「"Line Pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

FORMING METHOD OF MICRO LINE PATTERN, AND PHOTOGRAVURE PRINTING MACHINE FOR FORMING MICRO LINE PATTERN例文帳に追加

微細線パターンの形成方法および微細線パターン形成用のグラビア印刷機 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE LINE PATTERN, AND GRAVURE ROTARY PRINTING MACHINE FOR FORMING FINE LINE PATTERN例文帳に追加

微細線パターンの形成方法および微細線パターン形成用のグラビア輪転印刷機 - 特許庁

PARALLEL LINE PATTERN MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

平行線型マスクおよびその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD AND DEVICE FOR HAIR LINE PATTERN例文帳に追加

ヘアラインパターンの作成方法及び作成装置 - 特許庁

Furthermore, the wiring patterns 3a and 3b are connected to a power source line pattern 5a and a ground line pattern 5b.例文帳に追加

さらに、この配線パターン３ａ，３ｂを電源線パターン５ａ、接地線パターン５ｂに接続する。 - 特許庁

a kind of pottery called "brush-line pattern pottery" 例文帳に追加

擦文式土器という,擦文を施した土器 - EDR日英対訳辞書

PROCESSING METHOD FOR LINE PATTERN USING CONVOLUTION KERNEL, PROCESSOR FOR LINE PATTERN, AND MEDIUM STORED WITH PROGRAM FOR EXECUTING THE PROCESSING METHOD FOR LINE PATTERN例文帳に追加

コンボリューションカーネルを利用したラインパターンの処理方法、ラインパターンの処理装置及びラインパターンの処理方法を実行するためのプログラムを記録した媒体 - 特許庁

STRAIGHT LINE PATTERN IDENTIFICATION METHOD AND DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加

直線パターン識別方法及び装置及びプログラム - 特許庁

A line pattern image LP1" and a line pattern image LP3' are formed while intersecting each other on a wafer by double exposure, and a line pattern image LP2" and a line pattern image LP4' are formed while intersecting each other.例文帳に追加

二重露光により、ウエハ上に、ラインパターンの像ＬＰ１”とラインパターンの像とＬＰ３’が交差した状態で形成するとともに、ラインパターンの像ＬＰ２”とラインパターンの像ＬＰ４’とが交差した状態で形成される。 - 特許庁

The positional relationship between the overlapped portion M1' of the line pattern image LP1" and the line pattern image LP3' and the overlapped portion M2' of the line pattern image LP2" and the line pattern image LP4' is measured after developing the wafer.例文帳に追加

そして、ラインパターンの像ＬＰ１”とラインパターンの像とＬＰ３’との重なり部分Ｍ１’と、ラインパターンの像ＬＰ２”とラインパターンの像ＬＰ４’との重なり部分Ｍ２’との位置関係が、ウエハの現像後に計測される。 - 特許庁

a wavy-line pattern on the paper used for bills and securities 例文帳に追加

紙幣や証券類の地模様としての波状線 - EDR日英対訳辞書

In the line pattern structure and the method for forming the same, the line pattern structure comprises at least a first line pattern having a linear shape including a cut-off part.例文帳に追加

ラインパターン構造物及びその形成方法において、ラインパターン構造物は切断部位を含むライン形状を有する少なくとも１つの第１ラインパターンを含む。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming device for forming a finger line pattern 73 into a thick film and preventing the surface of a bus line pattern 71 on the intersection part of the finger line pattern 73 from becoming rugged when applying and forming the finger line pattern 73 which intersects the bus line pattern 71 formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されたバス配線パターン７１に交差するフィンガー配線パターン７３を塗布形成する際に、フィンガー配線パターン７３を厚膜に形成することができるとともに、その交差部におけるバス配線パターン７１の表面が凸凹になることを抑制する。 - 特許庁

Drawing is started from a middle part, not from the end part of the line pattern when drawing the line pattern on a substrate.例文帳に追加

線状パターンを基板に描画する際に、線状パターンの端部ではなく、中間部から描画を開始する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD AND DEVICE FOR BRUSH TYPE HAIR LINE PATTERN例文帳に追加

刷毛目調ヘアラインパターンの作成方法及び作成装置 - 特許庁

The line pattern structure comprises an extending line adjacent to the first line pattern positioned in an outermost and parallel with the first line pattern; and a second line pattern having at least one projection pattern projecting from the extending line toward the first line patten in a region adjacent to the cut-off part of the first line pattern.例文帳に追加

