「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

An anchor effect takes place if the surface roughness is made larger and adhesiveness on an interface is enhanced.例文帳に追加

表面粗度を大きくすることによりアンカー効果が生じて、界面での接着力が向上する。 - 特許庁

The excellent scuffing resistance and the low coefficient of friction is realized by setting the surface roughness in this range.例文帳に追加

表面粗さをこの範囲内にすることで優れた耐スカッフ性と低い摩擦係数を実現できる。 - 特許庁

Thereafter, roughness is formed on the surface of the molding resin 107 by using a laser abrasion step (stage S3).例文帳に追加

その後、レーザアブレーション工程を用いてモールディング樹脂１０７の表面に粗さを形成する（段階Ｓ３）。 - 特許庁

Both housing sides of the optical transceiver module 3 are processed so that surface roughness may be 2.4a or less.例文帳に追加

または、光送受信モジュール３のケース両側面の表面粗さを２.４ａ以下とするよう加工する。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of the base material film is preferably 0.5-1.6 μm for the wafer full-cut dicing tape.例文帳に追加

前記ウエハフルカット用ダイシングテープの基材フィルムの面粗度（Ｒａ）は、好ましくは、０．５〜１．６μｍである。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the varistor element is desirable to be 0.06 μm to 0.11 μm.例文帳に追加

さらに、バリスタ素体の表面粗さＲａが０．０６μｍ以上０．１１μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

To reduce surface roughness by minimizing the effect of monomer ion and equally planarize a radiated area.例文帳に追加

モノマーイオンの影響を最小にして表面粗さを低減し、かつ照射エリア内を均一に平坦化する。 - 特許庁

Planarization treatment for reducing surface roughness of side surfaces of substrates 11 and 13 of the liquid crystal cell is performed.例文帳に追加

液晶セルの基板１１、１３の側面の表面粗さを減少させる平坦化処理を施す。 - 特許庁

The average surface roughness of the groove bottom center line of the spiral grooves 18 is 0.8 μm or below.例文帳に追加

螺旋状溝１８の溝底部の中心線平均表面粗さは、０．８μｍ以下になっている。 - 特許庁

MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE FOR SURFACE ROUGHNESS OF MAGNETIC DISK SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK例文帳に追加

磁気ディスク基板の表面粗さ測定方法および測定装置並びに磁気ディスクの製造方法 - 特許庁

The transferable protecting layer 3 contains a wax and has an average surface roughness of 0.05 to 0.2 μm.例文帳に追加

該転写性保護層３は、ワックスを含有し且つ表面の平均表面粗さが０．０５〜０．２μｍである。 - 特許庁

The underlayer 8 has surface roughness in which ratio of the superficial area of the underlayer 8 to unit area is 1.25 or less.例文帳に追加

下地層８は、単位面積に対する表面積の比が１．２５以下の表面粗さを備える。 - 特許庁

Surface roughness parameter Ryni of a face provided with the recessed parts is in a scope of 0.4μm≤Ryni≤1.0μm.例文帳に追加

くぼみを設けた面の面粗さパラメータＲｙniが０．４μｍ≦Ｒｙni≦１．０μｍの範囲内である。 - 特許庁

To provide a method for depositing a fluoride film having reduced surface roughness.例文帳に追加

本発明は、膜の表面粗さが小さいフッ化物膜の成膜方法を提供すること目的とする。 - 特許庁

A surface roughness of the metal plate on which the wax material is formed, is preferably 1-20 μm.例文帳に追加

さらには、ろう材を形成する金属板の表面粗さが１〜２０μｍであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a steel having excellent machinability in which a cutting tool service life is long, and machined surface roughness is satisfactory.例文帳に追加

切削工具寿命が長く、切削表面粗さが良好な被削性に優れた鋼を提供する。 - 特許庁

Surface roughness of the base body in the areas α1 and β1 is determined for Rmax 0.4 μm or below for a reference length 5 μm.例文帳に追加

