「けい化クロム形成」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

型母材２の成形面２ａに、第１層のクロム層２、第２層の窒化クロム層３、第３層の酸化クロム層または／及び酸窒化クロム層４を形成する。例文帳に追加

In the forming die for an optical element, a first layer 3 of chromium, a second layer 4 of chromium nitride, and third layer 5 of chromium oxide or/and chromium oxynitride are successively laminated on a forming surface 2a of a die base material 2. - 特許庁

誘電体膜と、クロム、窒化クロム、及び酸窒化クロムからなる群から選択された一種以上のクロム系膜とを含有する多層膜からなる選択吸収膜を、太陽熱集熱板の基材の表面に形成する。例文帳に追加

The selective absorption film composed of a multilayered film including a dielectric film and at least one or more kinds of chrome films selected from chrome, chrome nitride and chrome oxynitride, is formed on a surface of a base material of the solar heat collecting plate. - 特許庁

亜鉛又は亜鉛合金めっき上にクロムフリー化成皮膜を形成するための化成処理水溶液及びそれより得られたクロムフリー化成皮膜例文帳に追加

AQUEOUS CHEMICAL CONVERSION TREATMENT SOLUTION FOR FORMING CHROMIUM FREE CHEMICAL CONVERSION FILM ON ZINC OR ZINC ALLOY PLATING, AND CHROMIUM FREE CONVERSION FILM OBTAINED THEREBY - 特許庁

あるいは、７００〜８００℃程度に加熱保持し、ステンレス中にクロム炭化物を生成させ、更に酸化、脱炭して、クロム酸化物を形成する。例文帳に追加

Alternatively, the same is heated at about 700 to 800°C and held to produce chromium carbide in stainless, and moreover, oxidizing and decarburizing are performed to form chromium oxide. - 特許庁

その中間層２０は、シリコン，タングステン，炭化チタン，炭化珪素，炭化クロム等によって形成する。例文帳に追加

The intermediate layer 20 is formed of silicon, tungsten, titanium carbide, silicon carbide or chromium carbide, etc. - 特許庁

表示面側のガラス基板に酸化クロム、クロム、銅、クロムの順で積層膜を形成させる際に、酸化クロム膜を酸素分圧２０％以上の雰囲気で、反応性スパッタリングにより成膜する。例文帳に追加

When a laminated membrane is formed on the glass substrate of a display surface side in the order of chromium-oxide, chromium, copper, and chromium, the chromium-oxide membrane is film-formed by a reactive sputtering under an atmosphere of oxygen partial pressure 20% or more. - 特許庁

亜鉛又は亜鉛合金めっき上に３価クロム化成処理皮膜を形成させるための３価クロム化成処理液例文帳に追加

TRIVALENT CHROMATE CHEMICAL CONVERSION TREATMENT SOLUTION FOR FORMING TRIVALENT CHROMATE CHEMICAL CONVERSION TREATMENT FILM ON ZINC OR ZINC ALLOY PLATING - 特許庁

シリコン酸化膜を形成するＳｉ化合物を含む塗布液を塗布することにより、金型の成型表面のクロムメッキ被膜の表面にクロム酸化膜を形成し、前記クロム酸化膜上にシリコン酸化膜を形成することを特徴とするガラス成型用金型。例文帳に追加

The die for molding glass is characterized in that a chromium oxide membrane is formed on a surface of a chromeplated membrane of the molding surface of the die and a silicon oxide membrane is formed on the chromium oxide membrane, by embrocating an embrocation containing a silicon compound which forms a silicon oxide membrane. - 特許庁

六価クロムを含有せず、六価クロム化成処理皮膜と同程度の耐食性を有し、更に黒色である皮膜を形成する技術の提供。例文帳に追加

To provide a technique of forming a coating which contains no hexavalent chromium, has the same level of corrosion resistance as hexavalent chromium chemical conversion treated coating and, moreover, is black. - 特許庁

クロムの酸化物または酸窒化物の皮膜および該皮膜を形成した切削工具例文帳に追加

FILM OF OXIDE OR ACID NITRIDE OF CHROMIUM AND CUTTING TOOL FORMING THE FILM - 特許庁

これによりボール１の表面に、鉄とクロムの窒化物からなる窒化物層を形成する。例文帳に追加

A nitride layer consisting of nitrides of iron and chromium is formed thereby on the surface of the ball. - 特許庁

