本発明は、非接触温度計測を用いた、環境暴露装置の温度センサの較正方法に係わる。例文帳に追加

To provide a calibration method of a temperature sensor in an environmental exposure device by noncontact thermometer measurement. - 特許庁

レイアップは、初期の金型温度Ｔ_ｉおよび初期の圧力Ｐ_１に暴露される。例文帳に追加

The lay-up is exposed to an initial tool temperature T_i and an initial pressure P_1. - 特許庁

多層ソリッドゴルフボールは、高い周囲温度に暴露された後も性能特徴を維持する。例文帳に追加

The multilayer solid golf ball maintains performance characteristics after exposure to high ambient temperatures. - 特許庁

ｅＰＴＦＥ材料は、アモルファスロック温度に暴露されるか否かは問わない。例文帳に追加

The ePTFE material may or may not have been exposed to amorphous locking temperatures. - 特許庁

次いで、組合せを可変温度に暴露し、色素の蛍光発光を測定して、二本鎖構造の融解温度を決定する。例文帳に追加

Subsequently, the combination is exposed to varying temperatures and the fluorescence emission of the dye is measured to determine the melting temperature. - 特許庁

ある温度に暴露された時間の長さを正確に判別することができる温度履歴インジケーターを提供する。例文帳に追加

To provide a temperature history indicator capable of precisely discriminating the length of time during which it is exposed to a certain temperature. - 特許庁

幼児シミュレーター５は、幼児が供される虐待衝撃、虐待圧縮、不適切な位置、騒音への暴露、煙への暴露、直射日光への暴露、極端な温度への暴露からなる許容不可能な環境条件を感知し、そしてオシメ交換、哺乳、幼児のオクビ、幼児の休息および幼児の揺すりを生徒に周期的に請求することができる。例文帳に追加

The infant simulator 5 senses unallowable environmental conditions of ill-treatment, ill-treatment compression, an improper position, noise, smoke, the direct sunshine, and extremely high and low temperatures to which the infant is subjected, and periodically demands that the trainee changes the diaper, or feeds, burps, lays, or rocks the infant. - 特許庁

水蒸気不透過性金属層の上層に、温度４０±０．５℃、相対湿度９０±２％の条件下に暴露したときにその質量変化が、暴露面積５０ｃｍ^２で１ｍｇ／２４時間以下の有機物で密閉しても良い。例文帳に追加

The upper layer of the vapor water permeable metal layer may be sealed by an organic matter, where the mass change is 1 mg/24 hours or less in an exposure area of 50 cm^2 when being exposed to a temperature of 40±0.5°C and a relative humidity of 90±2%. - 特許庁

そして、ステップＳ１３にて、各データから、光量、温度暴露量、湿度暴露量を算出する処理を行い、ステップＳ１４にて、パネルの寿命を算定処理する。例文帳に追加

At the step S13, the management apparatus calculates a quantity of light, a temperature dose and a humidity dose based on each of data; and at the S14, it estimates the lifetime of a panel. - 特許庁

支持体が少なくとも約90℃の温度になった後に、液状硫酸組成物は、液状硫酸組成物の温度が水蒸気への暴露前の該液状硫酸組成物の温度よりも上昇するのに効果的な量の水蒸気に暴露される。例文帳に追加

After the substrate is at a temperature of at least about 90°C, the liquid sulfuric acid composition is exposed to water vapor in an amount effective to increase the temperature of the liquid sulfuric acid composition above the temperature of the liquid sulfuric acid composition prior to exposure to the water vapor. - 特許庁

該支持体が少なくとも約90℃の温度になった後に、該液状硫酸組成物は、該液状硫酸組成物の温度が水蒸気への暴露前の該液状硫酸組成物の温度よりも上昇するのに効果的な量の水蒸気に暴露される。例文帳に追加

After the substrate is at a temperature of at least about 90°C, the liquid sulfuric acid composition is exposed to water vapor in an amount effective to increase the temperature of the liquid sulfuric acid composition above the temperature of the liquid sulfuric acid composition prior to exposure to the water vapor. - 特許庁

