「x ray diffraction analysis」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

INTENSITY CORRECTION AT OBLIQUE INCIDENCE TO DETECTOR OF DIFFRACTION X-RAY IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS例文帳に追加

Ｘ線構造解析における回折Ｘ線の検出器への斜め入射時の強度補正 - 特許庁

INTENSITY CALCULATION METHOD OF DIFFRACTION SPOT IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS例文帳に追加

Ｘ線構造解析における回折斑点の強度算出方法 - 特許庁

To provide an X-ray analysis device, such as a fluorescent X-ray analysis device of a wavelength dispersion type, an X-ray diffraction device or the like, capable of making a prompt and accurate analysis by continuous scan.例文帳に追加

波長分散型の蛍光Ｘ線分析装置やＸ線回折装置等のＸ線分析装置において、連続スキャンで迅速かつ正確な分析を行える装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive X-ray analyzer for having fluorescence and diffraction for common use having functions of both of fluorescent X-ray analysis and diffracted X-ray analysis and capable of constituting an optimum X-ray detection system.例文帳に追加

蛍光Ｘ線分析と回折Ｘ線分析の両方の機能を有するとともに、それぞれ最適なＸ線検出系を構成できる、安価な蛍光・回折共用Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for X-ray transmission diffraction analysis remarkably improved in particle statistics.例文帳に追加

粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。 - 特許庁

An electron density distribution is found by applying the MEM structural analysis to an X-ray diffraction data obtained experimentally, and an X-ray diffraction data not observed is predicted based thereon to find the electrostatic potential.例文帳に追加

実験的に得られるX線回折データにMEM構造解析を適用することで詳細な電子密度分布を求め，これをもとに観測されていないX線回折データを予測することで静電ポテンシャルを求める。 - 特許庁

After setting the sample, a diffracted X-ray obtained by diffracting an X-ray from an X-ray tube 1 by the sample 6 is detected to execute X-ray diffraction analysis, by moving synchronously and rotatavely the X-ray tube 1 and a detector 3 around the rotation center 5.例文帳に追加

試料のセッティング後、Ｘ線管１と検出器３を回転中心５の回りに同期して回転駆動することによって、Ｘ線管１からのＸ線が試料６によって回折された回折Ｘ線を検出してＸ線回折分析が行われる。 - 特許庁

The cement quality control method is carried out by analysis of a mineral composition using Rietvelt analysis of a powder X-ray diffraction chart.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折チャートのリートベルト解析を利用した鉱物組成の分析によってセメントの品質管理を行う。 - 特許庁

The regenerated catalyst is subjected to an X-ray diffraction analysis and/or an X-ray photoelectron spectroscopic analysis of metal pieces to judge whether the regenerated catalyst is to be recovered.例文帳に追加

得られた再生処理後の触媒について、金属種のＸ線回折分析及び／又はＸ線光電子分光分析を行い、触媒の回収の要否を判定する。 - 特許庁

METHOD OF FINDING EXPERIMENTALLY ELECTROSTATIC POTENTIAL BY MEM STRUCTURAL ANALYSIS OF X-RAY DIFFRACTION DATA OF CRYSTAL SUBSTANCE例文帳に追加

結晶物質のＸ線回折データのＭＥＭ構造解析により静電ポテンシャルを実験的に求める方法 - 特許庁

To calibrate the intensity of X-rays with high accuracy for a short time in quantitative analysis by an X-ray diffraction method using a monochromator.例文帳に追加

モノクロメータを用いたＸ線回折法での定量分析において、短時間で高精度なＸ線強度の較正を実現する。 - 特許庁

To improve analysis efficiency when X-ray diffraction quantitative analysis of many samples is performed using a base standard absorption correction method.例文帳に追加

多数の試料について基底標準吸収補正法を用いたＸ線回折定量分析を行う場合の分析効率を向上させる。 - 特許庁

The name of an element, characteristic X-ray type and diffraction order for state analysis are input to an input device 12.例文帳に追加

入力装置１２から状態分析を行う元素の元素名、特性Ｘ線種及び回折次数を入力する。 - 特許庁

To improve the wavelength resolution of a characteristic X-ray used for analysis and the ratio of characteristic X-ray to background by using only a valid diffraction area of a dispersive crystal in an X-ray spectrometer using the curved dispersive crystal.例文帳に追加

湾曲分光結晶を用いるＸ線分光器において、分光結晶の有効回折領域のみを使用するようにして、分析に用いる特性Ｘ線の波長分解能、特性Ｘ線対バックグランド比の向上を図る。 - 特許庁

A fiber formed product has a crystallization peak in the vicinity of an angle (2θ) of diffraction of 6-10° as a result of analysis by X-ray diffraction method and the formed product is composed of a crystallized single-wall carbon nanotube.例文帳に追加

