「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface of the thick film conductor layer 2 is flattened to surface roughness Ra of 0.02 μm or less by wet-blast treatment.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

To provide a press forming device which is capable of making a body having high surface quality by lowering its surface roughness.例文帳に追加

表面粗さを低くして表面品質の高いボディを作製することができるプレス成形装置を提供することである。 - 特許庁

To make a seal sliding surface be corrosion resistant, specify the surface roughness, and prevent a lip of a rubbery seal ring from wearing-out.例文帳に追加

シール摺動面を耐食性にするとともに、その表面粗さを規定して、ゴム製のシールリングのリップの摩耗を抑制すること。 - 特許庁

The rough surface treatment is performed in the circumferential direction at 2a5 Rz or more and 10 Rz or less of surface roughness.例文帳に追加

そして、その面粗しの方向は円周方向とし、面粗さは２．５Ｒｚ以上、１０Ｒｚ以下とするピストンシール３である。 - 特許庁

To stabilize floating characteristics for a magnetic head by controlling the thickness of a protective film formed on a stamper surface and surface roughness.例文帳に追加

スタンパー表面に成膜した保護膜の膜厚、表面粗さを制御して磁気ヘッドに対する浮上性を安定化させること。 - 特許庁

To enable rolling an aluminum plate as the surface roughness of its surface is kept at a certain degree and to reduce the generation amount of worn powder.例文帳に追加

アルミニウム板の表面がある程度の表面粗さを保ったまま圧延でき、且つ、磨耗粉の発生量を削減する。 - 特許庁

For the surface roughness, the release layer has surface undulations of ≥1 μm in cutting depth where a relative load length is 10% and ≥2.5 μm in cutting depth where the relative load length is 80%.例文帳に追加

表面粗さとしては相対負荷長さで１０％、１．０μｍ）、８０％、２．５μｍ以上になるようにする。 - 特許庁

The anti-slip member 1 is so formed that the surface roughness of a contact surface in contact with the user's body is defined to 30 μm or less.例文帳に追加

さらに、前記滑り止め部材１は、使用者の身体との接触面の表面粗さを３０μｍ以下にしている。 - 特許庁

A surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c is 300-800 nm inclusive.例文帳に追加

集電部３ｃの主面Ｅ１および側面Ｅ３の表面粗度Ｒａは、３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。 - 特許庁

The thick conductor layer 2 has its surface flattened by wet blast processing to a surface roughness Ra of at most 0.02 μm.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the surface layer 4 is controlled in a range of 0.5 to 3.5 by the add amount of the phenol resin particles.例文帳に追加

表面層４の表面粗さＲａは，フェノール樹脂粒子の添加量により，０．５〜３．５の範囲内に調整されている。 - 特許庁

To provide a method for cleaning silicon wafers that effectively removes metal impurities from silicon wafer surface and improves the surface roughness of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウエハー表面の金属不純物を有効に除去すると共に、シリコンウエハーの表面粗さを改善させなること。 - 特許庁

A film forming raw material containing polyvinyl alcohol is used to form the polyvinyl alcohol film on the surface with a surface roughness of 3S or less of a metal.例文帳に追加

ポリビニルアルコールを含有する製膜原料を用いて、表面粗さが３Ｓ以下である金属表面上で製膜する。 - 特許庁

Ten-points average roughness Rz of the lower surface (outer surface of the displacement transmission layer 6) 2a of the piezoelectric element 2 is 5 μm or less.例文帳に追加

圧電素子２の下面（変位伝達層６の外側の面）２ａの十点平均粗さＲｚは、５μｍ以下となっている。 - 特許庁

A fine and beautiful matted surface with a surface roughness Ra of 0.9-1.1 erasing die marks of the aluminum extruded material can be obtained.例文帳に追加

アルミ押出材のダイスマークの消去と表面粗さをＲａ０．９〜１．１とする微細にして美麗なマット化表面を得られる。 - 特許庁

To provide a polishing composition attaining increased polishing speed and decreasing the surface roughness of the polishing surface.例文帳に追加

より大きな研磨速度が得られるとともに、被研磨面の表面粗さを低減することができる研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

The protective glass sheet 2 and the glass substrate 3 preferably have surface roughness Ra of each contact surface side being ≤2.0 nm.例文帳に追加

好ましくは、前記保護ガラス２及び前記基板ガラス３の夫々の接触面側の表面粗さＲａは２．０ｎｍ以下である。 - 特許庁

Further, the surface of the platinum plating layer T of the needle 7 is mechanically or chemically polished to reduce the surface roughness.例文帳に追加

さらに、ニードル７の白金鍍金層Ｔの表面は機械的又は化学的に研磨されて表面粗さが小さくなっている。 - 特許庁

In this case, before the nitriding, the surface 4a is polished so that its surface roughness becomes Ra: 0.05 to 0.13 μm (Rz: 0.2 to 0.5 μm).例文帳に追加