自然にもしくは人工的に暴露させる試料表面温度の非接触測定方法及びそのための装置例文帳に追加

NONCONTACT MEASURING METHOD OF SURFACE TEMPERATURE OF SAMPLE TO BE NATURALLY OR ARTIFICIALLY EXPOSED AND DEVICE THEREFOR - 特許庁

中程度の温度及び腐食性環境に暴露されるタービンエンジン部品のための耐食性皮膜系を提供する。例文帳に追加

To provide a corrosion resistant coating system for a turbine engine component which is exposed to a corrosive environment at a moderate temperature. - 特許庁

比較的高い周囲温度に暴露された後もその性能特徴を維持するゴルフボールを提供すること。例文帳に追加

To provide a golf ball that maintains performance characteristics after exposure to relatively high ambient temperatures. - 特許庁

設定暴露時間Ｔａは、ラベルプリンタ１０が設置された周辺の温度と湿度に応じて変更される。例文帳に追加

A set exposure time Ta is changed depending on the temperature and humidity of a periphery where a label printer 10 is installed. - 特許庁

試験室、暴露面が光源に向けられた試験片を支持する試験片取付台、光源への電力レベルを調整する制御装置、および暴露面の作業温度をリアルタイムで監視するように方向付けられた非接触温度センサを具備する種類の促進耐候性試験装置である。例文帳に追加

This is the accelerated weathering test system of the type which is equipped with the laboratory, a test piece mount for supporting test piece with its exposed face turned to light source, a control unit for controlling power level to the light source, and the noncontact temperature sensor oriented so as to monitor working temperature of the exposed face in real time. - 特許庁

水素暴露して劣化したセンサ素子の出力を補正して水素充填時の温度を測定する温度検出器を備えた水素充填システムを提供する。例文帳に追加

To provide a hydrogen filling system equipped with a temperature detector which corrects the output of a sensor element degraded by hydrogen exposure and measures the temperature, at filling of hydrogen. - 特許庁

ブドウ糖センサ３００と、適正な温度制御を示すために温度変化への暴露を知らせる保護パッケージ３１０とを含むブドウ糖センサパッケージシステムである。例文帳に追加

A glucose sensor package system includes a glucose sensor 300 and a protective package 310 indicating exposure to temperature changes in order to indicate proper temperature control. - 特許庁

成膜室を大気中に暴露させる必要がなく、しかも校正作業が容易となる気相成長装置の温度計の校正方法及び温度校正用の半導体基板を提供する。例文帳に追加

To provide a calibration method of a thermometer of a vapor phase growth device, whereby a film forming chamber is not required to be exposed to the atmosphere and calibration work becomes easy, and to provide a semiconductor substrate for temperature calibration. - 特許庁

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。例文帳に追加

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint. - 特許庁

樹脂試験片を所定濃度の窒素酸化物に所定温度で所定時間暴露した後、該樹脂試験片の変色進行度合いを色差計で分析する。例文帳に追加

The progress degree of discoloration in a resin test piece is analyzed by a color difference meter, after the test piece is exposed to nitrogen oxides of a prescribed concentration at a prescribed temperature for a prescribed time. - 特許庁

半導体デバイス作製時の基板前処理洗浄工程おいて、基板温度を室温から1200℃の範囲に保ち、基板表面に紫外線を照射しつつオゾン暴露を行う。例文帳に追加

In the substrate pretreatment washing process when semiconductor devices are prepared, a substrate temperature is maintained from the room temperature to 1200°C, and ultraviolet rays are applied onto the substrate surface for carrying out ozone exposure. - 特許庁

ジイソシアネートを高すぎる温度で長すぎる時間暴露することなく常に最適混合条件を保ったまま実施できる、経済的に有利なジイソシアネート/ジアミン法によって、ビウレット構造含有ポリイソシアネートを得る。例文帳に追加

To obtain a biuret structure-containing polyisocyanate by an economically advantageous diisocyanate/diamine method that can be carried out while always keeping optimal mixture conditions without exposing diisocyanate to an excessive temperature for lengthy time. - 特許庁

