness of a work without a cut-off value indicated can be correctly measured.例文帳に追加
本発明は、カットオフ値が指示されていないワークの表面粗さを正確に測定することができる粗さ測定方法及び粗さ測定装置を提供する。 - 特許庁
The roughness measuring device 1a thus constructed can measure the surface roughness of the measured object 2 in a non-contact and non-optical method.例文帳に追加
このように構成された粗さ測定装置1aは、被測定物体2の表面粗さを非接触且つ非光学方式で測定することができる。 - 特許庁
Super finishing is performed after grinding, so as to obtain at least surface roughness in a ball rolling groove 4 of a screw shaft 1 in 0.12 μm or less by mean roughness (Ra).例文帳に追加
研削後に超仕上げを行うことにより、少なくともねじ軸1のボール転動溝4の表面粗さを、平均粗さ(Ra)で0.12μm以下にする。 - 特許庁
An arithmetic mean roughness Ra of surface of the amorphous film is preferably 0.5μm or less and ten point average roughness Rz is preferably 2.0 or less.例文帳に追加
前記アモルファス状膜の表面の算術平均粗さRaは0.5μm以下、且つ、十点平均粗さRzは2.0μm以下であることが好ましい。 - 特許庁
Further, the arithmetic average roughness Ra of the plating surface is controlled to 0.7 to 1.5 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: PPI (peaks per inch) is controlled to ≥150.例文帳に追加
さらに、めっき表面の算術平均粗さRa:0.7〜1.5 μm、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数:PPI が150 以上とする。 - 特許庁
The surface of the tactile sensor has preferably 0.005-2mm of roughness as an arithmetic average roughness Ra specified by JIS B0601.例文帳に追加
また、触覚センサ10の表面の粗さは、JIS B0601に規定される算術平均粗さ(Ra)として0.005〜2mmであることが好ましい。 - 特許庁
To provide a mask inspection method and an apparatus therefor in which a defect can be detected stably even in a region where surface roughness varies.例文帳に追加
表面ラフネス(roughness)が変化している領域においても、安定して欠陥を検出することができるマスク検査方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
This stranded wire is subjected to bluing at 420 to 460°C for 3 to 60 sec to control its tensile strength to ≥2300 MPa and its surface roughness to 2 to 15 μm by 10 point average roughness.例文帳に追加
このより線を420℃〜460℃、3秒〜60秒でブルーイングして、引張強さを2300MPa以上とし、表面粗さを10点平均粗さで2μm〜15μmとする。 - 特許庁
The roughness forming particle 22 is preferably harder than components of the surface layer 18 present around the roughness forming particle 22.例文帳に追加
粗さ形成用粒子22の硬さは、粗さ形成用粒子22の周りに存在する表層18の構成成分の硬さよりも硬いことが好ましい。 - 特許庁
The surface roughness of the hardened layer 23 is formed to 0.1 μm or less in centerline average roughness Ra, and the DLC film 20 is formed into a thickness of 1.0 μm or less.例文帳に追加
硬化処理層23における表面粗さを、中心線平均粗さRaで0.1μm以下に形成し、DLC膜20を、1.0μm以下の厚さに形成する。 - 特許庁
The surface of the grain-oriented electromagnetic steel sheet having the base iron exposed thereon has preferably a roughness of 0.4 μm or less by the arithmetic mean roughness Ra.例文帳に追加
この発明において、地鉄が露出した方向性電磁鋼板表面の粗さは算術平均粗さRaで0.4μm以下であることとするのが好ましい。 - 特許庁
This artificial bone is formed of a calcium phosphate-based porous ceramic such as hydroxyl apatite, wherein the surface roughness is set to a center line average roughness Ra of 0.5-50 μm.例文帳に追加
水酸アパタイトなど、リン酸カルシウム系の多孔質セラミックからなる人工骨で、その表面粗さを中心線平均粗さRa:0.5〜50μmとした。 - 特許庁
An overcoat layer 20 with a roughness different from the surface roughness of the overcoat layers 191, 192 is formed apart from the electrodes 14, 15 and the overcoat layers 191, 192.例文帳に追加
電極14,15およびオーバーコート層191,192以外にオーバーコート層191,192の表面粗さと異なる粗さのオーバーコート層20を形成する。 - 特許庁
The surface roughness is adjusted, for example, by containing a roughness adjusting agent in the film, and the content in such a case is about 2-20 pts.wt.例文帳に追加
表面粗さ調整は例えば粗さ調整剤をフィルムに含有することで行え、その場合の含有量は2重量部〜20重量部程度。 - 特許庁
In the partition plate, both side edge parts Tc inserted in molten metal are subjected to surface treatment, so that both side edge parts are roughened to have a larger surface roughness than the surface roughness of a partition part 103 partitioning the inside of the intake port.例文帳に追加
この仕切り板は、溶湯に鋳包まれる両側縁部Tcに対して表面処理を施して、両側縁部を、吸気ポート内を仕切る仕切り部103の面粗さよりも大きい面粗さに粗面化してある。 - 特許庁
A first region 10 where surface roughness is relatively small, and a second region 20 where surface roughness is relatively large are formed so as to be adjacent to each other on at least one surface of a light guide plate 121.例文帳に追加
導光板121は、少なくとも一方表面に、表面粗さの相対的に小さい第1領域10と、表面粗さの相対的に大きい第2領域20と、が隣接して形成されている。 - 特許庁
The protective layer forming device 2 includes a surface roughness-maintaining means for maintaining the surface roughness Ry of a contact surface with the brush-like protecting agent-supplying member 22 of the image carrier-protecting agent 21 at 500 μm or less.例文帳に追加
保護層形成装置2は、像担持体保護剤21におけるブラシ状の保護剤供給部材22との当接面の表面粗さRyをして500μm以下を維持させる表面粗さ維持手段を具備する。 - 特許庁
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