REFERENCE DATA GENERATION METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE, PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD, AND REFERENCE DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加

参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム - 特許庁

QUALITY DEFECT DATA REFERENCE SUPPORT APPARATUS IN DESIGNING CIRCUIT BLOCK例文帳に追加

回路ブロック設計における品質不良データ参照支援装置 - 特許庁

A defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image are obtained, difference images between the obtained defect image and the reference image are generated by a control unit included in a defect correction device.例文帳に追加

多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像を取得し、欠陥修正装置が備える制御部により、取得された前記欠陥画像と前記参照画像の差分画像を生成する。 - 特許庁

A defect structure point calculation part 18c calculates a defect structure point for composing the outline of defect formed in the object to be measured on the basis of the reference points and the reference curve.例文帳に追加

欠損構成点算出部１８ｄは、基準点および基準曲線に基づいて、計測対象物に形成された欠損の輪郭を構成する欠損構成点を算出する。 - 特許庁

A defect forming point calculation part 18d calculates a defect forming point forming the contour of the defect formed in the measurement object based on the reference point and the reference curve.例文帳に追加

欠損構成点算出部１８ｄは、基準点および基準曲線に基づいて、計測対象物に形成された欠損の輪郭を構成する欠損構成点を算出する。 - 特許庁

A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image.例文帳に追加

欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。 - 特許庁

A defect-correcting apparatus accumulates in a database many defect correction methods, including those implemented in the past and detects defects, by checking a defect image with captured locations being tested on a wiring board against a defect-free reference image.例文帳に追加

過去に実施された欠陥修正手法を含む複数の欠陥修正手法をデータベースに蓄積し、配線基板の検査対象箇所を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出する。 - 特許庁

A comparison part compares the defect occurrence rate and the reference value in timing wherein the defect is detected by the detection part 110.例文帳に追加

比較部は、検知部１１０により不具合が検知されたタイミングで、不具合発生率と基準値とを比較する。 - 特許庁

The monthly fatal defect density of the reference product is multiplied by a calculated average fatality ratio to calculate the monthly fatal defect density of the yield prediction subject product.例文帳に追加

リファレンス製品の月別致命欠陥密度に平均致命率の比をかけ、予測対象製品の月別致命欠陥密度を算出する。 - 特許庁

As the defect echo length, 22 mm can be obtained from a reference value 25% of the defect echo height determined beforehand by a test piece or the like.例文帳に追加

予めテストピースなどによって定める欠陥エコー高さの基準値２５％から、欠陥エコー長さとして２２ｍｍを得ることができる。 - 特許庁

When a defect is detected, the position of the defect is recorded as a relative position to the reference mark (step S107).例文帳に追加

欠陥が検出された場合、その位置を基準マークからの相対位置として記録する（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

To provide a defective pixel correction technique for calculating a defect judgment reference for detecting a defect precisely, as easily as possible.例文帳に追加

正確な欠陥検出を可能とする欠陥判定基準をできるだけ簡単に算出する欠陥画素修正技術を提供する。 - 特許庁

To make detectable a defect uniformly thicker or thinner than a reference value, a fine change, or a fine defect with high precision.例文帳に追加

基準値に対して一様に太く、または一様に細い欠陥、微小な変化や微小な欠陥でも高精度に検出できるようにする。 - 特許庁

Subsequently, the marker 30 is detected by the mask defect correction device, and the defect 20 is corrected with reference to the position of the marker 30.例文帳に追加

次いで、マスク欠陥修正装置でマーカ３０を検出すると共に、該マーカ３０の位置を基準にして欠陥２０を修正する。 - 特許庁

A control part 2 of the defect detector is provided with a reference mask generating part 200, an inspection mask generating part 201, and a defect detecting part 202.例文帳に追加

欠陥検出装置の制御部２に基準マスク生成部２００、検査マスク生成部２０１、欠陥検出部２０２を設ける。 - 特許庁

The defect inspecting device 21 has an internal defect inspection part 25 for inspecting an internal defect of the blade 1, the first surface defect inspection part 26 for inspecting defects on the first reference plane 3 of the blade 1, and the second surface defect inspection part 27 for inspecting defects on the second reference plane 4 that is orthogonal to the first reference plane 3 of the blade 1.例文帳に追加

そして、欠陥検査装置２１は、ブレード１の内部の欠陥を検査する内部欠陥検査部２５と、ブレード１の第１の基準面３における欠陥を検査する第１の表面欠陥検査部２６と、ブレード１の第１の基準面３に直交する第２の基準面４における欠陥を検査する第２の表面欠陥検査部２７とを有する。 - 特許庁

In the defect detection device 1, a reference image acquired relative to the one swath on a reference die is stored in an image memory 51, and compared with an image to be inspected acquired relative to a swath corresponding to the reference image of a die to be inspected by a defect detection part 52, to thereby detect a defect of the image to be inspected.例文帳に追加