フィルムの種類および暴露する気体の条件（圧力、温度、湿度）を任意に設定することが可能でかつ短時間で多数のフィルムのガス透過量を測定できるフィルム用ガス透過量測定装置の提供。例文帳に追加

To obtain a gas permeable quantity measuring apparatus capable of arbitrarily setting the kind of a film and the conditions (pressure, tempera ture, humidity) of gas to be exposed and capable of measuring the gas perme able quantities of a large number of films in a short time. - 特許庁

刺激応答性高分子ゲルを利用した水分インジゲータであって、信頼性や目視性が高く、浸漬時間、暴露時間、水の状態（ｐＨ、温度、塩濃度など）なども確認可能な水分インジゲータを提供すること。例文帳に追加

To provide a moisture indicator obtained by utilizing a stimulation-responsive polymer gel, which is high in reliability and visibility, and by which the followings can be checked: dipping time, exposure time and conditions of water (pH, temperature, salt-concentration, etc.). - 特許庁

また、自動車両用プラスチック部品を赤外線源へ暴露したときに、自動車両用プラスチック部品の温度上昇を抑制する方法を提供する。例文帳に追加

Further provided is a method for suppressing the temperature rise of plastic parts for the automobile when they are exposed to an IR source. - 特許庁

ポリスルホンポリマー（疎水性ポリマー）とポリビニルピロリドンのような親水性ポリマーとの共注型により親水性を付与すると共に、製膜時の空気暴露条件、凝固温度の選択により、高表面多孔度（高有孔密度）と明確な不斉を有するスルホンポリマー膜を得る。例文帳に追加

By selecting aeration conditions and freezing point when manufacturing membranes, sulfone polymer membranes having high surface porosity (high pore density) and distinctive asymmetry can be obtained. - 特許庁

一定温度に加熱した基板に潤滑剤を蒸着する、もしくは蒸着させる基板を蒸着前に酸素雰囲気に暴露した状態で潤滑剤を蒸着することにより、カーボン保護膜と液体潤滑剤分子の結合率を制御すること。例文帳に追加

To control a coupling rate between a carbon protective film and liquid lubricant molecules by depositing lubricants on a substrate heated to a fixed temperature, or depositing the lubricants in the exposed state of the deposit-target substrate in an oxygen atmosphere before the deposition. - 特許庁

例えばブラック標準センサとして構成され、物質試料の人工環境暴露装置において通常使用される温度センサ１０は、公知のように、黒コーティング２が施され、裏面には白金抵抗３が熱的に結合されたステンレス鋼板１を有する。例文帳に追加

The temperature sensor 10 which is constituted as a black standard sensor and generally used in an artificial environmental exposure device for a material sample comprises a stainless steel plate 1 having a black coating 2 and a platinum resistor 3 thermally bonded to the reverse side as known. - 特許庁

そして、絶縁膜２６１が形成されたウエハＷをアンモニアガス及び弗化水素ガスの混合気体に所定の圧力下において暴露し、絶縁膜２６１を形成するＳｉＯ_２から変質した生成物を所定の温度に加熱する。例文帳に追加

Next, the wafer W where the insulating film 261 is formed is exposed in a mixed gas of an ammonia gas and a hydrogen fluroride gas under predetermined pressure, and a product degenerated from SiO_2 forming the insulating film 261 is heated at a predetermined temperature. - 特許庁

常温〜２００℃の雰囲気温度下でオゾンガス濃度が３〜５０vol％のオゾンガスを少なくとも表面層がポリイミド膜からなるプリント基板に暴露させ、該ポリイミド膜の表面に対し化学的表面修飾を行わせて親水性を向上させる。例文帳に追加

The printed circuit board in which at least a surface layer is composed of the polyimide film is exposed to ozone gas of 3 to 50 vol% at an ambient temperature from room temperature to 200°C and the surface of the polyimide film is chemically surface-modified so that affinity is improved. - 特許庁