窒化処理を行う前に、窒化処理前にミラー面４ａをその表面粗度がRa：0.05〜0.13μｍ（Rz:0.2〜0.5μｍ）になるように研磨する。 - 特許庁

The foil is made of titanium or titanium alloy and the surface roughness of at least one surface is 0.05<Ra<1.0 and 0.3<Ry<7.0.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金からなり、少なくとも一方の表面の表面粗さが０．０５＜Ｒａ＜１．０、０．３＜Ｒｙ＜７．０である。 - 特許庁

To effectively remove surface roughness formed on the surface of a metal wring after a wet etching operation in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体の製造工程でウェットエッチング後に金属配線の表面に形成される表面の粗れを効果的に除去する。 - 特許庁

Surface roughness on the outer surface of the foam dust is Rt 45 μm or smaller, and an expansion ratio is within 2.5-5 times.例文帳に追加

発泡体ダクトの外表面における表面粗さがＲｔ４５μｍ以下で、発泡倍率が２．５〜５倍の範囲以内である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a biaxially oriented polyester film which can realize the desired surface roughness (Ra) of a film surface when calcium carbonate is used as a lubricant.例文帳に追加

滑剤として炭酸カルシウムを用いた時に、所望のフィルム表面のＲａを実現する製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface roughness on a peripheral direction of the internal diameter surface 11c of the shell type outer ring 11 is in a range of Ra 0.05 to 0.3 μm.例文帳に追加

シェル型の外輪１１の内径面１１ｃの周方向面粗度を、Ｒａ０．０５〜０．３μｍの数値範囲とする。 - 特許庁

The painting layer is composed of two or more layers and the outermost surface of the painting layer has a surface roughness Ra of 0.5 μm or less.例文帳に追加

さらに該絵付け層は，２層以上からなり，該絵付け層の最表面は表面粗さＲａが０．５μｍ以下である。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) in the axial and circumferential directions of an outer ring raceway surface 2A is 0.10-0.5μm.例文帳に追加

外輪軌道面２Ａの軸方向及び円周方向における表面粗さ（Ｒａ）を、０．１０μｍ以上０．５μｍ以下とする。 - 特許庁

Disclosed is the optical element containing a rough surface having a roughness average equal to at least 5 micrometers wherein the rough surface contains at least two roughness populations in which the roughness average of the at least two populations varies by at least 8 micrometers.例文帳に追加

少なくとも５マイクロメートルに等しい粗さ平均を有する粗い表面を含み、前記粗い表面が少なくとも２つの粗さ母集団を含み、前記少なくとも２つの母集団の粗さ平均が少なくとも８マイクロメートル異なる光学要素を開示する。 - 特許庁

The surface roughness Rz1 of a land 7 on the side for forming a small diameter part of a spline in a die 4 is set to be coarser than the surface roughness Rz2 of a land 9 on the side for forming a large diameter part of the spline.例文帳に追加

ダイス４における、スプラインの小径部を成形する側のランド７の面粗度Ｒｚ１が、スプラインの大径部を成形する側のランド９の面粗度Ｒｚ２よりも粗く形成される。 - 特許庁

This polyester film for the transfer medium substrate is a biaxially oriented polyester film, and mean surface roughness SRa on at least one side (side A), which is measured by a three-dimensional surface roughness meter, is set 13 nm or less.例文帳に追加

２軸配向ポリエステルフィルムであって、少なくとも片面（Ａ面）の３次元表面粗さ計で測定した平均表面粗さＳＲａが１３ｎｍ以下である転写媒体基材用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The wiring board comprises the insulating layer and a metal foil, and the metal foil is a prepreg in which an average roughness in ten points on a surface coming into contact with the insulating layer is 2.0 μm or less and a maximum surface roughness is 5 μm or less.例文帳に追加

絶縁層と金属箔とを備え、前記金属箔は、前記絶縁層と接する面の十点平均粗さが2.0μm以下であってかつ最大表面粗さが5μm以下であるプリプレグである。 - 特許庁

The difference between the surface roughness Ra of a part of the resistance applying portion 33 to be in contact with the contact area and the surface roughness Ra of the contact area is from -0.2 μm to 1.1 μm.例文帳に追加

抵抗付与部３３のうちの上記接触領域に接触する部位の表面粗さＲａと、上記接触領域の表面粗さＲａとの差は−０．２μｍ〜１．１μｍとなっている。 - 特許庁

The polyester film for an antireflection film has a surface roughness Ra of at least one side in a range of 10-25 nm, a surface roughness Rt in a range of 50-500 nm and a haze value of ≤10%.例文帳に追加

少なくとも片側の表面のＲａが１０〜２５ｎｍの範囲であり、Ｒｔが５０〜５００ｎｍの範囲であり、ヘーズ値が１０％以下であることを特徴とする反射防止フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The arithmetic average roughness Ra of the surface of the first roughened cured product is ≤4 times the arithmetic average roughness Ra of the surface of a second roughened cured product obtained under relatively mild conditions.例文帳に追加

上記第１の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａは、比較的穏やかな条件で得られた上記第２の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａの４倍以下である。 - 特許庁

According to the road surface roughness detection method, the road surface roughness can be detected based on the detection signal of the acceleration sensor 22 even when the frequency analysis (FFT) or the like is not performed.例文帳に追加

