「"Line Pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The coil device 10 comprises a power supply line pattern 12 formed on the circuit board 14 and the core member 16 engaged with the end surface 22 of the circuit board 14, and is provided with a pair of upper and lower core legs 17a, 17b for holding the power supply line pattern 12 on the circuit board 14 from the upper and lower sides.例文帳に追加

このコイル装置１０は、回路基板１４上に形成されている電源ラインパターン１２と、回路基板１４の端面２２に係合すると共に、回路基板１４上の電源ラインパターン１２を上下から挟み込んでいる上下一対のコア足部１７ａ、１７ｂを備えるコア部材１６と、を有する。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition superior in sensitivity and resolution, showing small optical proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern, even in the case of an isolated line pattern, capable of ensuring sufficient focus margin for an isolated line pattern, and useful as a chemically amplified resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、化学増幅型レジストとして有用なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a business form processor capable of improving the identifying performance of the business form format even if the image data excluding an overall business form in the business form processor for extracting a ruled line pattern from the image data of a business form having a ruled line, and for identifying a business form format based on the extracted ruled line pattern.例文帳に追加

罫線を有する帳票のイメージデータから罫線パタンを抽出し、抽出した罫線パタンに基づいて帳票形式を識別する帳票処理装置において、帳票の全体が含まれないイメージデータであっても帳票形式の識別性能を向上し得る帳票処理装置を提供する。 - 特許庁

To form an isolated line pattern with high controllability by using a multiple resist layer having a two-layer structure with a LOF (lift-off) layer left in the lower part of the resist in the method for forming a fine resist pattern.例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法に関し、ＬＯＦ層をレジスト下部に残した２層構造の積層レジスト層を用いて、孤立ラインパターンを制御性良く形成する。 - 特許庁

Subsequently, in a second process, a straight line pattern in the transverse direction in the entire grid-shape pattern is plotted with a low printing frequency of 100 Hz or less, for example.例文帳に追加

次いで、第２の工程において、格子状パターンの全体における短手方向の直線パターンを、例えば１００Ｈｚ以下の低い印字周波数により描画する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plastic automobile component having a hair line pattern, chrome plated tone metallic feeling, high weather resistance and excellent designability.例文帳に追加

ヘアライン模様を有し、クロムメッキ調の金属感を有し且つ耐候性を有する意匠性に優れたプラスチック自動車部品を製造することができる方法を提供すること。 - 特許庁

Four corners of a rectangular shot 1 are provided with measurement mark regions 13, 14, 15, 16 each having a line pattern extending parallel to the directions of two adjacent sides constituting the shot.例文帳に追加

矩形のショット１の四隅に、ショットを構成する隣接する２辺と平行な方向沿って伸びるラインパターンを備えた測定マーク領域１３、１４、１５、１６を配置する。 - 特許庁

A signal line pattern 15a is tapered from width dimensions W of a signal line 14a and is terminated (with width dimensions (w)) before reaching the end.例文帳に追加

信号線路パターン１５ａは、信号線路１４ａの幅寸法Ｗに対してテーパ状に狭くなる形状で、端部に至る手前で（幅寸法ｗ）で終端される。 - 特許庁

To form a minute isolated line pattern by a narrowed sectional structure, in which a lower layer part is narrowed than an upper layer resist, with good controllability, in the forming method of a minute resist pattern.例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法に関し、上層レジストよりも狭くした下層部となるクビレ断面構造で、微細な孤立ラインパターンを制御性良く形成する。 - 特許庁

To form a barrier of desired line pattern without making defects at the vicinity of the end portion in forming a barrier by sandblast method.例文帳に追加

サンドブラスト法により障壁を形成するに際して、端部付近に欠陥を生じることなく、所望のラインパターンの障壁を形成することができるようにすること。 - 特許庁

In the flexible wiring board 36, the GND pattern 38 is branched to a signal line pattern 37, and the flexible wiring board itself is housed in the housing 10 while it is folded.例文帳に追加

