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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "Line Pattern"に関連した英語例文

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"Line Pattern"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 399件



例文

To provide a pattern forming method of a photosensitive material capable of forming a thin line pattern with adhesion in short exposure time.例文帳に追加

密着性を有する細線パターンを、短い露光時間で形成することができる感光性材料のパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The signal line pattern 67 is a non-linear pattern and is laid by avoiding an area 91 where laying signal pattern should be avoided.例文帳に追加

信号線パターン67は、非直線状パターンであって、信号線パターン敷設回避区域91を避けて迂回するように敷設される。 - 特許庁

The document format is identified by performing filtering for weakening the feature in the prescribed part of the inputted document information (1), extracting the featured values of the input ruled line pattern from filtered input document information (2) and comparing the featured values of the input ruled line pattern with the pre-registered format information featured values so as to decide the format of the input ruled line pattern (3).例文帳に追加

帳票フォーマットの識別は、(1)入力された帳票情報の所定部分に、特徴を弱めるフィルタリングを実行し、(2)前記フィルタリングを行った入力帳票情報から入力罫線パターンの特徴量を抽出し、(3)入力罫線パターンの特徴量を、予め登録されているフォーマット情報の特徴量と比較することにより、入力罫線パターンのフォーマットを決定することにより行う。 - 特許庁

By employing a line pattern and a space pattern as the resist pattern for measuring a focus value, the direction of the focus deviation can also be found.例文帳に追加

フォーカス測定用レジストパターンとして、ラインパターンとスペースパターンとを採用することにより、フォーカスずれの方向も求めることができる。 - 特許庁

例文

To provide an exposure method by which the best focus of an isolated line pattern can be measured for a short time, and to provide a correcting method of lens aberration.例文帳に追加

短時間に、孤立線パターンのベスト・フォーカスを測定することができる露光方法およびレンズ収差補正方法を提供する。 - 特許庁


例文

Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.例文帳に追加

ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの2種類を用いるようにする。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a fine line pattern at a relatively low cost and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

比較的低コストで微細なラインパターンを形成することが可能な位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of drawing resist patterns, where the surface pattern of a large area and a fine line pattern are mixed, and stably in a short time.例文帳に追加

大面積の面パターンと微細な線パターンが混在したレジストパターンを短時間に安定して描画する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of forming a line pattern having a narrower line width than a resolution limit of an exposure device.例文帳に追加

露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

A fourth mask layer is formed on the first mask layer, and the first mask layer is formed in a line pattern shape with the fourth mask layer as a mask.例文帳に追加

第1マスク層上に第4マスク層を形成し、第4マスク層をマスクにして第1マスク層をラインパターン形状に成形する。 - 特許庁

例文

This manufacturing method is provided with a process to form a positive electrode having a line pattern on a substrate, a process to form an organic EL luminescent layer on the substrate having the positive electrode formed on it, and a process to form a negative electrode having a line pattern extending perpendicularly to the line pattern of the positive electrode on the organic EL luminescent layer.例文帳に追加

基板上にラインパターンを有する陽極を形成する工程と、陽極を形成した前記基板上に有機EL発光層を形成する工程と、マスクとして複数本の耐熱性金属のワイヤを用いて、有機EL発光層上に陽極のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する陰極を形成する工程とを具えたことを特徴とする有機EL素子の作製方法。 - 特許庁

A ground line pattern 46 is connected to an external ground potential through a via hole and connects the two ground terminals 16 and 18 to each other.例文帳に追加

接地ランドパターン46は、ビアホールを介して外部の接地電位に接続され、かつ2つの接地端子16、18間を接続する。 - 特許庁

A multilayer printed wiring board of strip structure is equipped with dielectric bodies 2 and 3 which are located above and below a signal line pattern 1 and asymmetrical to each other in thickness.例文帳に追加

信号線パターンの上下に位置する誘電体の厚みが非対称であるストリップ構造の多層プリント配線板に関する。 - 特許庁

An end of the first extended portion 30 of the current blocking layer 32 terminates at a position closer to a central side without reaching the outer fine-line pattern 37, and the second extended portion 31 of the current blocking layer 32 is extendedly formed up to a lower portion of the conductor of the outer fine-line pattern 37.例文帳に追加

