「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Unevenness is formed on at least surfaces of raw wires positioned on the surface of wire rope among raw wires constituting the wire rope and surface roughness of the surfaces of the raw wires is roughened to roughen surface roughness of the surfaces of the wire rope.例文帳に追加

ワイヤロープを構成する素線のうち、少なくともワイヤロープの表面に位置する素線の表面に凹凸を形成し、素線表面の表面粗さを粗くすることにより、ワイヤロープの表面粗さを粗くする。 - 特許庁

The multilayer film for protecting the backside of the solar cell includes a flat surface layer whose ten point average roughness (Rz) is 0.1-0.5 μm, and a roughness surface layer whose ten point average roughness (Rz) is 0.6-3.0 μm.例文帳に追加

十点平均粗さＲｚが０．１〜０．５μｍの表面を備える平坦面層と、十点平均粗さＲｚが０．６〜３．０μｍの表面を備える粗面層とからなることを特徴とする、太陽電池裏面保護膜用積層フィルム。 - 特許庁

A light-diffusing layer 2 having a rough surface having ≥2.0 μm arithmetic average roughness and/or ≥10.0 μm ten point average roughness obtained by the three-dimensional surface roughness measurement is laminated on a transparent supporting body 3.例文帳に追加

３次元表面粗さ測定における算術平均粗さが２．０μｍ以上又は／及び十点平均粗さが１０．０μｍ以上であることを特徴とする凹凸表面を有する光拡散層２を透明支持体３上に積層する。 - 特許庁

The semiconductor device is includes an interface roughness mitigating film 20, contacted with an insulating film as well as a wiring contacted through the surface of opposite side while an interface roughness between the wiring and the interface roughness mitigating film is smaller than an interface roughness between the insulating film and the interface roughness mitigating film.例文帳に追加

絶縁膜と接触した界面ラフネス緩和膜であって、その反対側の面で配線とも接触し、当該絶縁膜と当該界面ラフネス緩和膜との間の界面ラフネスより、当該配線と当該界面ラフネス緩和膜との間の界面ラフネスの方が小さい界面ラフネス緩和膜２０を設ける。 - 特許庁

A surface roughness 1c to increase adhesiveness between metal and rubber is formed at a section 1b to adhere rubber 3 among the surface 1a of a metal part 1, the surface roughness 1c is transferred to the metal part 1 from a die in working by arranging the surface roughness to the die which works the metal part 1.例文帳に追加

金属部品１の表面１ａのうちのゴム３を接着する部位１ｂに、金属とゴムとの接着性を高める表面粗さ１ｃを形成し、この表面粗さ１ｃを、当該金属部品１を加工する型に予め表面粗さを設けることにより、加工時に型から当該金属部品へ転写されるものとする。 - 特許庁

Rough surface parts 10b and smooth surface parts 10a relatively having different surface roughness are arranged in the circumferential direction around a center of the spindle 2 in lattice on the surface of the spindle 2.例文帳に追加

スピンドル２の表面に、面粗さの相対的に異なる粗面部（１０ｂ）と平滑面部（１０ａ）とがスピンドル中心回りの円周方向に並んだ格子１０を設ける。 - 特許庁

Irregularities are provided to the surface of the Si wafer or the surface of a film formed on the surface of the Si wafer so as to make its surface roughness Ra as rough as 0.05 to 10 μm.例文帳に追加

Ｓｉウェーハ表面もしくはＳｉウェーハ表面に形成された膜に表面粗さＲａが０．０５μｍ以上１０μｍ以下の凹凸を形成するようにした。 - 特許庁

A surface of a flow field plate or a bipolar plate of a fuel cell is roughened, namely, turned into rough surface in order to change a state of the plate, and conductive film is deposited on the roughened surface, and the roughness of the surface of the plate increases hydrophilic property.例文帳に追加

燃料電池の流れ場プレートまたはバイポーラプレートの表面が、プレートの表面形態を変えるために、粗くされる、すなわち粗面化される。 - 特許庁

To provide a rubber blanket for fine line patterning capable of printing a target pattern by a surface rubber of the rubber blanket having surface roughness within a prescribed range with respect to surface roughness of a surface of a printing body, and a method for manufacturing the rubber blanket having prescribed surface roughness.例文帳に追加

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。 - 特許庁

A synthesized surface roughness calculated from an average surface roughness of the sliding surface 11 and that of the land part 16 is set to be smaller than the film thickness of the lubricating liquid formed between the sliding surface and the land part over a used rotation speed range.例文帳に追加