フレキシブル配線基板３６は、信号線パターン部３７に対してＧＮＤ線パターン部３８が分岐して設けられ、折り畳まれた状態でハウジング１０内に収納される。 - 特許庁

The laser oscillator has a substrate and a line pattern, which is placed on the substrate, and in which a +trivalent asymmetric type rare-earth ion complex is introduced into at least either of a transparent resin, a transparent inorganic material, and a transparent organic-inorganic hybrid material.例文帳に追加

この性質を利用して、＋３価のランタノイドイオン錯体を含有する組成物を使用した有機レーザーを作製することができると考えられる。 - 特許庁

The conductive functional layer 16 has a thin line pattern 20 (a metal silver portion) and a light transmissive portion 22 (e.g., gelatin) formed by exposing and developing a silver halide emulsion layer 18.例文帳に追加

導電性機能層１６は、ハロゲン化銀塩乳剤層１８を露光・現像して形成された細線パターン２０（金属銀部）と光透過部２２（例えばゼラチン）とを有する。 - 特許庁

To provide a pattern measurement device and a pattern measurement method that easily discriminate between a line pattern and a space pattern without being affected by luminance of a pattern.例文帳に追加

パターンの輝度の影響を受けることなく、ラインパターンとスペースパターンを容易に識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a color image processor that eliminates trade-offs between smoothing of a structure of dots and a fine parallel line pattern or the like and storage of edges by characters and photograph or the like, to form a color image with high quality.例文帳に追加

網点や万線パターン等の構造の平滑化と文字や写真等によるエッジの保持との間のトレードオフを解消して良質なカラー画像を形成する。 - 特許庁

The measurement pattern consists of a line pattern of which shape changes when the focus shifts to the positive side and a space pattern of which shape changes when the focus shifts to the negative side.例文帳に追加

この測定パターンはフォーカスがプラス側にシフトしたときに形状が変化するラインパターンと、フォーカスがマイナス側にシフトしたときに形状が変化するスペースパターンからなる。 - 特許庁

To provide a tire vulcanizing mold constituted so as to efficiently heat the groove line pattern parts of a green tire to shorten the vulcanizing time of the green tire while keeping the quality of a tire.例文帳に追加

生タイヤの溝条パタン部分を効率良く加熱し、タイヤの品質を維持しながら加硫時間の短縮を図ることができるタイヤ加硫用モールドを供する。 - 特許庁

The width of the transmission line pattern 108 around the connection pin 114 of the transmission line connector 106 is gradually changed toward the connection pin 114.例文帳に追加

伝送線路接続用コネクタ１０６の接続ピン１１４付近の伝送線路パターン１０８の幅は、接続ピン１１４に向かうに従って漸次的に変化している。 - 特許庁

A transfer sheet S has a transfer layer 4 formed by laminating a peeling layer 2 and a decorative layer 3 on a support sheet 1, and the releasing layer 2 is made a net-shaped crossing fine line pattern.例文帳に追加

転写シートＳは、支持体シート１上に、剥離層２と装飾層３を積層してなる転写層４を有し、剥離層を網状の交差する細線パターンにする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power, ensuring low edge roughness of a line pattern and nearly free of development defects in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A wide bandwidth attenuation circuit 100 is configured by arranging a resistance portion 110 having a plurality of chip resistors 111 between a line pattern 101 and a ground pattern 102.例文帳に追加

広帯域減衰回路１００は、線路パターン１０１とグラウンドパターン１０２との間に、複数のチップ抵抗器１１１を有する抵抗部１１０を配置した構成としている。 - 特許庁

To provide a laser device which outputs an elliptical pattern (including oval) of a laser beam, especially a green line pattern of a laser beam and furthermore is reduced in size.例文帳に追加

出力するレーザー光を楕円（長円を含む）パターン、とくに、グリーンラインパターンのレーザ光が出力でき、しかも小型化が可能なレーザ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To obtain a positive photoresist composition having high revolving power, giving a rectangular photoresist and ensuring low edge roughness of a line pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少ないポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