そして、前記電流阻止層の第1の延長部30は、前記電極層の外郭細線パターン37よりも中央側において終端し、前記電流阻止層の第2の延長部31は、前記電極層の外郭細線パターン37導体下部にまで延長形成されている。 - 特許庁

The radial line pattern 22 approaching the line pattern 21 of the multiple spiral shape of the multiple spiral resonator acts like adding a static capacitance to the multiple spiral resonator to reduce the occupied area of the resonator on the board and to enhance the loss reduction effect.例文帳に追加

この多重スパイラル状線路による多重スパイラル共振器に対する放射状線路パターン22の近接によって、多重スパイラル共振器に静電容量が付加されたように作用し、基板上の共振器の占有面積の縮小化および損失低減効果の向上が図れる。 - 特許庁

The line pattern 8 is detected through the slit 157 having an aperture 157a parallel with a main scanning direction, whereby errors in detection timing of the line pattern 8 associated with the variation (caused by vibration or temperature change or the like) of the attaching position of the photosensor 12 are drastically decreased.例文帳に追加

ラインパターン8の検出を、主走査方向に平行な開口部157aを持つスリット157を通して行うことにより、光センサ12の取り付け位置の変動(振動や温度変化等による)に伴うラインパターン8の検出タイミング誤差を大幅に低減することができる。 - 特許庁

A pair of line pattern parts 4-1 having the open terminals 4A and 4B are mutually oppositely extended such that a base part to connect the adjacent line pattern part 4-2 is proximate to the reference line Rx and the open terminals 4A and 4B are located away from the reference line Rx.例文帳に追加

開放端4A、4Bを有する一対の線路パターン部4−1は、隣接する線路パターン部4−2が連結される基部が基準線Rxに近接し、開放端4A、4Bが基準線Rxから離間して配置されるように互いに反対方向に延出されている。 - 特許庁

The light-shielding pattern 7 (or 5), the mesh pattern 4 (or 2) having electromagnetic wave shielding function and the display electrode 15 are formed as a fine-line pattern formed of conductive thin film or a plating lamination pattern made by laminating a plating layer on the fine-line pattern formed of the conductive thin film.例文帳に追加

遮光パターン7(または5)、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン4(または2)、及び表示電極15は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンである。 - 特許庁

The nanocarbon material compound substrate includes the substrate, a three-dimensional structure line pattern including recessed parts and protruding parts formed on the substrate and the nanocarbon material formed on the surface of the substrate on which the three-dimensional structure line pattern is formed.例文帳に追加

本発明は、基板と、前記基板上に形成された凹部および凸部よりなる3次元構造ラインパターンと、前記3次元構造ラインパターンが形成された前記基板の表面に形成されたナノ炭素材料と、を備えることを特徴とするナノ炭素材料複合基板である。 - 特許庁

After a member to be patterned is formed on a semiconductor substrate, the member to be patterned is patterned to form a plurality of line patterns in parallel, and dummy patterns are formed from the end of the line pattern in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the line pattern at predetermined intervals.例文帳に追加

半導体基板上に被パターニング部材を形成した後に、被パターニング部材をパターニングして、複数のライン状のパターンを並列に形成するとともにライン状のパターンの端部から所定間隔をもってライン状のパターンの長手方向と垂直な方向にダミーパターンを形成する。 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR STORING FUNCTIONAL LIQUID DEVICE AND METHOD FOR FORMING INTERCONNECT LINE PATTERN, WIRING BOARD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

機能液保管装置、機能液保管方法、配線パターン形成装置、配線パターン形成方法、配線基板、電気光学装置および電子機器 - 特許庁

The line terminating section equalizing dummy pattern 420 includes a plurality of line-like patterns which are identical in width and formed at equal intervals as the line pattern.例文帳に追加

ライン終端部均一化ダミーパターン420は、ラインパターンと同一幅で且つ同一間隔に形成された複数のライン状のパターンを含む。 - 特許庁

A test pattern (line pattern) on a recording medium is read (S80), and a corresponding position of the test pattern is acquired by a pixel unit of reading pixel pitch (S82).例文帳に追加