領域α1とβ1における基体の表面粗さが基準長さ5μmに対してRmax0.4μm以下とする。 - 特許庁

Surface roughness 14b is imparted on each of ridges 14a of the grooves 14 by dropping of a graphite.例文帳に追加

これらの接合溝１４の山部１４ａには黒鉛脱落による面粗さ１４ｂが付与されている。 - 特許庁

The outermost layer of the coating film 3 comprises a hydrophilic coating film 31 having 0.2 μm or less of surface roughness Ra.例文帳に追加

塗膜３の最外層は、表面粗さＲａが０．２μｍ以下の親水性塗膜３１からなる。 - 特許庁

Ununiform roughness 50 of 1-100 μm depth is formed across the entire surface of spacers.例文帳に追加

スペーサの表面全体に渡り、深さ１ないし１００μｍの不均一な凹凸５０が形成されている。 - 特許庁

A surface roughness parameter Ryni of the surfaces having the recesses is within the range from 0.4 to 1.0 μm.例文帳に追加

くぼみが設けられた表面の表面粗さパラメータＲｙｎｉは、０．４〜１．０μｍの範囲内である。 - 特許庁

It is preferable that the mean surface roughness Ra of the film is at a value from 5 nm to 120 nm.例文帳に追加

また、フィルムの平均表面粗さＲａは５ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

To reduce roughness of the surface of a core to which a rare-earth element is added in manufacture of an optical waveguide.例文帳に追加

光導波路の製造において希土類元素が添加されたコアの表面の荒れを低減する。 - 特許庁

A surface roughness of an engagement part 1b of a counterpart inner member 1 is also controlled to be Rmax 3.0 or less.例文帳に追加

相手側の内方部材１の嵌合部１ｂの表面粗さもＲｍａｘ３．０以下に抑える。 - 特許庁

Therefore, the roughness of the circumferential surface of the roller main body can be determined objectively from the distance variance.例文帳に追加

従って、距離の分散から、ローラ本体の外周面の粗さを客観的に判定することができる。 - 特許庁

Furthermore, the familiarity layer is preferably formed in larger coating thickness than the maximum surface roughness of the wear-resisting layer.例文帳に追加

さらに好ましくは、なじみ層を耐摩耗層の最大表面粗さよりも大きい膜厚で形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an ohmic electrode with small surface roughness and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

表面荒れの小さいオーミック電極を有する半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface roughness of the protective films 3 is 0.5 to 2.0 μm at Rmax or 0.3 to 1.5 μm at Rz.例文帳に追加

保護フィルム３の表面粗度がＲｍａｘで０．５〜２．０μｍ又はＲｚで０．３〜１．５μｍである。 - 特許庁

A polycrystalline thin-film transistor, crystalized through laser irradiation, is set to 1 nm or more in surface roughness.例文帳に追加

レーザー照射により結晶化した多結晶薄膜トランジスタでは、表面粗さを1nmよりも大きくする。 - 特許庁

In addition, it is also manufactured without a step for removing surface roughness larger than the mean free path.例文帳に追加

また、平均自由行程よりも大きい表面粗さを、取り除く工程を省略して製造する。 - 特許庁

Concretely, the preferable surface roughness Ra of the transparent conductive film 81 is 0.1 to 20 nm.例文帳に追加

具体的には、透明導電膜８１の表面粗さＲａは、０．１〜２０ｎｍであるのが好ましい。 - 特許庁

The Cu contamination is quantitatively evaluated by a degree of surface roughness of the a-Si film 3 of the test wafer.例文帳に追加

このテストウェハのａ−Ｓｉ膜３の表面の荒れ具合からＣｕ汚染を定量的に評価する。 - 特許庁

The surface roughness Rz of the silicon nitride substrate 11 is more than 3 μm and less than or equal to 20 μm.例文帳に追加