Ｘ線回折法による解析結果、回折角２θ＝６〜１０°付近に結晶化ピークを有する、結晶化した単層カーボンナノチューブからなる繊維成型体。 - 特許庁

Further, the half peak width obtained by the X-ray diffraction analysis of martensite of the rolling element 3 is ≤7.6° for all rolling elements.例文帳に追加

また、転動体３のマルテンサイトのＸ線回折分析により得られたピークの半価幅は、全転動体ともに７．６°以下である。 - 特許庁

The first tantalum carbide coating film has a maximum peak value at 80° or more in an orientation angle of the (311) plane of a diffraction peak which corresponds to the tantalum carbide in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加

第１炭化タンタル被覆膜は、Ｘ線回折により炭化タンタルに対応した回折ピークの（３１１）面の配向角度において８０°以上に最大のピーク値を有する。 - 特許庁

The tantalum carbide coating film 42 has a maximum peak value at 80° or more in an orientation angle of the (311) plane of a diffraction peak which corresponds to the tantalum carbide in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加

炭化タンタル被覆膜４２は、Ｘ線回折により炭化タンタルに対応した回折ピークの（３１１）面の配向角度において８０°以上に最大のピーク値を有する。 - 特許庁

The high frequency wave porcelain contains Al, Ti and Mn as metal elements, found no Al2TiO5 phase by X-ray diffraction analysis and baked at 1310°C or less.例文帳に追加

金属元素としてＡｌ、ＴｉおよびＭｎを含み、Ｘ線回折分析によりＡｌ_2ＴｉＯ_5相が認められず、１３１０℃以下で焼成される。 - 特許庁

In the analysis method, the governing factor of the spread shape of the peak to be measured is decided in the crystal structure evaluation through X-ray diffraction.例文帳に追加

Ｘ線回折により結晶構造評価を行う際、測定されるピークの拡がり形状の支配要因を判定する解析手法である。 - 特許庁

To provide a structure analysis method of a crystal applicable even to a case where a peak usable as a reference peak cannot be observed near an analysis object peak in an X-ray diffraction method.例文帳に追加

Ｘ線回折法において、基準ピークとなるようなピークが解析対象ピークの近傍に観測できないような場合にも適用できる結晶の構造解析方法を提供する。 - 特許庁

An X-ray diffraction and thermal analysis simultaneous measurement device includes functions for executing X-ray diffraction measurement by irradiating a sample for measurement with X-rays and simultaneously executing thermal analysis measurement by heating the sample for measurement and the standard sample, and includes a furnace heating which heats the sample for measurement and the standard sample.例文帳に追加

被測定試料に対しＸ線を照射してＸ線回折測定を実施するとともに、当該被測定試料および標準試料を加熱して熱分析測定を同時に実施する機能を備えたＸ線回折・熱分析同時測定装置であり、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉を備えている。 - 特許庁

When a powder X-ray diffraction analysis regarding the silicon alloy powder is executed, a high-intensity peak can be provided in a range, belonging to the copper/aluminum-containing phase 12, where a diffraction angle 2θ is 43.5-44.5°.例文帳に追加

このケイ素合金粉末について粉末Ｘ線回折分析を行うと、銅・アルミニウム含有相１２に帰属する回折角度２θが４３．５°〜４４．５°の範囲内に高強度の回折ピークが得られる。 - 特許庁

To enable the analysis, fluorescent X-ray analysis and X-ray diffraction analysis of an object to be inspected which has concaves and convexes on its surface by making it possible to prolonging the working distance from an opening end on the emission side to the object to be inspected.例文帳に追加

出射側開口端から被検査体までの作動距離を長くすることができ、表面に凹凸がある被検査体の分析、蛍光Ｘ線分析、Ｘ線回折分析を被検査体の大きさに拘わらず行うことができるＸ線集束素子及び該Ｘ線集束素子を備えるＸ線照射装置を提供する。 - 特許庁

The nucleating agent consists of a compound expressed by formula (1), having ≤10 μm mean particle diameter and essentially exhibits no crystalline peak in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加

下記一般式（１）で表される化合物からなり、平均粒径１０μｍ以下で且つＸ線回折分析で結晶性ピークを実質的に有しない造核剤。 - 特許庁

To provide a simple method for quickly synthesizing a heavy atom-substituted protein suitable for the X-ray crystal structural analysis for protein, particularly phase determination by MAD(multiwavelength anomalous diffraction) method.例文帳に追加

タンパク質のＸ線結晶構造解析、特にＭＡＤ法による位相決定に適した重原子置換体タンパク質の迅速且つ簡便な合成方法を提供する。 - 特許庁

In addition, it is expected that the present invention will provide a reliable and reproducible method for quantitative measurement of a very small amount of active oxygen produced therefrom through the X-ray diffraction analysis.例文帳に追加

