| 意味 | 例文 |
upper- layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11093件
Further, a heat absorbing layer 3 consisting of a tungsten carbide coating film is formed at the upper part higher than the heater 5 of the inner surface of the chamber 2.例文帳に追加
そして、チャンバー2内面のヒータ5より上方の部分には、タングステンカーバイド被膜からなる熱吸収層3が形成されている。 - 特許庁
A thin gate dielectric layer separates the upper corners of the channel region from the gate dielectric to optimize conductivity in the channel corners.例文帳に追加
薄いゲート誘電体層は、ゲート誘電体からチャネル領域の上部コーナを分離して、チャネル・コーナ部における伝導率を最適化する。 - 特許庁
A ground line 14 formed of the upper layer of metal is arranged by overlapping on an n-channel type MOS transistor group 12 in the same way.例文帳に追加
Nチャネル型MOSトランジスタ群12上にも同様に上層のメタルで形成された接地ライン14がオーバーラップして配置される。 - 特許庁
A rust prevention surface treatment layer 11 is provided on a raceway surface 2a on which the rolling element 4 rolling on an upper surface of the base plate 2.例文帳に追加
ベースプレート2の上面における転動体4が転動する転走面2aに防錆用の表面処理層11を設ける。 - 特許庁
The resist pattern 42 is half-etched, and a wiring groove 48 is formed in the upper part of the insulation layer 12 by the use of the half-etched resist pattern.例文帳に追加
レジストパターン42をハーフエッチングし、ハーフエッチングしたレジストパターンを用いて絶縁層12の上部に配線溝48を形成する。 - 特許庁
After that, a conductive material is embedded in the via hole 6 to form a via, and further on its upper layer, wiring connected to the via is formed.例文帳に追加
その後、ビアホール6に導電材料を埋め込んでビアを形成し、さらにその上層にビアに接続される配線を形成していく。 - 特許庁
This semiconductor device includes: rewiring 19 formed on the upper surface of a semiconductor device wafer 10; columnar electrodes 21 formed on lands of the rewiring 19; first thermoplastic resin layer 41 covering the rewiring 19; and a filler-containing thermoplastic resin layer 42 covering the first thermoplastic resin layer, covering upper side faces of the columnar electrodes 21, and exposing the upper surfaces of the columnar electrodes 21.例文帳に追加
半導体デバイスウエハ10の上面に形成された再配線19と、再配線19のランドに形成された柱状電極21と、再配線19を被覆する第1の熱可塑性樹脂層41と、第1の熱可塑性樹脂層を被覆すると共に、柱状電極21の上部側面を被覆し且つ柱状電極21の上面を露出させるフィラー含有熱硬化性樹脂層42と、を備える。 - 特許庁
An insulation film I3 has a multilayer structure which is such that insulation films 14-17 are formed in this order on the upper surface of a second interconnection layer L2.例文帳に追加
絶縁膜I3は、絶縁膜14〜17がこの順に第2配線層L2の上面上に積層された構造を有している。 - 特許庁
To prevent a needle from coming out of the skin even if a high back pressure is generated in the upper layer part of the skin, and to prevent a medicine from leaking out of the skin.例文帳に追加
皮膚上層部で高い背圧が発生しても、針が皮膚から抜けることがなく、薬剤が皮膚から漏れることを防ぐ。 - 特許庁
To reduce an influence of an upper layer metal wiring pitch for pile driving to a pitch of gate wiring of a selection transistor included in a memory cell.例文帳に追加
メモリセルに含まれる選択トランジスタのゲート配線のピッチに対する上層の杭打用金属配線ピッチの影響を低減する。 - 特許庁
Also, a second sheet body 16 expandable and contractible at least in one direction is arranged on the whole upper face of the water-containing gel layer 13.例文帳に追加
一方、含水ゲル層13の上面全面には少なくとも一方方向に伸縮自在の第2シート体16が配置されている。 - 特許庁
The transmission weight is input to transmission weight multiplication units 17 and 23, and the interference coefficient is input to an upper layer 10 and an interference generation unit 15.例文帳に追加
送信ウェイトは送信ウェイト乗算部17,23に、干渉係数は上位層10と干渉生成部15に入力される。 - 特許庁
Then a (111)B plane is formed on the side face of the ridge and at an upper-end part of a part buried in the semiconductor layer.例文帳に追加
そして、前記リッジの側面であって前記半導体層に埋め込まれた部分の上端部分には(111)B面が形成される。 - 特許庁
A conductive interlayer insulating film 8a is formed on the upper surface of each first conductive layer 3 and isolated by the element isolation insulating film 7.例文帳に追加
導電層間絶縁膜8aが第一導電層3の頂部上に配置され、素子分離絶縁膜7により分離されている。 - 特許庁
The upper/lower side fiber layer abuts on the first/second parts, to be separated from each other in the central part.例文帳に追加
上側繊維層と下側繊維層は、第1の部分及び第2の部分で境界を接し、中央部分で互いに分離されている。 - 特許庁