摺動面１１の平均面粗さとランド部１６の平均面粗さから算出される合成面粗さが、使用回転速度域において摺動面とランド部との間に形成される潤滑液の膜厚さより小さく設定されている。 - 特許庁

The metallic mold for molding the substrate comprises a press surface 2 of the metallic mold base material 1 which is made to be a specular surface by grinding and successively to have desired surface roughness by etching and which has a releasing film 3 formed thereon with specified film thickness and with specified surface roughness.例文帳に追加

金型母材１のプレス面２が研削により鏡面にされ、エッチングで所望の表面粗さとされ、その金型母材のプレス面に離型膜３が、所定の膜厚でかつ所定の表面粗さに形成されている基板成形用金型。 - 特許庁

The purpose is attained by providing the combined sliding member 1 having a piston ring 2 having a sliding surface 4 of 0.5 to 1.0 μmRz surface roughness and a cylinder liner 3 having a sliding surface 5 of 0.5 to 1.5 μmRz surface roughness.例文帳に追加

表面粗さが０．５〜１．０μｍＲｚの摺動面４を有するピストンリング２と、表面粗さが０．５〜１．５μｍＲｚの摺動面５を有するシリンダライナ３と、を有する組合せ摺動部材１を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method for obtaining the roughness of the substrate and the device for obtaining the roughness of the substrate include: a first step of obtaining design information on the patterns formed on the substrate; and a second step of obtaining a surface roughness measurement region where the surface roughness of the substrate can be obtained by using the design information.例文帳に追加

基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the conductive film is preferably ≤1.0 μm.例文帳に追加

前記溶射により形成された導体膜の表面粗さが、Ｒａ≦１．０μｍであることが好ましい。 - 特許庁

To prevent or eliminate the roughness of the surface of a sapphire substrate for enhancing the quality of this substrate.例文帳に追加

サファイヤ基板の表面の荒れを防止又は除去して、サファイヤ基板の品質を高める。 - 特許庁

To provide a film polishing device 1 capable of improving surface roughness of a product 3 and a tp value.例文帳に追加

製品３の表面粗さと共にtp値も向上できるフィルム研磨装置１を提供すること。 - 特許庁

RMS of surface roughness is 1.3 nm or less, and the substrate with a good step condition can be obtained.例文帳に追加

表面の高低差のＲＭＳは１．３ｎｍ以下、ステップ状態の良好な基板面が得られた。 - 特許庁

The surface roughness of a belt groove 6 of the V pulleys 2, 4 is set in the range of Ra 0.5-3.0 μm.例文帳に追加

Ｖプーリ２，４のベルト溝６の表面粗さをＲａ０．５〜３．０μｍの範囲に設定する。 - 特許庁

Also, the center line mean roughness (Ra) of the surface of this ceramic film is set at not more than 30 nm.例文帳に追加

また、このセラミックス膜の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を３０ｎｍ以下とした。 - 特許庁

By this heating, the surface roughness Rmax of the glass material 26 is reduced to 0.04 μm or less.例文帳に追加

この加熱によりガラス硝材２６の表面粗さはＲmax０.０４μｍ以下まで小さくなる。 - 特許庁

To provide a thermal spray method whereby a fine spray coating film with a small surface roughness can be formed.例文帳に追加

緻密で表面粗さの小さい溶射皮膜を形成することができる溶射方法を提供する。 - 特許庁

The asperities has a surface roughness(Ra) meeting the relationship: 0.01μm<Ra<10μm.例文帳に追加

この微細な凹凸は、表面粗さ（Ｒａ）で表示すると、０．０１μｍ＜Ｒａ＜１０μｍである。 - 特許庁

Surface roughness Ra to be a bonding interface is set to be 0.01 to 2 μm.例文帳に追加

接着界面となるべき面の表面粗さＲａは０．０１μｍ〜２μｍに設定されている。 - 特許庁

The rollers 31-36 of surface roughness 0.2μm are used to inhibit the adhesion of the film 26.例文帳に追加

ローラ３１〜３６の表面粗さが０．２μｍのものを用いて、フイルム２６の接着を抑制する。 - 特許庁

The thermal treatment is performed in the condition where surface roughness (Ra) of the electrode 8 is 100 Å or smaller.例文帳に追加

熱処理は電極８の表面粗さ（Ｒａ）が１００Å以下となる条件で行う。 - 特許庁

The surface roughness Rz of the metal base is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less.例文帳に追加