また、本発明は、その時に発生する微量の活性酸素をＸ線回折分析で定量して、信頼性及び再現性ある活性酸素発生量の測定技術を提供する。 - 特許庁

To attain highly accurate thermal analysis measurement by making ambient environment of a sample for measurement and a standard sample the same on the premise of configuration for performing X-ray diffraction measurement by a transmission method.例文帳に追加

透過法によるＸ線回折測定ができる構造を前提として、被測定試料と標準試料の周囲環境を同じにして高精度な熱分析測定を実現する。 - 特許庁

To provide an apparatus which can fully, promptly and precisely analyze using an inexpensive and simple structure by preventing diffraction rays, which become interfering rays, from being generated on the side of the X-ray source in an apparatus for X-ray fluorescence analysis analyzing samples having crystal structures.例文帳に追加

結晶構造を有する試料を分析する蛍光Ｘ線分析装置において、妨害線となる回折線をＸ線源側で発生しないようにすることにより、十分迅速で正確な分析ができ、安価で簡単な構造の装置を提供する。 - 特許庁

To provide a structure analysis method of a trace element capable of suppressing measurement inhibition of a fluorescent X-ray signal caused by generation of a strong diffraction X-ray at a specific angle from a sample, when performing structure analysis of the trace element included in a single crystal sample by utilizing a fluorescent XAFS method.例文帳に追加

蛍光ＸＡＦＳ法を利用して、単結晶の試料に含まれる微量元素の構造解析を行うのに際し、試料から特定角度に強い回折Ｘ線が生じることに伴い、蛍光Ｘ線信号の測定が阻害されることを抑制できる微量元素の構造解析方法を提供する。 - 特許庁

In the protective film 9, a peak is present at a diffraction angle, between a diffraction angle at which a peak generates when only one oxide of two oxides is analyzed in X-ray diffraction analysis on a specific azimuth surface and a diffraction angle at which a peak generates, when only the other oxide is analyzed.例文帳に追加

保護膜９は、特定方位面についてのＸ線回折分析において、２つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものである。 - 特許庁

According to such a configuration, this method which is different from X-ray diffraction method or X-ray transmission method that accompanies hazards and thermal analysis method that requires cutting of a material, and the presence of the crystallization or internal flaw of the metal glass can be evaluated safely, accurately and simply by a single method.例文帳に追加

かかる構成により、従来の危険を伴うＸ線回折法及びＸ線透過法や、材料の切り出しが必要な熱分析法と異なり、金属ガラス中の結晶化や内部欠陥の有無を、単一の方法で、安全に、且つ精度よく簡単に評価することができる。 - 特許庁

Diffraction lines attributed to metallic Si and Si compound cannot be detected in the texture structure by the pattern analysis by X-ray diffraction method and granular texture is unrecognizable by the observation with a transmission electron microscope(TEM).例文帳に追加

また、その組織構造は、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁

To provide a structure analysis method for accurately analyzing the structure and composition of a carbon material to be measured based on the X-ray diffraction data of the carbon material to be measured by utilizing a statistical method.例文帳に追加

統計的手法を利用し、被測定炭素材のＸ線回折データに基づいて、高い精度で被測定炭素材の構造および組成分析が可能な構造解析法を提供する。 - 特許庁

The polymorphism forms of benzyl (S,S)-2-(2- acetylsulfanylmethyl-3-benzo[1,3]dioxol-5-ylpropionylamino)propionate (fasidotril) are characterized by specific powder X-ray diffraction spectra and differential scanning thermal analysis spectra.例文帳に追加

特定の粉末Ｘ線回析スペクトルと示差走査熱分析スペクトルとで特徴付けられるベンジル（Ｓ，Ｓ）−２−（２−アセチルスルファニルメチル−３−ベンゾ[１，３]ジオキソル−５−イルプロピオニルアミノ）プロピオネート（ファシドトリル）の多形型。 - 特許庁

The RHx compound (R represents one metal element in rare earth elements, H is hydrogen and (x) is 2 or around 2) has an FCC (face-centered cubic) structure and a crystalline structure showing high diffraction intensity on the (311) plane than the diffraction intensity on the (111) plane by X-ray diffraction pattern analysis.例文帳に追加

本発明のＲＨｘ（Ｒは希土類元素のうちのいずれか一の金属元素。Ｈは水素元素。ｘは２又はその近傍。）化合物は、ＦＣＣ構造を有し、かつ、Ｘ線回折パターン結果において（１１１）面の回折強度よりも（３１１）面の回折強度のほうが大きい結晶構造を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