最外郭に位置する前記第１ラインパターンと隣り合って前記第１ラインパターンと平行した延在ラインと、前記第１ラインパターンの切断部位と隣接する領域で前記第１ラインパターン方向へ向かうように前記延在ラインから突出された少なくとも１つの突出パターンを含む２つの第２ラインパターンを含む。 - 特許庁

BANDED PATTERN EXTRACTION SYSTEM AND LINE PATTERN EXTRACTION METHOD例文帳に追加

縞状パターン抽出システムおよび縞状パターン抽出方法 - 特許庁

An interpolation pattern prediction section 120 predicts an interpolation direction and an interpolation distance of each image line pattern from the information of the image line pattern.例文帳に追加

補間パターン予測部１２０において、画像ラインパターンの情報から各画像ラインパターンの補間方向、補間距離を予測する。 - 特許庁

An n+ base layer 15 has a line pattern extending in the X direction.例文帳に追加

ｎ^＋ベース層１５をＸ方向に延びるラインパターンとする。 - 特許庁

The photomask layout pattern includes an H-shaped pattern having a first line pattern, a second line pattern provided parallel to the first line pattern, and a central zone connecting the first and second line patterns.例文帳に追加

フォトマスクレイアウトパターンは、第一ラインパターンと、第一ラインパターンと平行に設けられている第二ラインパターンと、第一ラインパターンと第二ラインパターンを接続する中間領域とを含むＨ字型パターンを有する。 - 特許庁

The mask size checking mark 3 includes a line pattern 4 having a line width equal to that of the product pattern and a reference pattern 5 disposed next to the line pattern 4 and having a larger width than the line pattern 4.例文帳に追加

マスク寸法検査マーク３は、製品パターンの線幅と等しい線幅のラインパターン４と、このラインパターン４に隣接して配置されラインパターン４よりも幅が広い基準パターン５とを含んでいる。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING LEAD LINE PATTERN FOR VOLTAGE DISCRIMINATION, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

電圧識別用導線パターンの形成方法および表示装置 - 特許庁

The pitch of the line pattern is integer times as much as the pitch of the dots.例文帳に追加

そして、万線パターンのピッチはドットのピッチの整数倍である。 - 特許庁

Each line pattern in the line pattern parallel running section includes line terminating sections 414 which are identical in width and substantially flush with each other.例文帳に追加

ラインパターン並走部の各ラインパターンは、同一の幅を有すると共に、互いに実質的に面一なライン終端部４１４を有する。 - 特許庁

It is preferred to change a distance between the pattern 3' corresponding to the line pattern 3 and the auxiliary line patterns 4 in accordance with a line width of the line pattern 3.例文帳に追加

ラインパターン３の線幅に応じて、ラインパターン３に対応するパターン３’と補助ラインパターン４との距離を変えることが好ましい。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and device for a brush type hair line pattern which automatically make a clear brush type hair line pattern stably and to easily manufacture a design with variation.例文帳に追加

安定して鮮明な刷毛目調ヘアラインパターンを、自動的に作成すると共に、バリエーションのあるデザインの制作を容易とする。 - 特許庁

The photomask has a glass substrate 10, an isolated line pattern 11c and a dense line pattern 11a, 11b disposed on the substrate 10 and a photochromic material film 12 formed on the entire surfaces of the isolated line pattern 11c, the dense line pattern 11a, 11b and the substrate 10.例文帳に追加

本発明のフォトマスクは、ガラス基板１０と、該基板１０の上に配置された孤立ラインパターン１１ｃ及び密集ラインパターン１１ａ，１１ｂと、該孤立ラインパターン１１ｃ、該密集ラインパターン１１ａ，１１ｂ及び該基板１０の全面上に形成されたフォトクロミック材料膜１２と、を具備するものである。 - 特許庁

A ground electrode 3 is formed on the lower face of a dielectric board 1, a line pattern 21 of a multiple spiral shape is formed on the upper face, and a radial line pattern 22 is formed on the line pattern 21 via an insulation layer 5.例文帳に追加

誘電体基板１の下面にグランド電極３を形成し、上面に多重スパイラル状の線路パターン２１を形成し、さらに絶縁層５を介してその表面に放射状の線路パターン２２を形成する。 - 特許庁

The line width W1 of the thick-line pattern 2c is within a range of P1×(n±0.25), where P1 is the pitch of the line pattern 2a and (n) is an integer.例文帳に追加

ラインパターン２ａのピッチをＰ１とし、ｎを整数としたとき、太線パターン２ｃの線幅Ｗ１は、Ｐ１×（ｎ±０．２５）の範囲内にある。 - 特許庁

The inner wall of the cap 1 is metallized and the line pattern 3 is formed.例文帳に追加