記録媒体上のテストパターン(ラインパターン)を読み取り(S80)、読取画素ピッチの画素単位でテストパターンの対応位置を取得する(S82)。 - 特許庁

The feature appropriate to the target pixel is discriminated to be a complicated pattern, a longitudinal line pattern, a flat pattern, or a corner pattern or the like on the basis of the resulting value.例文帳に追加

これらの結果値に基づき注目画素のあるべき特徴を、複雑な絵柄,縦線絵柄,フラット絵柄,角の絵柄などと判定する。 - 特許庁

Thereafter, when combining the line pattern decided in each the line, it is decided whether a combination pattern thereof corresponds to the prescribed pattern or not.例文帳に追加

その後、ライン毎に判定されたラインパターンを組み合わせた場合に、その組合せパターンが、所定のパターンに相当するかどうかを判定する。 - 特許庁

To provide an inkjet image-drawing method and an inkjet image-drawing apparatus, capable of drawing a highly accurate line pattern with a few scanning numbers in a short time.例文帳に追加

少ない走査数にて短時間に高精度な線パターンを描画できるインクジェット描画方法およびインクジェット描画装置を提供する。 - 特許庁

On the printed-circuit board 44, a line pattern 46 which is connected to an external conductor of the coaxial connector 40 and extends to the outside is formed.例文帳に追加

プリント配線基板44には、同軸コネクタ40の外部導体に接続されて外方向に延びる線状パターン46を形成しておく。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity, high resolution and excellent edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、ラインパターンのエッジラフネスが優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

Thereafter, surface roughness is moderated in the tangsten film by CMP, and a bit line pattern 103 is formed of low-resistance tangsten by an etching process.例文帳に追加

この後、CMPによりタングステン膜の表面粗さを緩和し、エッチングにより低抵抗タングステンからなるビットラインパターン103を形成する。 - 特許庁

The bend region 204b is constituted of a laminate structure including the base layer 300, the signal line pattern layer 310, and the first shield layer 330.例文帳に追加

屈曲領域204bは、ベース層300と、信号線パターン層310と、第1シールド層330とを含む積層構造により構成する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board and an element mounting apparatus that rarely causes a crack in a signal line pattern around a corner section and has excellent reliability.例文帳に追加

コーナー部周辺の信号線パターンにクラックが起こりにくく、信頼性に優れた多層配線基板及び素子搭載装置を提供すること。 - 特許庁

Four sidewalls of the quantum dot 21 and a sidewall of the line pattern 29 in a direction parallel to the bit line are covered with a thermally oxidized film 33.例文帳に追加

量子ドット21の4つの側壁と、ラインパターン29のビット線に平行な方向における側壁は、熱酸化膜33で覆われている。 - 特許庁

Therefore the line pattern can be formed by the simple operation, quickly and advantageously in cost, and this is suitable for the small-lot production of a wide variety of products.例文帳に追加

このため、簡単な操作で迅速かつコスト的に有利に線模様を形成することができて多品種少量生産に好適となる。 - 特許庁

To provide a printed circuit board improving the connection reliability of a pad portion formed in a terminal portion of an electronic component mounted in a substrate and a part of an interconnect line pattern.例文帳に追加

基板実装される電子部品の端子部と配線パターンの一部に形成されるパッド部の接続信頼性を向上させたプリント基板を提供する。 - 特許庁

The copper foil film 2b that is a grounding-line pattern is provided in a connector inserting portion 20, and the base film 1 is exposed in a portion adjacent to the connector inserting portion 20.例文帳に追加

コネクタ挿入部20に接地線パターンである銅箔膜2bを設け、コネクタ挿入部20に隣接する部分ではベースフィルム1を露出させている。 - 特許庁

Memory cells, which store data are provided, and a bit line pattern 13A provided with projections and connected to the memory cells is formed.例文帳に追加