The method for X-ray analysis of the sample includes directing of a beam of X-rays to impinge on an area of the periodic feature on the surface of the sample, and receiving the X-rays scattered from the surface in a reflection mode so as to detect a diffraction spectrum in the scattered X-rays as a function of the azimuth.例文帳に追加

試料をＸ線解析する方法は、試料の表面上の周期構造の領域に衝突するようにＸ線ビームを方向付け、方位角の関数として散乱Ｘ線の回折スペクトルを検出するように反射モードで表面から散乱したＸ線を受け取ることを含む。 - 特許庁

To perform accurate qualitative analysis by accurately performing the comparison of the measured data of the intensity of diffracted X-rays and standard data even in such a case that a measuring condition of the measured data and the standard data is different, especially, a diffusion slit is different in the X-ray diffraction device.例文帳に追加

Ｘ線回折装置において、回折Ｘ線強度の測定データと標準データの測定条件、特に、発散スリットが異なる場合でも、測定データと標準データの比較を正確に行い正確な定性分布を行う。 - 特許庁

The sputtering target is made from Ru or an Ru alloy, and the content ratio of a crystal orientation on a face (002) in an integrated intensity value measured on the surface of the target with an X-ray diffraction analysis is set to be 0.05 or larger.例文帳に追加

ＲｕまたはＲｕ合金からなるスパッタリングターゲットであって、ターゲット表面においてＸ線回折法で測定された積分強度値における（００２）面の結晶方位含有比を０．０５以上とする。 - 特許庁

The parallel radiation (12) emitted from the sample (4) in a known apparatus for X-ray analysis (e.g.; diffraction) is analyzed corresponding to a wavelength and matched with a focus 20 by a parabolic multilayered mirror 14.例文帳に追加

公知のＸ線分析（例えば、回折用）の装置における試料（４）から発する並行放射線（１２）は波長に応じて分析され、方物面多層鏡１４によって焦点２０に焦点が合わされる。 - 特許庁

A crystalline structure observed in the surface side of the electrophotographic photoreceptor by X-ray diffraction analysis exhibits a ≤0.8 ratio of the reflection intensity in a 101 direction of crystal plane to the peak reflection intensity in a 110 direction of crystal plane.例文帳に追加

電子写真用感光体表面がわからみた結晶構造のＸ線回折で得られる面方位１１０の反射強度のピーク値に対する、面方位１０１の反射強度の比率が０．８以下とする - 特許庁

The Ti-Al-based alloy target obtained by this method comprises 45 to 65 atomic% Al, and has at least two or more phases of Ti_3Al, TiAl, TiAl_2 and TiAl_3 upon analysis by X-ray diffraction, and in which metal Ti and metal Al as simple substances are not left upon EPMA (Electron Probe Micro Analysis).例文帳に追加

これにより得られたＴｉ−Ａｌ系合金ターゲットは、Ａｌを４５〜６５原子％含有し、Ｘ線回折で分析したときにＴｉ_３Ａｌ，ＴｉＡｌ，ＴｉＡｌ_２，ＴｉＡｌ_３の少なくとも２種以上の相を含み、ＥＰＭＡ分析をしたときに単体の金属Ｔｉ及び金属Ａｌが残存していない。 - 特許庁

Supposing that the (111) face detection peak intensity is (a) and that the (200) face detection peak intensity is b when crystal structures analysis of platinum is executed by an X-ray diffraction method, the platinum electrode films 7, 8 have the ratio (b/a) of 0.01-0.1.例文帳に追加

白金電極膜７、８は、白金をＸ線回折法によって結晶構造解析した際の、（１１１）面検出ピーク強度をａとし（２００）面検出ピーク強度をｂとすると、その比率（ｂ／ａ）が０．０１〜０．１である。 - 特許庁

To provide a new method for analyzing the structure of a protein, by which any protein can be divided into soluble fractions and then subjected to purification, crystallization, and three-dimensional structure analysis by X-ray diffraction under uniform conditions.例文帳に追加

いかなる蛋白質であっても、可溶性画分に生産した後、均一な条件化で、精製、結晶化、及び、Ｘ線回折による３次元構造の解析を行うことができる新たな蛋白質の構造解析方法を提供する。 - 特許庁

A stress distribution for calculating the strength H of the stress singular field near the contact end is determined by a molecular dynamic analysis, nano-indentation as an experimental technique, an X-ray stress measuring method, or a neutron diffraction stress measuring method.例文帳に追加

また、接触端近傍の応力特異場の強さＨを算出するための応力分布を、分子動力学解析、又は実験的手法としてナノインデンテーション、Ｘ線応力測定法、中性子回折応力測定法により求めた。 - 特許庁