酸化クロムを主成分とする酸化不動態膜の形成方法およびステンレス鋼例文帳に追加

METHOD OF FORMING OXIDE PASSIVATION FILM COMPOSED ESSENTIALLY OF CHROMIUM OXIDE, AND STAINLESS STEEL - 特許庁

本発明の硬質皮膜被覆部材およびその製造方法においては、基材上に窒素含有クロム皮膜を形成し、次に前記窒素含有クロム皮膜を酸化させて前記窒素含有クロム被膜上にクロム酸化皮膜を形成する。例文帳に追加

In the member coated with the hard film and the method for manufacturing the same, a nitrogen-containing chromium film is formed on a substrate and then the nitrogen-containing chromium film is oxidized to form a chromium oxidized film on the nitrogen-containing chromium film. - 特許庁

また、金属めっき層２と外側樹脂層３との間には、クロム系酸化膜Ａが形成されている。例文帳に追加

The chrome oxide film A is formed between the metal plated layer 2 and the outside resin layer 3. - 特許庁

透明基板１と、この透明基板１の主面側に、酸化クロム膜３、クロム膜４及び酸化クロム膜５順次積層して形成された反射防止構造と、酸化クロム膜３表面であって透明基板１との界面に形成された反射防止膜としてのＬｉＦ膜２と、酸化クロム膜５表面に形成されたスピンオングラス膜６から構成される。例文帳に追加

The photomask comprises a transparent substrate 1, an antireflection structure formed by successively laminating a chromium oxide film 3, a chromium film 4 and a chromium oxide film 5 on the principal face side of the substrate 1, an LiF film 2 as an antireflection film formed on the interface between the chromium oxide film 3 and the substrate 1 and a spin-on glass film 6 formed on the surface of the chromium oxide film 5. - 特許庁

マグネシウムまたはマグネシウム合金用の耐食性無クロム酸塩転化被覆の形成用溶液例文帳に追加

SOLUTION FOR FORMING CORROSION-RESISTANT CHROMATE-FREE CONVERTED COATING FOR MAGNESIUM OR MAGNESIUM ALLOY - 特許庁

含Crニッケル基合金管の内面に、安価で、かつ均一にクロム酸化物被膜を形成させる例文帳に追加

To inexpensively and uniformly form a chromium oxide film on the inside face of a Cr-containing nickel based alloy tube. - 特許庁

亜鉛又は亜鉛合金上に黒色の６価クロムフリー化成皮膜を形成するための処理溶液例文帳に追加

TREATMENT SOLUTION FOR FORMING BLACK HEXAVALENT CHROMIUM-FREE CHEMICAL FILM ON ZINC OR ZINC ALLOY - 特許庁

含Crニッケル基合金管の内面に安価で、均一にクロム酸化物被膜を形成させる例文帳に追加

To inexpensively and uniformly form a chromium oxide film on the inside face of a Cr-containing nickel-based alloy tube. - 特許庁

また、バナジウムカーバイドまたはクロムカーバイドからなる硬化層をピンに形成する。例文帳に追加

Also, a hardened layer formed of a vanadium carbide or a chromium carbide is formed on the pins. - 特許庁

均一にクロム酸化物を形成させることができるNi基合金の製造方法の提供例文帳に追加

To provide an Ni-based alloy production method for uniformly forming a chromium oxide. - 特許庁

酸化クロム膜24を、電極19と絶縁体21，22と真空とが交わる三重点部位23に形成する。例文帳に追加

A chromium oxide film 24 is formed at a triple point region 23 where an electrode 19, insulators 21, 22, and vacuum cross one another. - 特許庁

真空外囲器内の電位傾度を有する部位に、酸化クロム膜11を形成する。例文帳に追加

The chromium oxide membrane 11 is formed at a site which has an electrical potential gradient in a vacuum envelope. - 特許庁

ガイド管６の内面に硬質炭化クロム（Ｃｒ＋Ｃｒ_23Ｃ_6）のメッキ層を形成する。例文帳に追加

A plating layer of rigid chromium carbide (Cr+Cr_23C_6) is formed on the inside surface of the guide pipe 6. - 特許庁

低温度処理が可能で、高耐剥離性と耐摩耗性が得られる窒化クロム膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a chromium nitride film having high peel resistance and abrasion resistance, at a low temperature. - 特許庁

