「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a storage medium achieving various surface roughness on its surface at a low cost, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

記憶媒体の表面で異なる表面粗さを低コストで実現することができる記憶媒体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To highly accurately finish not only the wobbling accuracy but also surface roughness and flatness of a disk mounting surface slip prevention part of a turntable.例文帳に追加

ターンテーブルのディスク載置面防滑部の面振れ精度だけでなく面粗度と平面度も高精度に仕上げることを目的とする。 - 特許庁

To provide a cutting work capable of machining even a curved surface, having a small radius of curvature, with excellent surface roughness in a short time.例文帳に追加

曲率半径の小さな曲面でも良好な表面粗さで且つ短時間に加工することができる切削加工を提供する。 - 特許庁

To attain a desired glide height by controlling surface roughness and fine waviness on a substrate surface, within a prescribed range and in a prescribed relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

Surface roughness of an inner wall face of the outer cup 22 is adjusted to Ra of 0.5 to 10.0 so that it functions as a hydrophilic front surface.例文帳に追加

外カップ２２の内壁面は親水性表面として機能するように表面粗度がＲａ０．５〜１０．０に調整されている。 - 特許庁

Surface roughness Ra on the clamp reference surface 3a is set to 120 nm or higher, and its dynamic friction coefficient is set to 0.5 or higher.例文帳に追加

そして、クランプ基準面３ａにおける表面粗さＲａを１２０ｎｍ以上として、その動摩擦係数を０．５以上とする。 - 特許庁

The surface roughness on the back surface is preferably controlled to 0.01 to 0.045 μm, and more preferably to 0.025 to 0.040 μm.例文帳に追加

バック面の表面粗さは０．０１〜０．０４５μｍとすることがより好ましく、０．０２５から０．０４０μｍとすることがより好ましい。 - 特許庁

The micro-protrusions of 0.1μm or less were formed at the rate of 55,000 pieces/mm2 on the surface of the polyethylene layer and the center line surface roughness Ra was 0.009μm. 例文帳に追加

ポリエチレン層の表面には、0.1μm以下の微小突起が55,000個/ mm2の割合で形成され、その中心線表面粗さRaは0.009μmであった。 - 特許庁

To attain a desired glide height by making the surface roughness and the microscopic waviness on a substrate surface have the predetermined range and a predetermined relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To attain a desired glide height by making the surface roughness and the microscopic waviness on a substrate surface fall in a predetermined range/relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

Further, the surface roughness (Ra) is controlled to 1 to 4 or 1 to 2 or 3 to 4 μm, and the surface temperature is controlled to 70 to 90°C.例文帳に追加

また、表面仕上げをダル、表面粗度（Ｒａ）を１〜４または１〜２または３〜４μｍ、表面温度を７０〜９０℃とした。 - 特許庁

The high resistance gap part with a surface roughness of 1.0-15.0 μm has a high resistance coating layer with a surface resistivity of 1×10^9-10^15 Ω/square.例文帳に追加

また、高抵抗ギャップ部が１×１０^９〜１×１０^１５Ω／□の表面抵抗率を持つ高抵抗被覆層を有する。 - 特許庁

The surface 16a of the substrate layer 16 is actively worn out by electric discharge process to be roughed to a desired surface roughness.例文帳に追加

下地層１６の表面１６ａは、電気放電処理により、積極的に損耗させられて所望表面粗さに粗面化される。 - 特許庁

Thus, surface roughness with high fineness and uniformity can be applied to the surface of the metallic steel plate stably and efficiently.例文帳に追加

これにより、金属鋼板の表面に緻密で均一性に優れた表面粗さを安定的かつ効率的に付与することが可能となる。 - 特許庁

To attain a desired glide height by setting surface roughness and micro waviness on a substrate surface to a predetermined range and relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

The surface luminance of the roller is set to the range of 30 to 220 and the surface roughness Rz of the roller is set to the range of 1 to 20 μm.例文帳に追加

そして、ローラの表面輝度値を３０〜２２０の範囲とするとともに、ローラの表面粗さＲｚを１〜２０μｍの範囲とする。 - 特許庁

A surface roughness of an outer surface of the foam duct is R45 μm or less, and a foaming magnification is within the range of 2.5-5 times.例文帳に追加

発泡体ダクトの外表面における表面粗さがＲｔ４５μｍ以下で、発泡倍率が２．５〜５倍の範囲以内である。 - 特許庁

This biaxially stretched polyester film used for simultaneous forming and transfering and having a coated layer is characterized by having 1 to 20 nm Ra surface roughness of the coated layer, and also 25 to 100 nm surface roughness of the other surface.例文帳に追加