金属基材の表面粗さＲｚが、０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The inside surface roughness Rz of the cylindrical rigid body is 0.1 to 3 μm.例文帳に追加

該円筒状剛体の内側の表面粗さＲｚは０．１μｍ以上３μｍ以下とする。 - 特許庁

The change of the surface roughness and the adhesion amount of the contamination material are plotted, for example on the plane coordinates.例文帳に追加

表面粗さの変化と、汚染物質の付着量とは、例えば平面座標にプロットする。 - 特許庁

Also, the surface roughness of the wall surfaces of the balancers 36 facing the outer ring 13b is Rz ≤3.2.例文帳に追加

また、バランサ３６の外輪１３ｂと対面する壁面の表面粗さをＲｚ≦３．２とする。 - 特許庁

A surface roughness Ry the sealing face 140f of the anode terminal 140 is 15 μm or less.例文帳に追加

負極端子１４０のシール面１４０ｆの表面粗さＲｙは、１５μｍ以下である。 - 特許庁

This polishing sheet generates no polishing flaw and effectively polishes a work into favorable surface roughness.例文帳に追加

本発明は、研磨傷を発生せず、かつ効率的に面粗さの良好な研磨が行える。 - 特許庁

The center line average roughness of the surface of the power feed roller 20 is controlled between 0.05-1.6 μm.例文帳に追加

また、給電ローラ２０の表面の中心線平均粗さは０．０５〜１．６μｍの範囲とする。 - 特許庁

The head 1 of the core bar is finished so that its surface roughness Rmax may be in an degree of 1.0 μm.例文帳に追加

芯金頭部１は、表面粗度Ｒｍａｘが１．０μｍ程度になるように仕上げる。 - 特許庁

To provide a method of forming a high aspect ratio contact hole without causing the surface roughness of an insulating film.例文帳に追加

高アスペクト比のコンタクトホールを、絶縁膜の表面荒れなく形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hot rolled steel strip of special steel free from a scale defect pattern and having less surface roughness.例文帳に追加

スケール欠陥模様のない、表面粗さの小さい特殊鋼熱延鋼帯を提供する。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL SHEET HAVING REDUCED SURFACE ROUGHNESS AFTER WORKING AND EXCELLENT FORMABILITY, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

加工肌荒れの小さい成形性に優れたフェライト系ステンレス鋼板およびその製造方法 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of the transfer material (a) is desirably 1 μm-10 μm.例文帳に追加

転写材（ａ）の表面粗さ（Ｒａ）は１μｍ以上１０μｍ以下であることが望ましい。 - 特許庁

The surface roughness of the steel sheet Ra is preferably ≥2 μ and Psk is ≥(-0.3).例文帳に追加

鋼板の表面粗さは、好ましくはＲａが２μｍ以上、Ｒｓｋが−０.３以上である。 - 特許庁

The surface roughness of a take-off roll T and a guide roll G is made to be Rz=0.5-10 μm.例文帳に追加

また、テイクオフロールＴとガイドロールＧの表面粗さを、Ｒｚ＝０．５μｍ〜１０μｍとする。 - 特許庁

the ten-point average roughness of the smooth surface 28 is not less than 0.0001 μm and not more than 0.1 μm.例文帳に追加

平滑面２８の十点平均粗さは０．０００１μｍ以上０．１μｍ以下である。 - 特許庁

Then, the surface roughness Ra of the developing roller 2 is set within the range of 1.8 to 2.6 μm.例文帳に追加

また，現像ローラ２の表面粗さＲａを１．８μｍ〜２．６μｍの範囲内としている。 - 特許庁

The surface roughness of the annularly shaped projection 150 is specified by the frequency and standard deviation.例文帳に追加

この円環状に形成した突起１５０の面粗さを周期と標準偏差で規定する。 - 特許庁

To easily and stably provide a stamper for an optical disk whose surface has low roughness and is smooth.例文帳に追加

表面の粗度が低く滑らかな光ディスク用スタンパを容易に且つ安定して提供する。 - 特許庁

Surface roughness of the wafer is increased by polishing the on-axis silicon substrate in the polishing step 104.例文帳に追加

オンアクシスシリコン基板を研磨ステップ１０４で研磨して、ウェーハの表面粗さを増大させる。 - 特許庁

This results in a very reduced dislocation density of the ZnSe layer to improve the surface roughness.例文帳に追加

その結果、ＺｎＳｅ層の転位密度は非常に減少され、表面粗さは改良される。 - 特許庁