A hard mask spacer layer and a hard mask layer are formed on an MTJ element, and a first parallel line pattern (first photoresist film) of a first size width is formed on the hard mask layer.例文帳に追加

ＭＴＪ素子上に、ハードマスクスペーサ層およびハードマスク層を形成し、ハードマスク層上に第１サイズの幅の第１平行ラインパターン（第１フォトレジスト膜）を形成する。 - 特許庁

In the board, since the thickness of the solid pattern 4 is smaller than that of the line pattern 3, a level difference on the surface of the DFA layer 6 can be reduces.例文帳に追加

このプリント配線板では、ベタパターン４の厚さが単独線パターン３の厚さよりも薄いため、ＤＦＡ層６の表面に生じる高低差が低減されている。 - 特許庁

In a first process, a straight line pattern in the length direction in the entire grid-shape pattern is plotted with a high printing frequency of 1 kHz or more, for example.例文帳に追加

第１の工程において、格子状パターンの全体における長手方向の直線パターンを、例えば１ｋＨｚ以上の高い印字周波数により描画する。 - 特許庁

The calculated gravity center position is detected as the delivery center position that is the center about the main scanning direction of the delivery port 108 corresponding to the line pattern 71.例文帳に追加

算出した重心位置を当該ラインパターン７１に対応する吐出口１０８の主走査方向に関する中心である吐出口中心位置として検出する。 - 特許庁

To provide a pattern collating device of a line pattern capable of strictly identifying any deformation in the input pattern, a pattern collating method thereof, and a pattern collating program.例文帳に追加

入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁

This aligner is provided with a lump exposure mechanism 4 forming a circuit by collectively exposing the entire surface by a mask M masking the part of the high density and high thin line pattern Wa, and a partial exposure mechanism 7 (17) forming a circuit by partially exposing the part of the high density and high thin line pattern by an optical system more excellent in resolution.例文帳に追加

高密度・高細線パターンＷａの部分をマスキングしたマスクＭにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構４と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構７（１７）と、を兼備する露光装置として構成した。 - 特許庁

The branching filter formed by providing a SAW apparatus 2 having a reception filter region with an exciting electrode on a piezoelectric substrate on a package 3 is configured such that a line pattern 6 connected to an external antenna is formed to the side face of the package 3 and the line pattern 6 and the reception filter region are connected to each other.例文帳に追加

圧電基板上に励振電極を有する受信用フィルタ領域を備えたＳＡＷ装置２をパッケージ３上に備えた分波器において、パッケージ３の側面に、外部アンテナに接続させる線路パターン６を形成するとともに、この線路パターン６と前記受信用フィルタ領域とを接続したことを特徴とする分波器とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The interface board has one side laid on a second layer surface of the MCM board and the other side extruding into the waveguide hole to guide high frequency signals generated by a high frequency circuit to the waveguide and high frequency signal from the waveguide to the high frequency circuit according to a transmission line pattern 3a connected to a transmission line pattern 1a corresponding to the waveguide hole on the MCM board.例文帳に追加

インタフェース基板は、一方の側がＭＣＭ基板の第２層表面上に載置され、他の側が導波管穴にはみ出し、ＭＣＭ基板の導波管穴対応の伝送線路パターン１ａと接続された伝送線路パターン３ａによって、高周波回路が発生する高周波を導波管へ、導波管からの高周波を高周波回路へ導く。 - 特許庁

The variable information printed matter has a constitution that at least a ground layer, an image forming body layer printed with a latent image line pattern formed of a line pattern moire in specific ink that makes the embossment of the pattern and a printed layer which indicates the variable information are laid on each other sequentially on a base with a scratch hiding layer so deposited as to cover the laminate of these layers.例文帳に追加

基材上に、少なくとも、下地層、万線モアレによる潜像万線パターンが浮き上がる特殊インキで印刷されてなる画像形成体層、可変情報を表示する印刷層が順次積層され、その積層体を被覆するようにスクラッチ隠蔽層を形成したことを特徴とする可変情報印刷物である。 - 特許庁

At least one hole region is preferably formed on each first conductive line pattern and a via hole is preferably made in the hole region.例文帳に追加