塗布層を有する二軸延伸ポリエステルフィルムであって、当該塗布層の表面粗さＲａが１〜２０ｎｍであり、もう一方の表面の表面粗さが２５〜１００ｎｍ以下であることを特徴とする成形同時転写用二軸延伸ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a surface roughness evaluating method for sensitively and accurately comprehending a local change or variation of a surface to be measured, in surface roughness measurement of a component for an image forming device such as a base substance for an electrophotography photoreceptor.例文帳に追加

電子写真感光体用基体等の画像形成装置用部品の表面粗さの測定において、測定対象面の局所的な変化や変異を感度良くかつ正確に把握可能にすること表面粗さ評価方法を提供する。 - 特許庁

At least the surface roughness of the external wall surface 5 of the spacer 1 having the upper and lower surfaces 3 and 4 of a ring-shaped body 2 consisting of the ceramic sintered compact as a contact surface with the magnetic disk substrate is made to be 0.5 μm or smaller by arithmetic mean roughness (Ra).例文帳に追加

セラミック焼結体からなるリング状体２の上下面３，４を磁気ディスク基板との当接面とした磁気ディスク基板保持用スペーサ１の少なくとも外壁面５の表面粗さを算術平均粗さ(Ｒａ)で０．５μｍ以下とする。 - 特許庁

The acoustic tube 11 has a throat portion 11A having one end of a diameter smaller than that of the other end, wherein its inner surface is partially or entirely a rough surface portion 11C having a surface roughness of 180 μm-10 mm in terms of arithmetic mean roughness Ra.例文帳に追加

一端が他端よりも口径の小さいスロート部１１Ａとされている音響管１１であり、その内面が全面的あるいは部分的に、算術平均粗さＲａで１８０μm〜１０mmの表面粗さを有する粗面部１１Ｃとされる。 - 特許庁

The paper for former-paste pseudo-adhesive use has an arithmetic surface roughness Ra (JIS B 0601) of 3-15μm on the pseudo-adhesive layer surface determined by a contact-type surface roughness tester in conformity to JIS B 0651.例文帳に追加

先糊方式の疑似接着用紙における、疑似接着剤層面の、ＪＩＳ Ｂ ０６５１に規定される触針式表面粗さ測定器で測定したＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定される算術表面粗さＲａを３〜１５μｍとすることにより解決される。 - 特許庁

Further, when grooves are transferred onto the inner surface of the heat transfer pipe by means of drum-shaped rolling rolls, the surface roughness Ra of the rolling roll in its circumferential direction and in the direction of the roll axis is 0.2 μm or less, with its maximum surface roughness Rmax being 1.5 μm or less.例文帳に追加

更に、鼓状の圧延ロールによりこの伝熱管の管内面に溝を転写する場合に、この圧延ロールの円周方向及びロール軸方向のロールの表面粗さＲａが０．２μｍ以下、Ｒｍａｘが１．５μｍ以下である。 - 特許庁

A transfer roll for an electrophotographic apparatus 10 includes a surface layer 18 containing a roughness forming particle 22 having a particle diameter larger than a particle diameter of a toner particle 26 to be used, and surface irregularities 24 are formed by the roughness forming particles 22 on a surface of the surface layer 18.例文帳に追加

使用するトナー粒子２６の粒径以上の粒径を有する粗さ形成用粒子２２を含有する表層１８を有し、表層１８の表面に、粗さ形成用粒子２２に起因する表面凹凸２４が形成された電子写真機器用転写ロール１０とする。 - 特許庁

Disclosed is the optical sheet for the liquid crystal display device having a microlens array on the surface thereof, wherein the rear surface has a fine ruggedness shape, and the surface roughness Ra (arithmetic average roughness) of the rear surface is 1.5 to 4.0 μm.例文帳に追加

本発明は、表面にマイクロレンズアレイを有する液晶表示装置用光学シートであって、裏面に微細な凹凸形状を有し、この裏面の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）が１．５μｍ以上４．０μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置用光学シートである。 - 特許庁

This piston pin 4 is made of the raw material having a high Young's modulus at 250 GPa or more, and has 0.5 μm or less of surface roughness Ra in the axial direction of the inner surface 4f of the piston pin and 0.1 μm or less of surface roughness Ra in the circumferential direction of the inner surface 4f of the piston pin.例文帳に追加

ヤング率２５０ＧＰａ以上の高ヤング率材料を素材としてなり、ピストンピン内周面４ｆの軸方向の表面粗さがＲａ０．５μｍ以下であるとともにピストンピン内周面４ｆの周方向の表面粗さがＲａ１．０μｍ以下であるピストンピン４。 - 特許庁