欠陥検出装置１では、基準ダイの１つのスワスについて取得された基準画像が画像メモリ５１に記憶され、被検査ダイの基準画像に対応するスワスについて取得された被検査画像と欠陥検出部５２において比較されて被検査画像の欠陥が検出される。 - 特許庁

Three points of reference patterns 3a, 3b, 3c are formed to surround a defect of a pattern 2.例文帳に追加

パターン２の欠陥を囲むように、３点の参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃを形成する。 - 特許庁

INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR MASK DEFECT, AND METHOD FOR CREATING REFERENCE FOR MASK INSPECTION例文帳に追加

マスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、並びにマスク検査基準作成方法 - 特許庁

To distinguish a faulty disk from a normal disk, with reference to the height or depth of a recessed and protruded defect.例文帳に追加

凹凸欠陥の高さあるいは深さを基準に不良ディスクと正常ディスクとを区別する。 - 特許庁

After that, the value is compared with a reference value to determine a defect in the plasma processing system.例文帳に追加

次いで、値は、プラズマ処理システムにおける欠陥を決定するために基準値と比較される。 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING DEFECT IN MASK, COMPUTER PROGRAM, AND REFERENCE SUBSTRATE例文帳に追加

マスクの欠陥を検出する方法、コンピュータ・プログラム、および参照基板 - 特許庁

This resist-modeled image is compared with a reference image to obtain defect information (206).例文帳に追加

このレジストモデル化画像を基準画像と比較し、欠陥情報を入手する２０６。 - 特許庁

In a device 1 for detecting the defect, a reference image showing a pattern of a die as a reference on the substrate 9 in a reference image inspection circuit 42 is compared with a plurality of selected images showing the patterns of selected dies, and a defect included in the reference image is detected.例文帳に追加

欠陥検出装置１では、基準画像検査回路４２において基板９上の基準とされるダイのパターンを示す基準画像と、それぞれが選択されたダイのパターンを示す複数の選択画像とが比較され、基準画像が有する欠陥が検出される。 - 特許庁

Defect position information including sign information for showing signs combined with the reference home position M and defect coordinate information showing the calculated defect coordinates are generated.例文帳に追加

基準となった原点Ｍと組合せをなす記号を示す記号情報と、算出した欠陥座標を示す欠陥座標情報とを含む欠陥位置情報を生成する。 - 特許庁

A defect inspection apparatus inspects the defect on a module board by comparing the image pattern picked up by an image pickup apparatus 20 with a reference pattern image of a reference module board previously stored.例文帳に追加

画像読取装置２０で読取った画像パターンと予め記憶されている基準モジュール基板の基準パターン画像と比較対照することにより、モジュール基板の欠陥を検査する欠陥検査装置である。 - 特許庁

The determination reference electric current component i_leak serving as a reference of good/ defect determination of the capacitor is extracted from a plurality of the electric current components i_cap, i_line, and i_leak, and a good/defect determination condition is set on the basis of the approximation formula.例文帳に追加

次に、コンデンサの良否判定の基準となる判定基準電流成分ｉ_leakを前記複数の電流成分ｉ_cap、ｉ_line、ｉ_leakから抽出してその良否判定条件を前記近似式に基づいて設定する。 - 特許庁

After the optical image and the reference image of the entire mask 101 are stored, a pattern defect inspection of the mask 101 is conducted by a defect inspection section 124 using the optical image and the reference image of the entire mask.例文帳に追加

マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 - 特許庁

Image data representing a light emission defect part for reference is acquired by a reference defect acquiring means 60 when irradiating an erased radiation image transformation panel 10 from which remaining radiation energy has already been erased with stimulating light Le.例文帳に追加

残存する放射線エネルギが消去された消去済の放射線像変換パネル１０へ励起光Ｌｅを照射したときに、参照欠陥取得手段６０により参照用の発光欠陥部位を表す画像データを取得する。 - 特許庁

A decision reference value Lw for white level defect is generated by adding the difference ΔL between the maximum level Lmax and the minimum level Lmin to the average level Lav and a decision reference value Lb for black level defect is generated by subtracting the difference ΔL between the maximum level Lmax and the minimum level Lmin from the average level Lav.例文帳に追加

最大レベルＬmaxと最小レベルＬminとの差ΔＬを、平均レベルＬavに加算して白欠陥の判定基準値Ｌwを生成し、平均レベルＬavから減算して黒欠陥の判定基準値Ｌbを生成する。 - 特許庁

When user data are recorded after the optical disk is initialized, the defect determination reference used for determination is selected and set from a plurally prepared defect determination references in accordance with the control information for selecting and setting the defect determination reference to determine the existence of the defective sector.例文帳に追加

前記光ディスクを初期化した後ユーザデータを記録する時、前記欠陥セクタの有無を判定するための欠陥判定基準を選択して設定するための制御情報に応じて、複数設ける欠陥判定基準から前記判定に使用する欠陥判定基準を選択して設定する。 - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method for sorting a defect distribution which can accurately sort defect distributions on substrates, even when the positional displacement or size of a defect on a substrate to be inspected is changed with respect to a known defect distribution pattern as a sorting reference.例文帳に追加

