| 意味 | 例文 |
upper-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11094件
The diameter of the contact hole 4 is reduced by etching back the upper layer of the TEOS film 2, for example, by about 1,000 nm.例文帳に追加
TEOS膜2の上層部分を例えば1000nm程度エッチバックすることにより、コンタクトホール4のホール径を縮小させる。 - 特許庁
The matrix 11 is fabricated by opening a cavity 15 in an insulating layer 14 formed over the upper face of an electroconductive base material 13.例文帳に追加
導電性基材13の上面に重ねて形成された絶縁層14にキャビティ15を開口して母型11を作製している。 - 特許庁
TREATMENT LIQUID FOR SURFACE CHEMICAL CONVERSION, CHEMICAL CONVERSION-TREATED METALLIC SHEET AND ITS PRODUCTION METHOD, AND THE UPPER LAYER-CLAD METALLIC SHEET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加
表面化成処理液、化成処理金属板およびその製造方法、ならびに上層被覆金属板およびその製造方法 - 特許庁
Since a part weak in adhesive strength is formed on the upper surface of the adhesive resin layer through the modification, the thin substrate can be easily removed.例文帳に追加
改質処理により粘着樹脂層上面に粘着力の弱い部分ができるので薄型基板の剥離が容易になる。 - 特許庁
To prevent development unevenness due to influences of an edge part of a light shielding film or adherence of foreign matters when developing an upper layer film as a top coating film.例文帳に追加
トップコーティング膜としての上層膜の現像時に、遮光膜の縁部の影響による現像ムラや異物の付着を防止する。 - 特許庁
In addition, the upper surface of the substrate 10 is coated with a protective layer 40 except at the portions, where the plated-nickel layers 24 and plated-solder layers 26 are formed.例文帳に追加
さらに、絶縁基板10の上端には、ニッケルメッキ層やハンダメッキ層26の部分を除いて保護層40で被覆される。 - 特許庁
A bias voltage, etc., is inputted by penetrating into the cover 11 by a bias line 34 and a via hole 36 from a bias circuit 14 of an upper layer.例文帳に追加
バイアス電圧等は、上位層のバイアス回路14からバイアス線34、バイアホール36によりカバー11を貫通して入力する。 - 特許庁
The circuit cells 10 are connected to the reference voltage main line VSS via power switches M1, M2 and the VSS upper-layer branch lines 72.例文帳に追加
回路セル10が、電源スイッチM1,M2とVSS上層分岐線72を介して基準電圧幹線VSSに接続されている。 - 特許庁
Therefore, the recess portion 13b is covered with the upper layer portion 13c, a void portion 13b1 is formed at the end of each through-dislocation D1.例文帳に追加
従って、上層部13cが凹部13bの上を覆い、個々の貫通転位D_1 の終端に空間部13b_1 が形成される。 - 特許庁
This constitution can constantly introduce the bathwater in the upper layer part in the device and, after filtering and clarifying the bathwater, discharge it to the bathtub again.例文帳に追加
これにより,絶えず上層部の浴湯を装置内に取り入れ,浴湯を濾過・浄化した後に再び浴槽内に吐き出すことができる。 - 特許庁
A covering layer 20 made of a dielectric material is provided so as to entirely or partially cover the outer surface of the upper member 11a.例文帳に追加
上側部材11aの外面の全部又は一部を覆うように、誘電体材料からなる被覆層20が設けられている。 - 特許庁
A liquid crystal device as an example of the electrooptical device comprises a pair of an upper substrate and a lower substrate sandwiching a liquid crystal layer.例文帳に追加
電気光学装置の一例としての液晶装置は液晶層を挟持する一対の上側基板及び下側基板を備える。 - 特許庁
Since the area where the conductive layer 43 is formed is wider than the sample, the circumferential edge of the sample is exposed in the upper side when the sample is placed.例文帳に追加
この導電層43の形成される面積は、試料よりも広いため、試料の載置時には周縁部が上方に露出する。 - 特許庁
An adhesive layer is provided at seal strip 3 that is bonded to a back-side strip 2 when it is folded at the upper edge 8 of a front-side strip 1.例文帳に追加
表面片1の上端縁8で折り返されて裏面片2に粘着される封緘片3に、粘着剤層を設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having metal wires formed on an upper layer wire by RIE using tungsten as a contact burying material in which tungsten can be prevented from being etched by chemical due to the misalignment of a pattern at the time of patterning the upper layer interconnect, no inclusion margin is required at the time of patterning the upper layer interconnect, and the reduction of a pattern size is facilitated.例文帳に追加