クロム酸化物層上に形成されたはんだバンプは優れた転写性を有する。例文帳に追加

The solder bumps formed on the chromic oxide have an excellent transfer characteristic. - 特許庁

真空チャンバ１０ａ内に窒素及び炭素を供給しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることにより窒化クロム層の上に炭窒化クロム層を形成する。例文帳に追加

A chromium carbonitride layer is formed on the chromium nitride layer by generating arc discharge between the chromium evaporation sources 13a, 14a and the anodes 13b, 14b while supplying nitrogen and carbon into the vacuum chamber 10a. - 特許庁

真空チャンバ１０ａ内に炭素を供給しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることにより炭窒化クロム層の上に非晶質の炭化クロム層を形成する。例文帳に追加

An amorphous chromium carbide layer is formed on the chromium carbonitride layer by generating arc discharge between the chromium evaporation sources 13a, 14a and the anodes 13b, 14b while supplying carbon into the vacuum chamber 10a. - 特許庁

被処理材としてのアルミニウムまたはアルミニウム合金の化成処理において、６価クロムを含有しない耐食性に優れたノン６価クロム皮膜、特に３価クロム皮膜を形成できる化成処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical conversion treatment method for forming a coating film which does not contain hexavalent chromium but is superior in corrosion resistance, in particular, a trivalent chromium coating film, on an aluminum or aluminum alloy material to be treated. - 特許庁

ステンレスメッシュの表面に酸化クロム皮膜を厚み１０μｍ以上形成したウェブ焼結用分離材料において、ステンレスメッシュを７００〜８００℃にて、選択酸化処理し、酸化クロム皮膜を形成する。例文帳に追加

In a separating material for web sintering in which the surface of a stainless mesh is deposited with a chromium oxide film to a thickness of 10 μm or more, a stainless mesh is subjected to selective oxidation treatment at 700 to 800°C to deposit a chromium oxide film. - 特許庁

真空チャンバ１０ａ内に窒素を供給しつつクロム蒸発源１３ａ，１４ａと陽極１３ｂ，１４ｂとの間にアーク放電を発生させることによりクロム層の上に窒化クロム層を形成する。例文帳に追加

A chromium nitride layer is formed on the chromium layer by generating arc discharge between the chromium evaporation sources 13a, 14a and the anodes 13b, 14b while supplying nitrogen into the vacuum chamber 10a. - 特許庁

前面基板の電極がクロム、銅、クロム電極の場合、従来からガラス基板に直接電極が形成されているためクロムの鏡面反射が非常に大きくなり、明室コントラストを劣化させる原因となっている。例文帳に追加

To solve problems that in the case an electrode of a front face substrate is a chromium-copper-chromium electrode, mirror-finished surface reflection of the chromium becomes so large to cause bright room contrast deterioration since electrodes are traditionally formed directly on glass substrates. - 特許庁

粉状のクロム鉱石を、前記溶融金属の金属成分を含有する金属酸化物粉状物と混合して含クロム塊状原料を形成し、該含クロム塊状原料を、前記溶融還元炉の炉頂から装入する。例文帳に追加

The chromium-containing bulky raw material is formed by mixing the powdery chromium ore and the metallic oxide powdery material containing metal component of the above molten metal, and this chromium- containing bulky raw material is charged from the furnace top of the above smelting reduction furnace. - 特許庁

クロムめっき膜２１と、これを被覆するクロムの酸化皮膜２２との複合皮膜２が、基材３の表面に形成されたクロムめっき製品１の製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing the chromium plated product 1 is carried out by forming a multiple coating film 2 comprising a chromium plating film 21 and a chromium oxide coating film 22 covering the chromium plating film 21 on the surface of a base material 3. - 特許庁

鋼板の表面に、金属クロム層、クロム水和酸化物層の順で形成した後、下記（１）もしくは（２）の工程、（１）および（２）、または（１）、（２）および（３）の工程を行うクロムめっき鋼板の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the chromium-plated steel sheet comprises sequentially forming a metallic chromium layer and a chromium hydrous oxide layer, on a surface of the steel sheet, and then carrying out the processes of the following (1) or (2), (1) and (2), or (1), (2) and (3). - 特許庁

