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dense to sparseとは 意味・読み方・使い方
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dense to sparse
「dense to sparse」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
The processing is applied to the L sparse data and the S dense plus L sparse data in a similar way.例文帳に追加
同様にL疎データ、S密+L疎データに対して処理を行う。 - 特許庁
Halftone processing by a dither method and an error diffusion method compares the separated S components with the separated L components in dot density for each pixel position to generate S sparse data, L sparse data, S sparse plus L dense data, and S dense plus sparse data.例文帳に追加
ディザ法、誤差拡散法によるハーフトーン処理は、分離したS成分、L成分に対して各画素位置ごとにドット密度を比較しS疎データ、L疎データ、S疎+L密データ、S密+L疎データを生成する。 - 特許庁
To reduce banding through control of density fluctuation caused by sparse or dense scanning lines.例文帳に追加
走査線の疎密による濃度変動を抑制してバンディングを低減する。 - 特許庁
To maintain a density of isolated points by reducing banding through control of density fluctuation caused by sparse or dense dots.例文帳に追加
ドットの疎密による濃度変動を抑制してバンディングを低減し、孤立点の濃度を維持する。 - 特許庁
To ensure uniformity of the thickness in film deposition by the dense and sparse pattern of gas introduction holes.例文帳に追加
ガス導入孔の粗密パターンにより成膜の膜厚の均一性をより確保する。 - 特許庁
Metal layers 22 to 26 in metal layers 21 to 27 on the semiconductor laminated body are set to have a triplex structure of dense structure/sparse structure/dense structure.例文帳に追加
半導体積層体上の金属層21〜27のうち、金属層22〜26を密構造/疎構造/密構造の三重構造とした。 - 特許庁
To provide a plasma processing method capable of reducing sparse and dense micro-loading in a pattern where the dense space width is 20 nm or less.例文帳に追加
本発明は、密部スペース幅20nm以下のパターンにおいて、疎密マイクロローディングの低減を可能とするプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
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「dense to sparse」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
First, processing by a dither or error diffusion method is applied to the S sparse data, and then, the processed S sparse data is subtracted from the S sparse plus L dense data.例文帳に追加
まず、S疎データに対してディザ又は誤差拡散法による処理を行い、その後S疎+L密データから処理後のS疎データを減算する。 - 特許庁
To prevent variations in the width of a wiring pattern, depending on whether the neighboring wiring patterns are dense or sparse, even though dense or sparse wiring patterns are formed on a semiconductor device surface.例文帳に追加
半導体装置の表面に形成される配線用パターンの引き回しに粗密が生じても、当該粗密により配線用パターンの幅が異なることがない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of plasma-etching which is free from a difference in dense and sparse shapes which comes out between dense and sparse regions of a mask pattern in processing a device at spacing of 100 nm or less.例文帳に追加
スペース幅が100nm以下になるデバイスの加工で、マスクパターンの疎密領域間の疎密形状差が発生しないプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device capable of using an existing rhythm pattern to generate a rhythm pattern that continuously changes from a sparse state to a dense state.例文帳に追加
既存のリズムパターンを用いて「疎」から「密」に連続的に変化するリズムパターンを生成可能な装置を提供すること。 - 特許庁
dense festoons of greenish-grey hairlike flexuous strands anchored to tree trunks and branches by sparse wiry roots発音を聞く 例文帳に追加
散在する針金状の根によって木の幹と枝に付着している、緑がかった灰色の屈曲性のある毛様繊維の密集した花綱 - 日本語WordNet
To provide a photomask which can ensure high dimensional accuracy both in a sparse part and in a dense part.例文帳に追加
疎部及び密部の両方において高精度に寸法保証することができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a plasma etching method which controls line width variations among sparse and dense wiring portions formed in an etching object layer.例文帳に追加
エッチング対象層に形成される疎密配線部間の線幅ばらつきを小さく抑えることができるプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for improving the lithography technology of a semiconductor device 100 comprising a sparse/dense pattern.例文帳に追加
疎密のパターンを備える半導体デバイス100のリソグラフィー技術を改善する方法を提供する。 - 特許庁
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