情報を記憶する複数のメモリセルが形成され、配線層にはメモリセルに接続され凹凸形状を有するビット線パターン13Aが形成されている。 - 特許庁

A plurality of p+ collector layers 16 and p+ emitter layers 17 are provided in a line pattern extending in the Y direction orthogonal to the X direction between the n+ base layers 15.例文帳に追加

n^+ベース層15の間に、X方向に直交するY方向に延びるラインパターンのp^+コレクタ層16及びp^+エミッタ層17を、複数設ける。 - 特許庁

Whether mask pattern data are right or not is verified by comparing the L/S obtained by measuring a dimension in each line pattern group with a L/S pattern specification table.例文帳に追加

各線パターン集合を測長して得られるL/Sと、L/Sパターン仕様テーブルと、を比較することによって、マスクパターンデータが正しいかどうかを検証する。 - 特許庁

The resist pattern measuring method measures the true resist pattern with a shrinkage taken into consideration, after determining correctly the line pattern/space pattern, based on the shrinkage amount.例文帳に追加

このシュリンク量により、レジストパターンのLine/Spaceを正しく判別した上でシュリンクを考慮した真の寸法を測定することが可能となる。 - 特許庁

To provide a technology capable of specifying the position of a line pattern with higher accuracy (accuracy of a unit less than one pixel of a reading image pitch) than an image reading resolution.例文帳に追加

ラインパターンの位置を、画像読取解像度よりも高い精度(読取画像ピッチの1画素未満単位の精度)で特定することができる技術を提供する。 - 特許庁

The translucent electromagnetic-wave shielding film for a touch panel of a liquid-crystal display device keeps a thin-line pattern, made of a conductive metal including developed silver carried a support.例文帳に追加

支持体上に、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンを有する液晶表示装置用タッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。 - 特許庁

A second power line pattern 44 connects the output terminal 14 of the transmission line type noise filter 10 to the power terminal 32 of the microprocessor 30.例文帳に追加

第2電源ラインパターン44は、伝送線路型ノイズフィルタ10の信号出力端子14をマイクロプロセッサ30の電源端子32に接続する。 - 特許庁

Then, the difference of density line width is corrected by changing only the line width of the image of the isolated line pattern Pa, without changing the line width of the image of the L/S pattern Pb.例文帳に追加

そして、L/SパターンPbの像の線幅を変化させることなく、孤立線パターンPaの像の線幅のみを変化させて、疎密線幅差を補正する。 - 特許庁

To output an image excellent in color moire by the combination of dither matrices different from the conventional one by using dither of a fine parallel line pattern in all the four colors YMCK.例文帳に追加

YCMK4色全てにおいて万線ディザを使用し、従来とは異なるディザマトリクスの組み合わせによって色モアレが良好な画像を出力する。 - 特許庁

Each cell image obtained by photographing cells cultured in a cell culture dish equipped with a fixed line pattern with changing time is prepared.例文帳に追加

所定のラインパターンを設けた細胞培養ディッシュ内で培養された細胞を時間を変化させて撮影することにより得られた各細胞画像を用意しておく。 - 特許庁

To obtain a variable rectangular electron beam exposure apparatus capable of highly finely conducting exposure with respect to a predetermined fine line pattern having an arbitrary angle in the pattern region.例文帳に追加

任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁

To provide a heating line pattern structure for decreasing the effect of the heating lines of a defogger on an antenna for a TV broadcast especially for a digital TV broadcast installed on a rear glass.例文帳に追加

リアガラスに設置したTV用のアンテナ、特にデジタルTV用のアンテナに対し、デフォッガの熱線の影響を軽減するような熱線の構造を提供する。 - 特許庁

The image forming body with the hologram has a hologram forming layer and a line pattern forming layer having a concealed pattern constituted of lines.例文帳に追加

ホログラム形成層と、万線で隠しパターンが構成された万線パターン形成層とを具備することを特徴とするホログラム付き画像形成体である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

例文

Thus, since a contour part of the halftone dots or the line pattern corresponding to the secondary gray data becomes fine irregular points, the reduced moire is eliminated.例文帳に追加

これにより、2次グレーデータに対応する網点もしくは万線の輪郭部が微細な不規則点となるので、縮小モアレを除去することができる。 - 特許庁




  
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