「lift off」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The reason why one lead is divided into a plurality of partial leads as in this embodiment is that, when soldering is carried out according to the flow process using lead-free solder, the stress generated when the solder is cooled is alleviated by the deformation of individual partial leads to prevent the generation of the lift-off phenomenon.例文帳に追加

本実施例の如く１本のリードを複数本に分割カットした理由は、鉛フリーハンダを用いてフロー方式によるハンダ付けを行った際に、電子部品のリードを分割し複数本とすることにより、ハンダが冷却する時に生じる応力を個々のリードを変形させて吸収し、リフトオフ現象の発生を防ぐことにある。 - 特許庁

The substrate 12 covered with the resist is rotated in the predetermined direction by a rotating mechanism 13, and steam and water mist whose controlled particle diameter is jetted to the resist on the substrate to lift the resist from the substrate 12 by the action of the steam 14, and the lifted resist is peeled off from the substrate 12 by the water mist whose particle diameter being controlled.例文帳に追加

レジストが被着した状態の基板１２を回転機構１３により所定の方向に回転させ、基板上のレジストにスチームおよび粒径の制御された水ミストを噴射することで、スチーム１４の作用により基板１２からレジストを浮き上がらせ、粒径の制御された水ミストにより基板１２から浮き上がっているレジストを剥離させる。 - 特許庁

To provide an eddy current measuring sensor and an eddy current measurement method with which a hardened depth measurement test can be conducted with high detection accuracy even when inspecting a high-frequency hardened component with a widely changing outer diameter or a recessed part, and measurement accuracy can be improved by eliminating influence of lift-off at the measurement of the hardened depth.例文帳に追加

外径が大きく変化したり、凹部を有したりするような高周波焼入れ部品を検査する場合であっても高い検出精度で焼入れ深さ測定試験を行うことができ、また、焼入れ深さの計測にあたってリフトオフの影響を排除することで計測精度を向上させることが可能となる、渦流計測用センサ及び渦流計測方法を提供する。 - 特許庁

To provide a probe for eddy current examination capable of always keeping lift-off between the probe and a measuring object constant, acquiring an action effect similar to the case of holding vertically without intentionally holding the probe vertically, and thereby quickly performing accurate and precise measurement without requiring any skill in an eddy current examination work.例文帳に追加

プローブと測定対象物とのリフトオフを常に一定に保ち、且つ、プローブを意識的に垂直に保持することなく、垂直に保持したと同様の作用効果が得られ、以て、渦流探傷作業に際し、何ら熟練を要することなく、正確で精密な測定を迅速に行なうことが可能な渦流探傷用プローブを提供することを課題とする。 - 特許庁

The unnecessary photosensitive film 15 is cut off at the trimming position on the downstream side of the laminating roll 23 by a laser irradiation head 63, and the silicon wafer 35 is moved along one side on the opposite side of the rectangle to be housed in the wafer holder 81 on the lift stand 78 by a feed arm 44.例文帳に追加

そしてラミネートロール２３の下流側のトリミング位置においてレーザ照射ヘッド６３によって不要の感光性フィルム１５を切断除去し、この後に矩形の反対側の１辺にほぼ沿うようにして搬送アーム４４によってシリコンウエハ３５を昇降台７８上のウエハホルダ８１に収納する。 - 特許庁

A rotary brush 7 is rotated by a motor 62 and moved vertically and nearly horizontally by a lift 51 and a fluctuating device 61 so that the brush 7 is pushed to the side Va of a container V conveyed intermittently by a conveyer 3 to peel off a label stuck on the side Va.例文帳に追加

回転ブラシ７をモータ６２によって回転させるとともに、昇降装置５１および揺動装置６１を介して回転ブラシ７を上下方向および略水平方向に移動させることにより、コンベア装置３に載置されて間欠的に搬送される容器Ｖの側面Ｖａに回転ブラシ７を押し付けて、その側面Ｖａに貼付されているラベルを剥離させる。 - 特許庁

The sheet taking out mechanism of the dispensing apparatus is provided with a control means that controls the operation of the chucking unit to lift the previous PTP tablet sheet 9001 by only a prescribed height in the timing that a pocket position of the previous PTP tablet sheet 9001 comes off from the following PTP tablet sheet 9002 when those PTP tablet sheets 9001, 9002, ... are taken out to the outside of the tablet cassette.例文帳に追加

この調剤装置のシート取り出し機構では、ＰＴＰ錠剤シート９００１，９００２，・・・を前記錠剤カセット外に取り出す際に、先のＰＴＰ錠剤シート９００１のポケット位置が次のＰＴＰ錠剤シート９００２から外れるタイミングで、該先のＰＴＰ錠剤シート９００１を所定高さだけ持ち上げるように前記チャッキングユニットの動作を制御する制御手段を設けている。 - 特許庁

This method includes the steps for: forming an etching mask extending in a predetermined direction on a second semiconductor region 30 of a substrate product 10A having first and second semiconductor regions 20, 30 including an InP based compound semiconductor; forming a stripe mesa structure 40 by performing dry etching using an etching mask, and then performing wet etching; forming an insulation film 42; and forming an electrode 50 by the lift-off method.例文帳に追加

この方法は、ＩｎＰ系化合物半導体を含む第１及び第２の半導体領域２０，３０を有する基板生産物１０Ａの第２の半導体領域３０上に、所定方向に延びるエッチングマスクを形成する工程と、エッチングマスクを用いてドライエッチングを行い、その後にウェットエッチングを行うことによりストライプメサ構造４０を形成する工程と、絶縁膜４２を形成する工程と、リフトオフ法により電極５０を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of a metallic material layer has a process for forming a resist layer on a substrate, a process for forming a resist pattern by patterning the resist layer, a process for disposing an organic metallic solution on the substrate and on the resist pattern, a solvent removal process for removing solvent of the organic metallic solution, and a lift-off process for removing the resist pattern after the solvent removal process.例文帳に追加

本発明の一つの側面は、基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層をパターニングすることによってレジストパターンを形成する工程と、前記基板上及び前記レジストパターン上に有機金属溶液を配置する工程と、前記有機金属溶液の溶媒を除去する溶媒除去工程と、前記溶媒除去工程の後に前記レジストパターンを除去するリフトオフ工程とを有する金属材料層の製造方法にある。 - 特許庁