The method for surface processing the low surface roughness metal foil comprises applying an organic solvent solution of polyamic acid to provide polyimide on the surface of the low surface roughness metal foil with Ra of 0.2μm or less so that the thickness of the polyimide coating film will be 0.1 to 5μm after heating.例文帳に追加

Ｒａが０．２μｍ以下の表面粗さの小さい金属箔表面に、前記ポリイミドを与えるポリアミック酸の有機溶媒溶液を、加熱後のポリイミド塗膜の厚みが０．１〜５μｍとなるように塗布することを特徴とする表面粗さの小さい金属箔表面の処理方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial silicon wafer having an epitaxial film low in LPD (light point defects) density and excellent in surface roughness quality by reducing the LPD density of processing origin generated on a mirror-polished surface of a silicon wafer and reducing the surface roughness of the wafer surface.例文帳に追加

シリコンウェーハの鏡面研磨された表面に発生する加工起因のＬＰＤの密度を低減し、かつウェーハ表面の表面粗さを小さくすることで、ＬＰＤ密度が低く、表面粗さ品質に優れたエピタキシャル膜を有するエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The fine protrusions on the film surface are predetermined by the ratio of the ten point average roughness Rz to the general surface roughness Ra, (Rz/Ra), being less than 20 at the surface, by the ratio of the density of carboxy group at the surface layer portion and the density of carboxy group at the inner portion, and by the number of fine protrusions.例文帳に追加

フィルム表面の微細突起は、その表面における十点平均粗さＲｚと中心線平均粗さＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ）が２０未満であること、表層部のカルボキシル基濃度と内部のカルボキシル基濃度との比、微細突起の個数により特定される。 - 特許庁

On the peripheral surface, the cylinder part 13 includes a ridge 15 as projection to make contact with the inner circumferential surface 11b of the resin pipe 11, where the surface roughness of the peripheral surface 15a of the ridge 15 represented by the arithmetic mean roughness Ra is set to 0.8a-25a (6-25 μm).例文帳に追加

筒部１３の外周面には樹脂パイプ１１の内周面１１ｂに接触する凸部としての突条１５が設けられ、該突条１５の外周面１５ａにおける表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）として０．８ａ〜２５ａ（６〜２５μｍ）に設定されている。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition capable of providing a small surface roughness of a polished object and remarkably reducing nanoscratch, and a manufacturing method of a substrate having a small surface roughness and a remarkable reduction of the nano scratch.例文帳に追加

研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、且つナノスクラッチを顕著に低減できる研磨液組成物、及び表面粗さが小さく、且つナノスクラッチが顕著に低減した基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The roll includes a plurality of grooves 10 formed on the circumferential surface, and not conventionally general Ra or Rz but skewness Rsk of roughness curve is used as the evaluation index of surface roughness of the bottom 12 of the groove 10.例文帳に追加

ロール周面に複数の溝１０が形成され、前記溝１０の底部１２の表面粗度の評価指標として、従来一般的なＲａやＲｚではなく、粗さ曲線のスキューネスＲｓｋを用いる。 - 特許庁

The ferritic stainless steel sheet for the component of the automotive exhaust gas system has an oxide film consisting of a Cr-Mn-based oxide with a thicknesses of 50 to 500 nm on the surface, and a surface roughness of 0.02 to 2.5 μm by arithmetical mean roughness Ra.例文帳に追加

表面に厚さが５０〜５００ｎｍのＣｒ−Ｍｎ系酸化物からなる酸化皮膜を有し、表面粗度が平均粗さＲａで０．０２〜２．５μｍである自動車排気系部品用フェライト系ステンレス鋼板。 - 特許庁

On the optical/electrical hybrid substrate 10, the surface roughness of the upper face of the intermediate layer 4 is smaller than the surface roughness of the lower face, the irregularity of the upper face of the substrate 11 is hardly reflected in the optical waveguide 6.例文帳に追加

光電気混載基板１０では、中間層４の上面の表面粗さが、下面の表面粗さより小さくなっており、回路基板１１の上面の凹凸が光導波路６に反映され難い。 - 特許庁

An NiZn-based spinel ferrite layer 3 having thickness of 10-50 μm is formed on a ferrite sheet placing surface 2 having surface roughness wherein the center line average roughness of the setter 1 is 2-10 μm.例文帳に追加

セッター１の中心線平均粗さ（Ｒａ）が２μｍ以上１０μｍ以下の表面粗さを有するフェライトシート載置面２に、厚さ１０μｍ以上５０μｍ以下のＮｉＺｎ系スピネルフェライト層３を形成する。 - 特許庁

An abrasive pad 1 of the present invention has a ground surface with a surface roughness set at 0.1 μm or more and 3.7 μm or less by an arithmetic average roughness Ra, and requires no pretreatment step wherein a dummy wafer is used.例文帳に追加