鋼板表面の少なくとも片面に、錫めっき層を片面当たり400 〜900mg/m^2、金属クロム層を片面当たり30〜110 mg/m^2 、前記クロムの水和酸化物層を金属クロム換算で片面当たり3.0 〜30.0mg/m^2 形成する。例文帳に追加

A tin-plated layer of 400-900 mg/m2 per single side, a metal chromium layer of 30-110 mg/m2 per single side, and a hydrate oxide layer of the chromium of 3.0-30.0 mg/m2 in terms of metal chromium are formed on at least one side of the steel plate. - 特許庁

酸化マグネシウムまたはクロムから成る下地層を介して形成された後、熱処理プロセスを施して形成されている。例文帳に追加

The Heusler alloy material is formed via a substrate layer made of magnesium oxide or chromium oxide and, thereafter, is formed through heat treatment process. - 特許庁

金属系材料の表面に皮膜を形成する表面処理液であって、不純物として６価クロムイオンを含む３価クロム化合物と、支持塩とが含まれる表面処理液に、建浴段階で６価クロムイオンを３価クロムイオンに還元する還元剤を加える。例文帳に追加

A reducing agent for reducing hexavalent chromium ions to tervalent chromium ions is added even in a stage of initial make-up of electrolytic to a surface treatment liquid which forms the film on the surface of a metallic material and contains the tervalent chromium compound which contains the hexavalent chromium ions as impurities and a supporting salt. - 特許庁

サステイン電極１４上に酸化クロム等からなる酸化クロム層３４を形成し、その上からサステイン電極１４に対向するようにバス電極１５を形成する。例文帳に追加

A chromium oxide layer 34, made of chromium oxide or the like, is formed on the sustaining electrode 14, from above the electrode 14 on which the bus electrode 15 is formed so as to face it. - 特許庁

亜鉛及び亜鉛合金めっき上に黒色の六価クロムフリー化成皮膜を形成するための処理溶液及び亜鉛及び亜鉛合金めっき上に黒色の六価クロムフリー化成皮膜を形成する方法。例文帳に追加

TREATMENT SOLUTION FOR FORMING BLACK, HEXAVALENT CHROMIUM-FREE CHEMICAL CONVERSION COATING ON GALVANIZING AND GALVANNEALING, AND METHOD FOR FORMING BLACK, HEXAVALENT CHROMIUM-FREE CHEMICAL CONVERSION COATING ON GALVANIZING AND GALVANNEALING - 特許庁

金型母材の成形面に形成された金属クロムからなる下地保護膜と、下地保護膜上に形成された酸化クロムからなる表面保護膜とを備えてなる。例文帳に追加

The mold for forming the optical glass is provided with a base protective film formed on the forming surface of a mold base material and made from metal chromium and a surface protective film formed on the base protective film and made from chromium oxide. - 特許庁

一実施形態では、フェースコート領域が酸化アルミニウム、緑色酸化クロム及び二酸化ケイ素を含むスラリー組成物から形成される。例文帳に追加

In one embodiment, a facecoat region is formed from a slurry composition containing an aluminum oxide, a green chromium oxide and a silicon dioxide. - 特許庁

共通電極４０上にクロムと酸化クロムとを連続して蒸着してブラックマトリックス層２０を形成し、ブラックマトリックス層２０上に有機膜５０を形成する。例文帳に追加

A black matrix layer 20 is formed through vapor depositing chromium and chromium oxide successively on the common electrode 40, and an organic film 50 is formed on the black matrix layer 20. - 特許庁

キャリア１４を金属スパッタチャンバ１３に移動させて、酸化クロム層の上に金属クロム単層を形成し、２層のブラックマトリクス用被膜を形成することができる。例文帳に追加

A carrier 14 is moved into a metal sputtering chamber 13, a single layer of metal chromium is formed on the layer of chromium oxide, and a coating film for two layers of black matrix can be formed. - 特許庁

母材にウエット方式によるクロムめっき膜を厚膜に形成した後、このクロムめっき膜をドライ方式によりラジカル窒化処理して、厚膜で密着力が高いＣｒ−Ｎ膜を形成する。例文帳に追加

The thick Cr-N film having high adhesive force is formed by forming a thick chromium-plated film on a base material by a wet system and then radical-nitriding the chromium-plated film by a dry system. - 特許庁