錫含有水酸化インジウムを不活性ガスおよび還元性ガスの雰囲気下で焼成し、大気中に暴露する前に、０℃以上１００℃以下の温度で、水分を含む、不活性ガスおよび／または還元性ガス雰囲気下で所定の時間処理してＩＴＯ粉体を製造する。例文帳に追加

The ITO powder is manufactured by firing tin-containing indium oxide in an atmosphere of an inert gas and reducing gas and processing the same for the prescribed time in the inert gas and/or reducing gas atmosphere including moisture at temperature of ≥0 to ≤100°C prior to exposure into the atmospheric air. - 特許庁

ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、あるいはその混合物などの温度８０℃相対湿度８０％雰囲気下で７００時間暴露した後の引張強度保持率が７５％以上の塩基性有機化合物をモノマーあるいは縮合物の形で含んでいるポリベンザゾールからなる短繊維。例文帳に追加

The polybenzazole short fiber comprises a basic organic compound such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine or a mixture thereof in a form of a monomer or a condensate and has ≥75% retention ratio of tensile strength after exposed for 700 hr under the atmospheres of 80°C and 80% relative humidify. - 特許庁

本発明は、シリコン表面より酸化膜を除去した後、該シリコン表面でエッチング反応及び酸化反応が同時に進行する温度及び酸素分圧の条件下に該シリコン表面を暴露し、該シリコン表面に微細な凹凸を形成するシリコンの表面処理方法を提案する。例文帳に追加

After an oxide film is removed from the surface of a silicon, the surface thereof is exposed at a temperature and partial pressure of oxygen such that etching reaction and oxidizing reaction are progressed at the same time, thereby form micro projections and recessed parts on the surface thereof. - 特許庁

この後、圧力が０．１Ｍｐａから５Ｍｐａ、温度が１００℃から７００℃で、酸化能力の有る気体を含む雰囲気に半導体薄膜５を暴露し、多結晶シリコンの表面を熱酸化して酸化膜３を形成する熱酸化工程を行う。例文帳に追加

Thereafter, a thermal oxidizing process for exposing the semiconductor thin film 5 to the atmosphere containing gas with oxidization ability, where a pressure is 0.1 Mpa to 5 Mpa and a temperature is 100°C to 700°C, thermally oxidizing the surface of the polycrystalline silicon and forming the oxidized film 3 is carried out. - 特許庁

スズ含有水酸化インジウムを不活性ガスおよび還元性ガスの雰囲気下で焼成し、大気中に暴露する前に、０℃以上１００℃以下の温度で、水分を含む、不活性ガスおよび／または還元性ガス雰囲気下で所定の時間処理してＩＴＯ粉体を製造する。例文帳に追加

The ITO powder is produced by firing tin-containing indium hydroxide in an atmosphere of an inert gas and a reducing gas, and treating it at a temperature of 0-100°C for a prescribed time under an atmosphere of inert gas and/or reducing gas containing moisture before exposing it in the air. - 特許庁

生体適合性材料の表面浄化方法は、リン酸系生体適合化合物の耐熱温度未満に加熱したアルカリ水溶液からなる洗浄液中に浸漬させた後、当該表面を酸素雰囲気中に暴露しながら、紫外線を照射することを特徴とする。例文帳に追加

The surface cleaning method for a biocompatible material includes the steps for immersing the biocompatible material in cleaning solution composed of alkaline solution heated to a temperature less than the allowable temperature limit of phosphoric acid-based biocompatible compound, and applying an ultraviolet light while exposing the surface to oxygen atmosphere. - 特許庁

境界層を、１６００°Ｆ以上の温度で、還元性ガスへの暴露することにより、少なくとも境界層において前記群のうちの１種類以上の物質を気体状化合物に変換することによりガスが境界層に浸透し、そして、物品表面からＴＢＣを分離させる。例文帳に追加

By exposing a boundary layer to reducing gas at ≥1,600°F, at least, in the boundary layer, one or more kinds of substances among the above groups are converted into a gaseous compound, so that the gas infiltrates it the boundary layer, and TBC is separated from the surface of the article. - 特許庁