キャップ１の内壁をメタライズした後、線路パターン３を形成する。 - 特許庁

It is determined whether to divide a dashed line pattern 70 into a plurality of sub-dashed line patterns 106 and 114 based on the shape of the dashed line pattern 70.例文帳に追加

破線パターン７０の形状に基づいて、破線パターン７０を複数のサブ破線パターン１０６、１１４に分割するか否かを判別する。 - 特許庁

A toner mark transfer part 101 transfers a halftone pattern such as a horizontal line pattern or an oblique line pattern on a belt by plural electrostatic recording units 24.例文帳に追加

トナーマーク転写部１０１は複数の静電記録ユニット２４によりベルト上に横線パターンや斜線パターン等のハーフトーンパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a line drawing method which prevents an end part from thickening when drawing a line pattern.例文帳に追加

線状パターンを描画する際に、端部が太くなることを防止する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF WIRING BOARD HAVING EXTRA-FINE LINE PATTERN, AND THE WIRING BOARD例文帳に追加

極細線パターンを有する配線基板の製造方法および配線基板 - 特許庁

ULTRASONIC PROBE, BACKING MATERIAL FOR FORMING SIGNAL LINE PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

超音波プローブ、信号線パターン形成バッキング材およびその製造方法 - 特許庁

A pattern (2) is made up of a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from the LD0 and a horizontal line pattern 30 drawn by a light beam from the LD1.例文帳に追加

パターン（２）はＬＤ０からのビームで描く傾き４５°の斜め線パターン３１と、ＬＤ１からのビームで描く水平線パターン３０からなる。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus that securely decides a line pattern of a highlight part as a pattern area by increasing the detection precision of the line pattern of the highlight part.例文帳に追加

ハイライト部の万線パターンの検出精度を高め、ハイライト部の万線パターンを確実に絵柄領域と判定する画像処理装置を提供する。 - 特許庁

As the patterns which are visible through the pattern display window 72 when the rotation of each rotary reel 40 is stopped, there are an on-line pattern 90 positioned on a prize-winning line 80 and an out-of-upper-line pattern 91 which is positioned on the upside of the on-line pattern 90.例文帳に追加

各回転リール40の回転が停止した際に図柄表示窓72を通して視認可能な図柄には、入賞ライン80上に位置するライン上図柄90と、ライン上図柄90の上側に位置する上ライン外図柄91とがある。 - 特許庁

Furthermore, a bit line pattern 13B provided with projections and connected to the memory cells is provided, separating from the bit line pattern 13A by a prescribed space on the same wiring layer with the bit line pattern 13A.例文帳に追加

さらに、ビット線パターン１３Ａと同じ配線層には、メモリセルに接続され、ビット線パターン１３Ａが有する凹凸形状に沿って所定の間隔を保持するように凹凸形状を有する／ビット線パターン１３Ｂが形成されている。 - 特許庁

A line pattern is printed by quadrupole illumination for a dipole illumination mode.例文帳に追加

二重極照明モードの代わりに四重極照明でラインパターンをプリントする。 - 特許庁

ELECTRONIC APPARATUS WITH CASE EMBEDDED WITH TRANSMISSION LINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法 - 特許庁

To provide a technique of prevention of duplication effective also for a straight-line pattern.例文帳に追加

直線模様についても有効な複写防止の技術を提供すること。 - 特許庁

A plurality of line patterns 26A to 26C dividing an area enclosed by the innermost line pattern 26I are connected to the innermost line pattern 26I of the coil 25.例文帳に追加

アンテナコイル２５の最内周の線パターン２６Ｉには、最内周の線パターン２６Ｉが取り巻く領域を分割する複数の線パターン２６Ａ〜２６Ｃが接続されている。 - 特許庁

A plurality of line patterns 26A to 26C dividing an area enclosed by the innermost line pattern 26I are connected to the innermost line pattern 26I of the coil 25.例文帳に追加

アンテナコイル２５の最内周の線パターン２６Ｉには、最内周の線パターン２６Ｉが囲む領域を分割する複数の線パターン２６Ａ〜２６Ｃが接続されている。 - 特許庁

The printer controller separates image data into a line pattern section and a nonline pattern section by a line pattern discriminating function (processing 302), when a high gloss mode is selected as the fixing mode.例文帳に追加

プリンタコントローラは、定着モードとして「高グロスモード」を選択した場合、ラインパターン判別機能（処理３０２）によって画像データをラインパターン部と非ラインパターン部とに分離する。 - 特許庁