A second conductive part 16 is provided at an upper layer of a first conductive part 14 so that an exposure region F including a missing part β is covered.例文帳に追加
第一導電部14の上層には、欠落部βを含む露呈領域Fを 覆うように第二導電部16が配される。 - 特許庁
To select information having a hierarchical structure with simple operation and reduce the number of times of operation for selecting a different upper layer.例文帳に追加
階層構造を有する情報において、簡単な操作で選択し、異なる上位層を選択するための操作回数を減らす。 - 特許庁
In the solder application step, cream solder 40 is applied onto plating parts 30 to project from the upper surface 24 of the second insulating layer 22.例文帳に追加
はんだ塗布工程では、めっき部30上に第2絶縁層22の上面24から突出するようにクリームはんだ40を塗布する。 - 特許庁
Accordingly, it is not necessary to form a recessed part on the semiconductor substrate 2 or the wiring layer 7 in order to allow the upper thin film 11 to be vibrated.例文帳に追加
したがって、上薄膜11を振動可能とするために、半導体基板2や配線層7に凹部を形成する必要がない。 - 特許庁
The individual displacement sections 4-2, 6-1 curve toward the substrate 1 and have a double-layer structure, consisting of a lower Al film and an upper SiN film.例文帳に追加
個別変位部4−2,6−1は、基板1側に湾曲し、下側のAl膜と上側のSiN膜との2重膜からなる。 - 特許庁
A central ILD layer overlies the intermediate conductor for electrically insulating and separating the intermediate conductor lines from the upper conductor lines.例文帳に追加
中央ILD層を中間導体の下に形成して、下部導体ラインから中間導体ラインを電気的に絶縁し分離する。 - 特許庁
An upper part of a gate electrode 106 and first and second source/drain regions 119A, 119B is an amorphous silicon layer 110.例文帳に追加
ゲート電極106及び第1,第2のソース/ドレイン領域119A,119Bの上部が非晶質化シリコン層110となっている。 - 特許庁
Consequently, a clearance including an air layer is formed between a lower surface of the semiconductor wafer W and an upper surface of the susceptor 72.例文帳に追加
その結果、半導体ウェハーWの下面とサセプタ72の上面と間に気体層を挟み込んだ隙間が形成されることとなる。 - 特許庁
In addition, the upper surface of the substrate 10 is coated with a protective layer 40 except at the portions, where the plated-nickel layers 24 and plated-solder layers 26 are formed.例文帳に追加
さらに、絶縁基板10の上端には、ニッケルメッキ層やハンダメッキ層26の部分を除いて保護層40で被覆される。 - 特許庁
A liquid crystal device as an example of the electrooptical device comprises a pair of an upper substrate and a lower substrate sandwiching a liquid crystal layer.例文帳に追加
電気光学装置の一例としての液晶装置は液晶層を挟持する一対の上側基板及び下側基板を備える。 - 特許庁
Since the area where the conductive layer 43 is formed is wider than the sample, the circumferential edge of the sample is exposed in the upper side when the sample is placed.例文帳に追加
この導電層43の形成される面積は、試料よりも広いため、試料の載置時には周縁部が上方に露出する。 - 特許庁
A bias voltage, etc., is inputted by penetrating into the cover 11 by a bias line 34 and a via hole 36 from a bias circuit 14 of an upper layer.例文帳に追加
バイアス電圧等は、上位層のバイアス回路14からバイアス線34、バイアホール36によりカバー11を貫通して入力する。 - 特許庁
The circuit cells 10 are connected to the reference voltage main line VSS via power switches M1, M2 and the VSS upper-layer branch lines 72.例文帳に追加
回路セル10が、電源スイッチM1,M2とVSS上層分岐線72を介して基準電圧幹線VSSに接続されている。 - 特許庁
Therefore, the recess portion 13b is covered with the upper layer portion 13c, a void portion 13b1 is formed at the end of each through-dislocation D1.例文帳に追加
従って、上層部13cが凹部13bの上を覆い、個々の貫通転位D_1 の終端に空間部13b_1 が形成される。 - 特許庁
This constitution can constantly introduce the bathwater in the upper layer part in the device and, after filtering and clarifying the bathwater, discharge it to the bathtub again.例文帳に追加
これにより,絶えず上層部の浴湯を装置内に取り入れ,浴湯を濾過・浄化した後に再び浴槽内に吐き出すことができる。 - 特許庁
A covering layer 20 made of a dielectric material is provided so as to entirely or partially cover the outer surface of the upper member 11a.例文帳に追加
上側部材11aの外面の全部又は一部を覆うように、誘電体材料からなる被覆層20が設けられている。 - 特許庁
To prevent development unevenness due to influences of an edge part of a light shielding film or adherence of foreign matters when developing an upper layer film as a top coating film.例文帳に追加
トップコーティング膜としての上層膜の現像時に、遮光膜の縁部の影響による現像ムラや異物の付着を防止する。 - 特許庁