コンタクト埋め込み材としてタングステンを用い、その上層配線にRIEを用いて加工するメタル配線をもつ半導体装置の製造に際して、上層配線のパターニングの際にパターンの合わせずれに起因してタングステンが薬液でエッチングされてしまうことを防止でき、上層配線のパターニングの際に包含余裕をとる必要がなくなり、パターンサイズの縮小が容易になる半導体装置を提供する。 - 特許庁
Upper surfaces of an insulating layer 22 and the n-type diffusion region 23 are the same in height and almost flat surface without level difference.例文帳に追加
絶縁膜22とn型拡散領域23の上面は同一の高さとなっており、段差のないほぼ平坦な面となっている。 - 特許庁
In a CMOS circuit, a number of N-well regions 12 and P-well regions 14 are formed along the upper surface of a layer 10.例文帳に追加
CMOS回路では層10の上表面に沿って、多数のNウエル領域12およびPウエル領域14が形成される。 - 特許庁
Conductor patterns 2 and 3 are formed so that the through- holes 8 and 8 in different rows are connected on the upper and lower surfaces of the first layer 1.例文帳に追加
第1の層1の上下面において異なる列のスルーホール8、8間を連絡するように導体パターン2、3を形成する。 - 特許庁
The capacity value of the element Cc is changed by the plane width of an Al film 16 being the wiring film of an upper layer.例文帳に追加
また、付加容量素子Ccの容量値を、上層の配線膜であるAl膜16の平面的な幅で変更するようにした。 - 特許庁
Vertical rigidity is imparted to the joint part of an upper horizontal member 18 of a reinforcing layer 14 with the stud members 60, 62.例文帳に追加
この間柱部材60、62によって補強層14の上部水平部材18の接合部に鉛直剛性が付与されている。 - 特許庁
A cross-sectionally L-shaped gate layer 22 is formed from the other side surface of each wall part 11 to a part of the upper surface of the insulation substrate 10.例文帳に追加
各壁部11の他方の側面から絶縁基板10の上面の一部に断面L字状のゲート層22が形成されている。 - 特許庁
This method for forming the cavity structure of the semiconductor device is useful, especially for packaging an image sensor, and a spacer layer is formed at the upper part of a substrate.例文帳に追加
キャビティ構造の形成方法は、特にイメ−ジ・センサーのパッケージングに有用であり、基板上部にスペーサー層が形成される。 - 特許庁
A top wall part 4 and a peripheral wall part 5 are integrally formed by the deep drawing of a paper material 3' having a gas barrier layer 7 on the upper surface thereof.例文帳に追加
上面にガスバリア層7を有する紙質素体3’を深絞り成形して天壁部4と囲壁部5を一体形成している。 - 特許庁
A communication port 25 to feed cooling water to a water jacket on the upper layer side is situated at one end part of the vertical passage 22.例文帳に追加
この縦流れ流路22の一端部には、冷却水を上層側ウォータジャケットに送るための連絡口25が設けられている。 - 特許庁
The insulating layer 15 is provided on the upper surface of the adhesive force improving film 14c around the adhesive force improving film 14a.例文帳に追加
密着力向上膜14aの周囲における密着力向上膜14cの上面には絶縁層15が設けられている。 - 特許庁
The total thickness of the lower and upper layer protective films 13 and 14 is 6-15 nm.例文帳に追加
下層カーボン保護膜13と上層カーボン保護膜14の厚さとを加えたカーボン保護膜の全厚は6nm以上15nm以下である。 - 特許庁
To form a wiring or an electrode with ohmic connection to a substrate, simultaneously with the formation of a low resistance upper layer wiring on a gate electrode.例文帳に追加
ゲート電極上の低抵抗上層配線の形成と同時に,基板にオーミック接続する配線又は電極を形成する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device for high breakdown voltages for preventing element separation breakdown voltages from decreasing when applying a high voltage to upper-layer wiring.例文帳に追加
上層配線に高電圧を印加する際に、素子分離耐圧を低下させない高耐圧用の半導体装置を提供する。 - 特許庁
A second light shield layer 2 for restricting the light entering the noise removing circuit 11 is further provided on the upper part of the noise removing circuit 11.例文帳に追加
ノイズ除去回路11の上部に、ノイズ除去回路11への光の入射を制限する第2の遮光層2を更に設ける。 - 特許庁
To provide a laser-trimmable capacitor which can be structured to improve the adhesion strength between an organic resin-made dielectric layer and an upper electrode.例文帳に追加
有機樹脂からなる誘電体層と上側電極との付着強度を向上することができるレーザートリマブルコンデンサを提供する。 - 特許庁
A gate is formed proximately to an upper surface of the semiconductor layer and at least partially between the source and drain regions.例文帳に追加
半導体層の上部表面の近傍に、かつ少なくとも部分的にソース領域とドレイン領域の間にゲートが形成される。 - 特許庁
An upper metal wiring 9 is formed inside the contact hole 6 and the trench 8 so as to be electrically connected to the conductive layer 2.例文帳に追加