この場合、窒化珪素基板１１の表面粗さＲｚが３μｍより大きく２０μｍ以下である。 - 特許庁

The removal of nickel from a manganese phosphate chemical conversion solution worsens the initial reaction, worsening the surface roughness.例文帳に追加

リン酸マンガン処理のニッケルを除くことにより、初期反応が悪くなるため表面粗さが悪くなる。 - 特許庁

CONTROL METHOD FOR SURFACE ROUGHNESS OF COLD ROLLING WORK ROLL, COLD ROLLING WORK ROLL, AND MATERIAL TO BE ROLLED例文帳に追加

冷間圧延作業ロールの表面粗度制御方法、冷間圧延作業ロール及び被圧延材 - 特許庁

To sufficiently suppress roughness on the surface of an impurity layer to be formed on a silicon carbide wafer.例文帳に追加

、炭化珪素基板に形成する不純物層の表面荒れを十分に抑制できるようにする。 - 特許庁

In this electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a periphery of a cylindrical electrical conductive basic body, average surface roughness Rz of the photosensitive layer in the axial direction is configured such that a value of average surface roughness R2 in a central part is larger than a value of average surface roughness R1 in both of ends.例文帳に追加

円筒状の導電性基体の周面上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、前記感光層の平均表面粗さＲｚが軸方向で、両端部の平均表面粗さＲ１より中央部の平均表面粗さＲ２で大きくなっていること特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a substrate with a metal film without deteriorating its surface roughness after polishing.例文帳に追加

研磨後の金属膜付基板の面粗さを劣化させることなく洗浄すること方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light guide plate in which unevenness in brightness does not occur at a border where surface roughness changes.例文帳に追加

表面粗さが変化する境界部で輝度ムラが発生することのない導光板を提供する。 - 特許庁

Preferably, its 60° specular glossiness is ≤5, and surface roughness (Rz) is 3 to 30 μm.例文帳に追加

６０°鏡面光沢度５以下が好ましく、表面粗さ（Ｒｚ）は３〜３０μｍであることが好ましい。 - 特許庁

The focus of a laser beam of a laser beam machining apparatus 1 using a multi-joint arm robot 3 is aligned to the surface of a quartz glass plate 2 and is moved at the speed previously determined from a relational expression between the speed and surface roughness within a range of 0.5 to 50 μm of the surface roughness Ra in order to obtain the desired surface roughness to form the fine uneven surface.例文帳に追加

多関節アームロボット３を利用したレーザー加工装置１のレーザー光の焦点を石英ガラスプレート２の表面に合わせ、所望の表面粗さにするために予め表面粗さＲａ０．５〜５０μｍの範囲内における速度と表面粗さの関係式から求めた速度で移動させて、石英ガラスプレートの表面に微細な凹凸面を形成した。 - 特許庁

In addition, surface roughness (Ra) in the guiding groove bottom of the header area and the recording surface of the same of a substrate is set equal to 0.5 nm or lower.例文帳に追加

また、基板の、ヘッダー領域の案内溝の底及びヘッダー領域の記録面の表面粗さ（Ｒａ）を０．５ｎｍ以下とする。 - 特許庁

To enable high processing precision which is not obtained by mechanical processing, surface roughness to be processed into a smooth surface and bulk-production.例文帳に追加

機械加工では得られない高い加工精度および表面粗さを円滑な面に加工できるとともに量産化を可能にする。 - 特許庁

It is desirable that arithmetic surface roughness (Ra) on the surface 133A of the board 133 is set to be 1 to 10 μm.例文帳に追加

防着板１３３の表面１３３Ａも、算術表面粗さ（Ｒａ）が１μｍ以上１０μｍ未満とされていることが好ましい。 - 特許庁

A surface of a lid 2 for the cleaning port has fixed surface roughness and a circumferential channel 3 is radially provided from the center of the cleaning port 1.例文帳に追加

掃除口蓋２表面を一定の表面粗さとし掃除口１の中心から放射状に円周形の溝３を施す。 - 特許庁