The insulating layer 15 is provided on the upper surface of the adhesive force improving film 14c around the adhesive force improving film 14a.例文帳に追加
密着力向上膜14aの周囲における密着力向上膜14cの上面には絶縁層15が設けられている。 - 特許庁
The total thickness of the lower and upper layer protective films 13 and 14 is 6-15 nm.例文帳に追加
下層カーボン保護膜13と上層カーボン保護膜14の厚さとを加えたカーボン保護膜の全厚は6nm以上15nm以下である。 - 特許庁
The matrix 11 is fabricated by opening a cavity 15 in an insulating layer 14 formed over the upper face of an electroconductive base material 13.例文帳に追加
導電性基材13の上面に重ねて形成された絶縁層14にキャビティ15を開口して母型11を作製している。 - 特許庁
TREATMENT LIQUID FOR SURFACE CHEMICAL CONVERSION, CHEMICAL CONVERSION-TREATED METALLIC SHEET AND ITS PRODUCTION METHOD, AND THE UPPER LAYER-CLAD METALLIC SHEET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加
表面化成処理液、化成処理金属板およびその製造方法、ならびに上層被覆金属板およびその製造方法 - 特許庁
Since a part weak in adhesive strength is formed on the upper surface of the adhesive resin layer through the modification, the thin substrate can be easily removed.例文帳に追加
改質処理により粘着樹脂層上面に粘着力の弱い部分ができるので薄型基板の剥離が容易になる。 - 特許庁
An adhesive layer is provided at seal strip 3 that is bonded to a back-side strip 2 when it is folded at the upper edge 8 of a front-side strip 1.例文帳に追加
表面片1の上端縁8で折り返されて裏面片2に粘着される封緘片3に、粘着剤層を設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having metal wires formed on an upper layer wire by RIE using tungsten as a contact burying material in which tungsten can be prevented from being etched by chemical due to the misalignment of a pattern at the time of patterning the upper layer interconnect, no inclusion margin is required at the time of patterning the upper layer interconnect, and the reduction of a pattern size is facilitated.例文帳に追加
コンタクト埋め込み材としてタングステンを用い、その上層配線にRIEを用いて加工するメタル配線をもつ半導体装置の製造に際して、上層配線のパターニングの際にパターンの合わせずれに起因してタングステンが薬液でエッチングされてしまうことを防止でき、上層配線のパターニングの際に包含余裕をとる必要がなくなり、パターンサイズの縮小が容易になる半導体装置を提供する。 - 特許庁
Upper surfaces of an insulating layer 22 and the n-type diffusion region 23 are the same in height and almost flat surface without level difference.例文帳に追加
絶縁膜22とn型拡散領域23の上面は同一の高さとなっており、段差のないほぼ平坦な面となっている。 - 特許庁
In a CMOS circuit, a number of N-well regions 12 and P-well regions 14 are formed along the upper surface of a layer 10.例文帳に追加
CMOS回路では層10の上表面に沿って、多数のNウエル領域12およびPウエル領域14が形成される。 - 特許庁
Conductor patterns 2 and 3 are formed so that the through- holes 8 and 8 in different rows are connected on the upper and lower surfaces of the first layer 1.例文帳に追加
第1の層1の上下面において異なる列のスルーホール8、8間を連絡するように導体パターン2、3を形成する。 - 特許庁
The capacity value of the element Cc is changed by the plane width of an Al film 16 being the wiring film of an upper layer.例文帳に追加
また、付加容量素子Ccの容量値を、上層の配線膜であるAl膜16の平面的な幅で変更するようにした。 - 特許庁
Vertical rigidity is imparted to the joint part of an upper horizontal member 18 of a reinforcing layer 14 with the stud members 60, 62.例文帳に追加
この間柱部材60、62によって補強層14の上部水平部材18の接合部に鉛直剛性が付与されている。 - 特許庁
A cross-sectionally L-shaped gate layer 22 is formed from the other side surface of each wall part 11 to a part of the upper surface of the insulation substrate 10.例文帳に追加
各壁部11の他方の側面から絶縁基板10の上面の一部に断面L字状のゲート層22が形成されている。 - 特許庁
This method for forming the cavity structure of the semiconductor device is useful, especially for packaging an image sensor, and a spacer layer is formed at the upper part of a substrate.例文帳に追加
キャビティ構造の形成方法は、特にイメ−ジ・センサーのパッケージングに有用であり、基板上部にスペーサー層が形成される。 - 特許庁
A top wall part 4 and a peripheral wall part 5 are integrally formed by the deep drawing of a paper material 3' having a gas barrier layer 7 on the upper surface thereof.例文帳に追加
上面にガスバリア層7を有する紙質素体3’を深絞り成形して天壁部4と囲壁部5を一体形成している。 - 特許庁
A communication port 25 to feed cooling water to a water jacket on the upper layer side is situated at one end part of the vertical passage 22.例文帳に追加
この縦流れ流路22の一端部には、冷却水を上層側ウォータジャケットに送るための連絡口25が設けられている。 - 特許庁
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