このような路面粗さの検出方法によれば、周波数分析（ＦＦＴ）などを行わなくても、加速度センサ２２の検出信号に基づいて路面粗さを検出することが可能となる。 - 特許庁

The method consists of a step determining the surface roughness of an insulating substrate on which a piezoelectric film is to be deposited and a step reducing the surface roughness sufficiently to attain a high quality piezoelectric film.例文帳に追加

方法は、その上に圧電膜が堆積される絶縁層の表面粗さを決定し、高品質の圧電膜を達成するために十分低い、絶縁層に対する表面粗さを達成することからなる。 - 特許庁

The amorphous hard carbon film 1 is formed on a sliding face of the first member 5 with a surface roughness of Rz1 microns or less, and a surface roughness of a sliding face of the ferrous member 6 is Rz1 microns or less.例文帳に追加

非晶質硬質炭素膜１は面粗度がＲｚ１ミクロン以下の第１部材５の摺動面に形成されており、かつ鉄系部材６の摺動面の面粗度がＲｚ１ミクロン以下である。 - 特許庁

Roughness of micron order is produced on the surface 31 of the metal alloy, a super-fine ruggedness is formed in a ruggedness of the roughness, the surface layer of the super-fine ruggedness is formed as a thin layer of metal oxide or metal-phosphorus oxide.例文帳に追加

金属合金表面31にミクロンオーダーの粗度を生じさせ、且つ、その凹凸面内に超微細凹凸を形成し、且つ、表層を金属酸化物又は金属リン酸化物の薄層とする。 - 特許庁

At least a part of an area in contact with a plating liquid is made from a material having a less changing rate of surface roughness than a resin, when the surface roughness is measured before and after applying a remover in a same condition.例文帳に追加

メッキ液と触れる部分の少なくとも一部を、除去剤を作用させた場合に同じ条件で測定したときに表面粗さ変化率が樹脂よりも低い材料で形成する。 - 特許庁

A bulk wafer which has microroughness of an irregular rugged pattern formed on a surface with high precision and has roughness of the surface roughness guaranteed is used as a reference wafer to calibrate the dark field inspection system.例文帳に追加

表面に不規則な凹凸パターンのマイクロラフネスが精度よく形成され、その表面のマイクロラフネスの粗さが保証されたバルクウエハを基準ウエハとして暗視野検査装置の校正を行う。 - 特許庁

To provide a surface roughness measuring instrument capable of performing continuous automatic surface roughness measurement of a plurality of wafers, thereby improving measurement efficiency.例文帳に追加

本発明は、複数枚のウエハの表面粗さの測定を連続で自動的に行うことができ、測定効率を向上させることができる表面粗さ測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the inner tube for the glassy carbon CVD device, the inner surface has a surface roughness of 0.1 to 10 μm relative to a center line average roughness (Ra) measured by a method conforming to JIS B0651.例文帳に追加

内周面の表面粗さが、ＪＩＳ Ｂ０６５１に準ずる方法で測定される中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．１〜１０μｍであるガラス状炭素製のＣＶＤ装置用インナーチューブ。 - 特許庁

A copper or copper alloy material is manufactured, whose surface roughness is ≤0.1 μm in the arithmetic average roughness (Ra) and ≤1 μm in the maximum height (Rz), and on whose surface roll scratches do not exist.例文帳に追加

表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で０．１μｍ以下、かつ最大高さ（Ｒｚ）で１μｍ以下であり、さらに材料表面にロールスクラッチが存在しない銅または銅合金材を製造する。 - 特許庁

Specifically, the work roll used in the first roll is preferably the dull roll having a surface roughness Ra of 0.8-1.4 μm, and the work rolls used in the last two stands are preferably the bright rolls each having a surface roughness Ra of ≤0.05 μm.例文帳に追加

特に、最初のスタンドで用いるワークロールは表面粗さＲａ０．８〜１．４μｍのダルロール、最後の２つのスタンドで用いるワークロールは表面粗さＲａ０．０５μｍ以下のブライトロールが好ましい。 - 特許庁

In a sliding surface of a valve lifter 1 before film 2 processing, surface roughness Ra thereof is regulated to 0.01-0.03 μm in arithmetic mean roughness and the maximum length of scratches is set to 250 μm or less.例文帳に追加

バルブリフター（１）の被膜（２）処理前のバルブリフター（１）の摺動面を、面粗度を算術平均粗さＲａ０.０１〜０.０３μm且つ基材表面におけるキズの最大長さを２５０μm以下とする。 - 特許庁

Surface roughness of an anti-thrust side upper part and a thrust side lower part in a cylinder axial direction on a cylinder inner peripheral face 2a is made smaller than surface roughness of a thrust side upper part and an anti-thrust side lower part in the cylinder axial direction.例文帳に追加

シリンダ内周面２ａのシリンダ軸方向の反スラスト側上部とスラスト側下部の表面粗さを、シリンダ軸方向のスラスト側上部と反スラスト側下部の表面粗さよりも小さくする。 - 特許庁