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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > セミアディティブ法の意味・解説 > セミアディティブ法に関連した英語例文

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セミアディティブ法の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 63



例文

セミアディティブ用エッチング剤、これを用いたセミアディティブ及び配線基板の製造方例文帳に追加

ETCHING AGENT FOR SEMIADDITIVE, SEMIADDITIVE METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF PRODUCING WIRING BOARD - 特許庁

セミアディティブ用回路形成エッチング液例文帳に追加

CIRCUIT FORMATION ETCHING LIQUID FOR SEMIADDITIVE PROCESS - 特許庁

セミアディティブ用金属張積層板の製造方ならびにこれにより得られるセミアディティブ用金属張積層板例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING METAL-CLAD LAMINATED SHEET FOR SEMI-ADDITIVE AND METAL-CLAD LAMINATED SHEET OBTAINED THEREBY - 特許庁

また、セミアディティブ法を用いることで、微細な配線パターンを形成しやすくなる。例文帳に追加

It becomes easy to form a fine wiring pattern by using a semi additive method. - 特許庁

例文

セミアディティブ法によって導電回路部の上面が平坦な配線基板を製造する。例文帳に追加

To manufacture a wiring board of which the upper surface of a conductive circuit is flat by a semi-additive method. - 特許庁


例文

セミアディティブ法で形成した回路はフラッシュエッチングによって物理的強度が失われる。例文帳に追加

To solve the problem that a circuit formed by a semi-additive method loses physical strength due to flush etching. - 特許庁

さらに、外層回路7をセミアディティブ法等で形成することによりプリント配線板1を得る。例文帳に追加

Further, an external layer circuit 7 is formed by a semi-additive method etc., to obtain the printed circuit board 1. - 特許庁

セミアディティブ法により配線断面形状が矩形でかつ、微細である配線を形成する。例文帳に追加

To form micro wiring with a rectangular wiring cross-sectional shape by a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法による回路形成において、めっき電流の供給を安定して行うことができ、セミアディティブ法による回路形成を良好に行えること。例文帳に追加

To conduct circuit formation satisfactorily by a semi-additive method by stably supplying plating current when the circuit formation by a semi-additive method. - 特許庁

例文

セミアディティブ法による銅配線絶縁フィルムの製造、及びこれらから製造された銅配線絶縁フィルム例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING COPPER WIRING INSULATION FILM USING SEMI-ADDITIVE METHOD, AND COPPER WIRING INSULATION FILM MANUFACTURED FROM THE SAME - 特許庁

例文

セミアディティブ法により従来よりも一層微細な線幅の配線を形成するための方を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming wiring in which the line width is finer than conventional, with a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法によって導電回路部の上面が平坦な配線基板を製造できる配線基板の製造方を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a wiring substrate, which manufactures the wiring substrate with the upper surface of a conductive circuit part flat by a semiadditive method. - 特許庁

ビルドアッププリント配線基板をセミアディティブによって製造するビルドアッププリント配線基板の製造方である。例文帳に追加

In the manufacturing method of a buildup printed wiring board, a buildup printed wiring board is manufactured by the semi-additive method. - 特許庁

プリント配線板用銅箔及びキャリア箔付金属箔並びにそれらを用いたプリント配線板のセミアディティブ製造例文帳に追加

COPPER FOIL FOR PRINTED-WIRING BOARD, METAL FOIL WITH CAREER FOIL, AND SEMI-ADDITIVE PROCESS OF PRINTED-WIRING BOARD - 特許庁

また、セミアディティブ法により配線部を形成することにより、配線部を高精度に加工することが可能となる。例文帳に追加

The wiring part can be processed with high accuracy by forming the wiring part by the semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法により配線部を形成することにより、配線部を高精度に加工することが可能となる。例文帳に追加

The wiring part can be processed with high accuracy by forming it by the semi-additive method. - 特許庁

ウエットエッチングにより給電膜を除去するセミアディティブ法により、微細な配線を形成できるようにする。例文帳に追加

To form fine wiring by a semi-additive method for removing a feeding film by wet etching. - 特許庁

超ファインピッチの配線としても幅方向の断面(横断面)の表面が平坦となる配線をセミアディティブ法で製造できるセミアディティブ用硫酸系銅めっき液及びこれを用いたプリント配線基板の製造方を提供する。例文帳に追加

To provide a sulfuric acid base copper plating liquid for a semi-additive which can produce wiring in which the surface of the cross-section in the width direction is made flat as wiring of an ultrafine pitch by a semi-additive process, and to provide a method for producing a printed circuit board using the same. - 特許庁

セミアディティブ法によるプリント基板の製造工程では、無電解銅めっきによりシード層2が形成され、その後、レジストパターン3を用いて電解銅めっきにより回路パターン4が形成される。例文帳に追加

In a step of manufacturing the printed circuit board by a semi additive method, the seed layer 2 is formed by an electroless copper plating method, followed by forming the circuit pattern 4 by a copper electroplating method by using a resist pattern 3. - 特許庁