この分子レジストは、初めはアルカリ性水溶液または本質的に水からなる現像液に不溶であるが、１９３ｎｍ以下の波長を有する放射線と、ほぼ室温から約１１０℃の露光後加熱温度とに暴露すると、現像液に可溶になる。例文帳に追加

The molecular resist is initially insoluble in a developer which may be an aqueous alkali solution or essentially consist of water, however, the resist may become soluble in a developer upon exposure to radiation having a wavelength of 193 nm or less and a post-exposure bake temperature from about room temperature to about 110°C. - 特許庁

炭化珪素半導体基板上に、ゲート酸化膜を形成する前の基板前処理工程において、基板の温度を室温から１２００℃の範囲に保ち、紫外線を照射しつつオゾン暴露を行って酸化膜／炭化珪素界面の作成する。例文帳に追加

In a pre-process for processing a substrate before forming a gate oxide film on a silicon carbide semiconductor substrate, while keeping the temperature of the substrate in a range from the room temperature to 1200 degree centigrade and applying ultraviolet rays to the substrate, the substrate is exposed to ozone to form the interface between oxide film/silicon carbide. - 特許庁

ポリ乳酸を芯成分、主たる繰り返し単位であるエチレンテレフタレートが80モル％以上を占める芳香族ポリエステルを鞘成分とする芯鞘型の複合繊維であって、芯鞘比率（横断面面積比率 芯：鞘）が20：80〜80：20であり、かつ、温度60℃、湿度90％の環境下に500時間暴露処理させた後の強度保持率が80％以上であることを特徴とするポリ乳酸複合繊維。例文帳に追加

The polylactic acid conjugate fiber is a sheath/core-type one composed of polylactic acid as the core component and, as the sheath component, an aromatic polyester having ethylene terephthalate as the main repeating unit accounting for 80 mol% or greater. - 特許庁

SAPOまたはアルミノシリケートゼオライトの様な８員環細孔開口構造を有するモレキュラーシーブまたはゼオライトを含んで成る水熱的に安定なマイクロポーラス結晶性物質であって、10体積パーセントまでの水蒸気の存在下に900℃までの温度に1〜16時間にわたっての暴露の後に、その表面積およびマイクロ細孔体積の少なくとも80％を保持する結晶性物質が開示される。例文帳に追加

There is disclosed a hydrothermally stable microporous crystalline material comprising a molecular sieve or zeolite having an 8-ring pore opening structure, such as SAPO or aluminosilicate zeolite and retaining at least 80% of its surface area and micropore volume after exposure to temperatures of up to 900°C in the presence of up to 10 volume percent water vapor for a time ranging from 1 to 16 hours. - 特許庁

キャリアコア粒子及び該キャリアコア粒子を被覆するコート樹脂で形成されている電子写真用キャリアにおいて、コア表面を完全被覆するに十分な樹脂量をあらかじめコア表面に付着させておき、樹脂の粘度が１０^5Ｐａ・Ｓ以下になる、あるいは硬化性樹脂ならばその硬化する温度以上の雰囲気下に瞬間的に暴露することを特徴とする電子写真用キャリア。例文帳に追加

In the electrophotographic carrier formed with carrier core particles and a coating resin which coats the carrier core particles, a resin enough to thoroughly coat the core surface is previously stuck to the core surface and instantaneously exposed to an atmosphere in which the viscosity of the resin lowers to ≤105 Pa×s or to an atmosphere at the curing temperature of the resin or above in the case where the resin is a curable resin. - 特許庁

ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、あるいはその混合物などの温度８０℃相対湿度８０％雰囲気下で７００時間暴露した後の引張強度保持率が７５％以上の塩基性有機化合物をモノマーあるいは縮合物の形で含んでいるポリベンザゾール繊維を少なくとも一部に用いてなる防刃チョッキ。例文帳に追加

This blade-proof vest is formed using for at least a part the polybenzazole fiber containing a basic organic compound such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine or their mixture whose tensile strength retention after exposed in an atmosphere of temperature 80°C and relative humidity 80% for 700 hours is 75% or more, in the form of a monomer or a condensate. - 特許庁