前記ホール領域は、前記各々の第１導電ラインパターン上に少なくとも一つ以上形成されることが望ましく、さらに、前記ホール領域には、ビアホールが形成されることが望ましい。 - 特許庁

A first power line pattern 42 formed on a printed board 40 connects the output terminal 22 of the power circuit 20 to the signal input terminal 12 of the transmission line type noise filter 10.例文帳に追加

プリント基板４０に形成される第１電源ラインパターン４２は、電源回路２０の出力端子２２を、伝送線路型ノイズフィルタ１０の信号入力端子１２に接続する。 - 特許庁

An auxiliary line pattern for deciding composition stored in a ROM 37a is superimposed on the picked-up image displayed on the monitor 25 and displayed by an auxiliary line display device.例文帳に追加

また、液晶モニタ２５に表示された撮像画像に重ねて、ＲＯＭ３７ａに記憶された構図決定用の補助線パターンが補助線表示装置によってスーパーインポーズ表示される。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.例文帳に追加

タクトタイム（工程数）を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁

The replay pattern based on the stored information is compared to a reference value relative to the bright line pattern, and an obstacle is judged to be present if the relationship between both is high while judged not present if it is low.例文帳に追加

この記憶情報に基づく再生パターンを輝線パターンに対する基準値と比較し、両者の相関性が高いと障害物有りとし、低いと障害物無しとする。 - 特許庁

The translucent conductor 1 is provided with a translucent conductor layer 20 containing a conductive polymer on a supporting body 30 and a metal conductor portion 10 provided in a shape of a fine line pattern.例文帳に追加

透光性導電体１は、支持体３０上に、導電性ポリマーを含有する透光性導電層２０と、細線パターン状に設けられた金属導電部１０とを備えている。 - 特許庁

Depths of focus (S40, S80) are calculated with the use of a line pattern to be a standard as observation data, and the depths of focus calculated are used as indices of performance evaluation (S42, S82).例文帳に追加

観察資料として基準となるラインパターンを用いて焦点深度を算出し（Ｓ４０、Ｓ８０）、算出した前記焦点深度を性能評価の指標として用いる（Ｓ４２、Ｓ８０）。 - 特許庁

As a result, even if a step between a line pattern and a space pattern in a mark image imaged in the focus state is small, the position of a mark can be detected accurately.例文帳に追加

この結果、フォーカス状態において撮像されたマーク像におけるラインパターンとスペースパターンとの段差が小さい場合であっても精度良くマークの位置を検出することができる。 - 特許庁

On a substrate provided with a capacitor lower part interlayer insulation film 1 and a plug 3, a line pattern by an electrode forming material 6 which reaches the plug 3 is formed by using a damascene process.例文帳に追加

まずキャパシタ下部層間絶縁膜１およびプラグ３を備える基板上に、ダマシンプロセスを用いてプラグ３まで達する電極形成材料６によるラインパターンを形成する。 - 特許庁

A correction data memory 17 stores only correction data with respect to a maximum magnification rate corresponding to the resolution of a received image and the resolution of a recording section 14 by each oblique line pattern.例文帳に追加

補正データメモリ１７には受信画像の解像度と記録部１４の解像度に対応して最大の変倍率に対応する補正データのみが各斜め線パターン毎に記憶されている。 - 特許庁

To extract a component of spatial frequency which particularly needs evaluation in formation of a device or in analysis of a material or process of edge roughness on a micro line pattern, and express it by an index.例文帳に追加

微細ラインパターン上のエッジラフネスのうち、デバイスの作成上あるいは材料やプロセスの解析上特に評価が必要となる空間周波数の成分を抽出し、指標で表す。 - 特許庁

To improve the image reproducibility of both of a cycle line pattern and an isolated dot pattern without reducing the thickness of a photosensitive body even case of high resolution.例文帳に追加

解像度が高い場合にも、感光体の膜厚を薄くすることなく、周期ラインパターンと孤立ドットパターン両者の画像再現性を良くすることのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