そして、コンタクトホール6内及びトレンチ8内には、導電層2と電気的に接続する上層金属配線9が形成されている。 - 特許庁
Aerosol containing particles of piezoelectric materials and carrier gas is sprayed onto the upper surface of the diaphragm 30 to form a piezoelectric layer 31.例文帳に追加
そして、振動板30の上面に、圧電材料の粒子とキャリアガスとを含んだエアロゾルを吹き付けて、圧電層31を形成する。 - 特許庁
Consequently, when the upper clad layer 16 is formed, Be and Se which have specifically high reactivity never come into contact with each other.例文帳に追加
これにより、上部クラッド層16を形成するに際して、特定的に反応性の高いBeとSeとが互いに接することがない。 - 特許庁
Then the film 50 is baked and a positive upper-layer photoresist film 52 having high light transmittance is formed on the film 50.例文帳に追加
下層フォトレジスト膜をベーキングし、更に下層フォトレジスト膜上に光透過率の高いポジ型の上層フォトレジスト膜52を成膜する。 - 特許庁
A TCNQ layer 12 is formed to coat the upper section of the n-type silicon board 11 and the p-type impurity doping region 11a.例文帳に追加
n型シリコン基板11上及びp型不純物ドープ領域11aを覆うように、TCNQ層12が形成されている。 - 特許庁
A photoresist 10 is used as an etching mask, to perform etching on an interlayer insulating film 9 for exposing the upper surface of a metal silicide layer 8.例文帳に追加
フォトレジスト10をエッチングマスクとして用いて、金属シリサイド層8の上面が露出するまで層間絶縁膜9をエッチングする。 - 特許庁
The drift layer 14 has, on at least the upper portion thereof, highly-resistive regions 14a whose one part is selectively formed to have a high resistance.例文帳に追加
ドリフト層14は、少なくとも上部にその一部が選択的に高抵抗化された高抵抗領域14aを有している。 - 特許庁
By this method, prior to formation of a dielectric layer, a thin amorphous region is formed on the upper surface of the silicon base material.例文帳に追加
本発明の方法によれば、誘電体層の形成に先立って、薄いアモルファス領域がシリコン基材の上表面で形成される。 - 特許庁
Electrolytic plating is applied to form wiring 11 inside the base metal layer 9 in the opening 8 of the upper insulation film 7.例文帳に追加
次に、電解メッキにより、上層絶縁膜7の開口部8内における下地金属層9の内部に配線11を形成する。 - 特許庁
A built-up layer B1 formed by alternately laminating insulating layers 11 and 12, and conductor layers C1 and C2 is formed on the upper surface of the board 3.例文帳に追加
変換基板3の上面に、絶縁層I1 ,I2 と導体層C1 ,C2 とを交互に積層してなるビルドアップ層B1 を形成する。 - 特許庁
An n-type impurity region 6 is formed in an upper face of the semiconductor layer 2 above the embedded impurity regions 3 and 4.例文帳に追加
埋め込み不純物領域3,4の上方では、半導体層2の上面内にn型の不純物領域6が形成されている。 - 特許庁
The power supply interconnections 101, 102 for the macro cell and the upper layer power supply interconnections 111-114 are mutually connected at their crossing point.例文帳に追加
マクロセル用電源配線101、102と上層電源配線111〜114は、両者が交差する箇所で互いに接続される。 - 特許庁
To suppress advance of siliciding of the other gate electrode at the time of forming a silicide film of an upper layer electrode film in a post-process.例文帳に追加
上層電極膜のシリサイド膜を後工程で形成する際に、他のゲート電極のシリサイド化の進行を抑制できるようにする。 - 特許庁
One surface of the plate 10 is provided with an adhesive layer 12 and is bonded to the upper surfaces of the LSI packages 13.例文帳に追加
このとき、前記プレート10の一方の面には粘着剤層12を設け、LSIパッケージ13の上面に接合するようにする。 - 特許庁
The rib material extends below a bottom surface from a level not higher than a top surface (10') of the upper layer (4') and not lower than the bottom surface.例文帳に追加
リブ材は、上層(4’)の頂面(10’)より高くはなくその底面より低くはないレベルから底面の下方へ伸びている。 - 特許庁
An anode electrode 2, the organic EL layer 3, a cathode electrode 4, and an inorganic protection film 5 are formed on the upper surface of a transparent board 1.例文帳に追加
透明基板1の上面にはアノード電極2、有機EL層3、カソード電極4および無機保護膜5が設けられている。 - 特許庁
In this semiconductor device, a lower DBR mirror 2 and a quantum well active layer 3 are formed on the upper surface of an n-GaAs substrate 1.例文帳に追加
この半導体装置は、n−GaAs基板1の上面に、下部DBRミラー2および量子井戸活性層3を形成する。 - 特許庁
A gate structure 4c of MIS transistors is formed on an upper surface 1a of a semiconductor substrate 1 in a semiconductor layer 80.例文帳に追加
半導体層80における半導体基板1の上面1a上には、MISトランジスタのゲート構造4cが形成されている。 - 特許庁
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