分類の基準となる既知の欠陥分布パターンに対して検査対象となる基板上の欠陥の位置ズレや大きさの変化が発生する場合であっても、基板上の欠陥分布を精度良く分類できる欠陥分布分類方法を提供すること。 - 特許庁

A defect image in which the image of the wiring board to be inspected is picked up is collated with a reference image without any defect to detect the defects; the defect correcting method is read and selected from the database based on the position of the detected defect in the wiring board, and the defect is corrected based on the selected defect correcting method.例文帳に追加

そして、検査対象の配線基板を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出し、その検出された欠陥の配線基板内における位置に基づいて、データベースから欠陥修正手法を読み出して選定し、その選定された欠陥修正手法に基づき欠陥の修正を実行することを特徴とする。 - 特許庁

A defect extraction part 205 compares comparison object information acquired by imaging the reference subject after acquiring the reference information with the reference information stored in the storage part 207, and extracts a different portion between both information as defects.例文帳に追加

欠陥抽出部２０５は、基準情報の取得後に基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と、記憶部２０７に保存されている基準情報とを比較し、両者が異なる部分を欠陥として抽出する。 - 特許庁

This method includes a step in which a reinitialization mode is performed while examining the recorder/player by using a disk for test having test reference information and a physical defect and test information is subsequently generated from generated defect management information, and a step in which reference information predicted form the test reference information and the physical defect is compared with the test information and verification results about the test information are provided.例文帳に追加

テスト基準情報と物理的な欠陥を有するテスト用ディスクを使用して記録及び再生装置の検定をしながら再初期化モードを行った後、生成された欠陥管理情報からテスト情報を生成する段階と、テスト基準情報と物理的な欠陥により予測された基準情報とテスト情報とを比較してテスト情報に関する検証結果を提供する段階とを含む。 - 特許庁

In a defect detection processing part 7, the difference in pixel value units, between the inspection object image 6a and the reference image 6b decomposed into space elements, is determined based on the detection gradation threshold set in a defect discrimination condition file 8, and thereby defect is detected.例文帳に追加

欠陥検出処理部７においては、欠陥判別条件ファイル８に設定されている検出諧調閾値を基に、空間要素に分解した被検物体像６ａとリファレンス画像６ｂの画素値単位に相違を求め、欠陥を検出する。 - 特許庁

An image processing/defect detection part 300 receives image data acquired by scanning on a wafer W from an image input part 72, determines whether a defect exists by comparing the image data with reference image data, and outputs defect inspection result data, showing the result to a control part 401 of a PC terminal.例文帳に追加

画像処理／欠陥検出部３００は、ウエハＷ上の走査により得られた画像データを画像入力部７２から受け取り、該画像データを参照画像データと対比して欠陥が存在するか否かを判定し、それを表す欠陥検査結果データをＰＣ端末の制御部４０１に出力する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the inspection of a defect with reference to a film wherein the defect can be inspected quickly and with high accuracy from the film in which fillers such as particles or the like exist and information on the inspection of the defect is recorded or attached so as to be provided as a filmlike product and to provide the filmlike product.例文帳に追加

粒子などのフィラーが存在するフィルムの中から、迅速かつ高精度な欠陥検査を可能にし、該欠陥検査の情報を記録若しくは添付してフィルム状製品として提供するフィルム対する欠陥検査方法とその装置並びにフィルム状製品を提供することにある。 - 特許庁

In the occurrence of the ground-defect, the reference voltage Ea becomes lower than the comparative voltage Eb, inverting the comparator 90.例文帳に追加

地絡が発生したとき、基準電圧Ｅａが比較電圧Ｅｂより低くなり、コンパレータ９０が反転する。 - 特許庁

To provide a reference voltage generating circuit in which defect can be actualized without affecting to operation of an internal circuit in a burn-in acceleration test.例文帳に追加

バーイン加速試験で内部回路の動作に支障を与えず不良を顕在化することができる参照電圧生成回路を提供する。 - 特許庁

REFERENCE CALIBRATION PATCH ARRANGEMENT TO MINIMIZE EXPOSURE AND MEASUREMENT ARTIFACT AND MAXIMIZE ROBUSTNESS TO DEFECT例文帳に追加

露光及び測定アーチファクトを最小にし、欠陥に対する強さを最大にする基準較正パッチ配置 - 特許庁

The inspection device 1 extracts a defect (dirt or chip) from the differences between the reference region image (am) and similar region images (bm).例文帳に追加

検査装置１は基準領域画像ａｍと類似領域画像ｂｍとの差異から、欠陥（汚れ、欠け）を抽出する。 - 特許庁

An image output therein is converted by an A/D converter 15a to be compared with a reference image, and inconsistency is detected as a defect.例文帳に追加

この画像出力をＡ／Ｄ変換器１５ａにより変換して基準画像と比較して不一致を欠陥として検出するものである。 - 特許庁