本発明の研磨パッド１は、研磨面の表面粗さを算術平均粗さＲａで０．１μｍ以上３．７μｍ以下に設定した研磨パッドとして、ダミーウエハを用いた前処理工程を不要化している。 - 特許庁

The wafer is formed so as to be flat state having no warpage by making the surface roughness Ra (mathematical average roughness) of the rear surface of the substrate so as to be not less than 0.001 μm and not more than 2 μm through polishing and, thereafter, the wafer is separated into the elements.例文帳に追加

研磨で基板背面の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を０．００１μｍ以上２μｍ以下とすることでウェハーは反りのない平坦状態になり、その後、ウェハーを素子に分離する。 - 特許庁

To obtain a resin composition satisfying both low roughness surface (surface roughness Ra of ≤0.2 μm) and high desmearing capability in a chemical treatment for simultaneously carrying out a roughening treatment and a desmearing treatment, a prepreg and a cured product.例文帳に追加

粗化処理とデスミア処理を同時に行う化学処理において、低粗度表面（表面粗さＲａが０．２μｍ以下）と高デスミア性の両立を可能とする樹脂組成物、プリプレグ及び硬化体を提供する。 - 特許庁

In a pulp mold tray 1, which serves as the packaging tray for vegetables/fruits, having consecutively connecting plural fruit-housing depressions 2, the paper is made and dried so as to have the roughness of an inner surface 1b of the depression 2 is large and the roughness of an outer surface 1a is small.例文帳に追加

複数の果実収容凹部２を連設してなるパルプモウルドトレー１において、上記凹部２の内面１ｂの粗度を大に、外面１ａの粗度を小に抄製乾燥させてなる青果物等の包装用トレー。 - 特許庁

A cutting speed arithmetic apparatus 5 calculates the feeding speed F of the main shaft to obtain the required surface roughness from the inputted tool distal end radius R, the required surface roughness H, and the measured tool swing amount E.例文帳に追加

そして、入力された工具先端半径Ｒと必要な面粗さＨと、測定された工具振れ量Ｅとから、必要な面粗さを得るための主軸の送り速度Ｆを切削速度演算器５により演算する。 - 特許庁

For example, the surface of the core bar 31 is made the rough surface whose ten-point average roughness is 15 to 30 μm and whose pitch average value is 50 to 150 μm, and the thickness of the layer 33 is made smaller than the ten-point average roughness of the rubber 32.例文帳に追加

例えば、加硫芯金の表面は、十点平均粗さが１５〜３０μｍで、ピッチ平均値が５０〜１５０μｍに粗面化され、コート層の厚さは基材ゴムの十点平均粗さよりも薄くされる。 - 特許庁

The apparatus is set to satisfy relations of d1≤D, t1≤2D and d1<t1, wherein d1 is the surface roughness Rz of a photoreceptor 1, t1 is the surface roughness Rz of an intermediate transfer belt 10, and D is the volume average particle size of toner.例文帳に追加

感光体１の表面粗さＲｚをｄ1、中間転写ベルト１０の表面粗さＲｚをｔ1、トナーの体積平均粒径をＤとしたとき、ｄ1≦Ｄ、ｔ1≦２Ｄ、ｄ1＜ｔ1の関係を満たすように設定する。 - 特許庁

Surface roughness of not more than 5.0 nm and the maximum roughness of not more than 55 nm are selected as a hole injection electrode made of a transparent conductive material, and diameters of foreign materials attaching on the electrode surface is to be not more than 3 μm.例文帳に追加

透明導電材からなる正孔注入電極として、表面粗さが５．０ｎｍ以下、最大粗さが５５ｎｍ以下のものを選択し、該電極表面に付着した異物は直径が３μｍ以下とする。 - 特許庁

The surface roughness of air-permeable material layers, which are arranged so as to sandwich the multilayered ceramic board between them in a pressure-baking operation, can be restrained from being transferred to the surfaces of the ceramic board, whereby the surface of the ceramic board can be reduced in roughness and improved in evenness.例文帳に追加

また、加圧焼成時に多層セラミック基板を挟むように配置される、通気性材料の表面粗さの基板への転写を抑制することで基板表面粗さを低減し、平坦度を向上させる。 - 特許庁

When the repeated fracture number is investigated using samples having surface roughness Ra of 0.040, 0.080, 0.120 and 0.180 μm, it is found that the repeated fracture number increases as the surface roughness Ra becomes smaller.例文帳に追加

表面粗さＲａが０.０４０μｍ、０.０８０μｍ、０.１２０μｍ、０.１８０μｍのサンプルを用いて繰返し破断回数を調べたところ、表面粗さＲａが小さいほど繰返し破断回数は大きくなった。 - 特許庁