セミアディティブ法による回路形成において、回路部の断面形状を矩形に保ち、かつ確実に回路間の絶縁を確保することができる経済的な回路形成を提供する。例文帳に追加

To provide an economical circuit formation method by means of a semi-additive method capable of keeping a cross section of a circuit rectangular, and also assuring insulation between circuits. - 特許庁

簡易な工程により、セミアディティブ法による微細配線の形成に適した、接続信頼性の高い多層配線板の形成方を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a multilayer wiring substrate suitable for formation of minute wiring by a semi-additive method and high in connection reliability, by a simple process. - 特許庁

セミアディティブ法またはサブトラクティブにより形成された基板(6)の表面にエポキシ系の樹脂7をスピンコータ、ロールコータなどで塗布する(7)。例文帳に追加

An epoxy resin 7 is applied by spin coater, roll coater, and the like on a surface of a board (6) formed by semi-additive method or subtractive method (7). - 特許庁

セミアディティブ法での細線銅配線形成において、シード層のスパッタ銅またはスパッタニッケルをエッチング除去する際に、銅配線の配線幅の減少を抑制できる基板の製造方を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a substrate which can control the reduction of the wiring width of copper wiring, when carrying out the etching removal of weld slag copper or weld slag nickel of a seed layer, in fine wire copper wiring formation by a semi additive method. - 特許庁

絶縁性フィルムの表面にシード層と導電層とを順次積層してなる基材を用いて、アディティブ又はセミアディティブ法により配線パターンを形成してなるCOF用配線基板。例文帳に追加

The COF wiring substrate is constituted by forming a wiring pattern with an additive method or semi-additive method using a base material that is formed by sequentially laminating a seed layer and a conductive layer on the front surface of an insulating film. - 特許庁

金属層2をフォトエッチングにより加工する工程と、絶縁層5上にセミアディティブ法により配線部8を形成する工程と、絶縁層5をプラズマエッチングにより加工する工程とからなる。例文帳に追加

The manufacturing method consists of a process where a metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where the wiring part 8 is formed on the insulation layer 5 by a semi-additive method and a process where the insulation layer 5 is processed by a plasma etching method. - 特許庁

セミアディティブ法を生かしながら、ソフトエッチングする時に下地層の不要な部分を除去すると同時に配線パターンにダメージを最小限に止めるプリント配線板の製造方を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a printed wiring board which is capable of removing the disused part of a base layer as it makes the best use of a semi-additive method when soft etching is carried out and reducing damage to a wiring pattern to an irreducible minimum at the same time. - 特許庁

セミアディティブ法により平滑な絶縁樹脂層の上に微細な配線層を密着性よく形成できる配線基板の製造方を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a wiring board capable of forming a fine wiring layer with good adhesion on a smooth insulating resin layer by a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法において無電解銅めっき層を除去する際に、配線パターンの寸精度の低下を防止できるエッチング剤を提供する。例文帳に追加

To provide an etching agent which can prevent the dimensional accuracy of a wiring pattern from being lowered when an electroless-plated layer of copper is removed in a semi-additive process. - 特許庁

基板及び配線の損傷を生じさせる恐れが少なく、パターンの制約も少ない、セミアディティブ法による微細配線形成方を提供する。例文帳に追加

To provide a fine wiring forming method by a semiadaptive method, which hardly damages a substrate and wiring and has small restrictions on a pattern. - 特許庁

セミアディティブ法によるプリント配線板の導体回路パターン形成において、導体回路間のショート不良が少なく、回路形成性のよいプリント配線板の製造方を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a printed wiring board with less short circuit defects between conductive circuits and excellent in circuit formability in the pattern formation of a conductive circuit of a printed wiring board by the semi-additive method. - 特許庁

「アディティブ」や「セミアディティブ法」を用いて回路パターンの微細化を図ったプリント配線板であって、回路パターンの高さ(厚さ)のばらつきが十分に抑えられたプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a printed wiring board wherein a fine circuit pattern is achieved using "additive method" or "semi-additive method" and the variation in the height (thickness) of the circuit pattern is sufficiently suppressed. - 特許庁

セミアディティブ用エッチング液であって、酸化剤と、酸と、界面活性剤と、親油性炭化水素類とを含むことを特徴とするエッチング液。例文帳に追加

The etchant is used for a semi-additive processing method, and includes an oxidizing agent, an acid, a surface active agent and a lipophilic hydrocarbon. - 特許庁

長尺の支持金属層1上に絶縁層2を樹脂溶液の塗布および乾燥により形成した後、その絶縁層2上に配線パターン3をセミアディティブ法により、複数列で形成する。例文帳に追加

An insulating layer 2 is formed on a continuous supporting metal layer 1 by applying and drying resin solution and, thereafter, a plurality of rows of wiring patterns 3 are formed on the insulating layer 2 by semi additive method. - 特許庁

セミアディティブ法により両面フレキシブルプリント基板に形成される差動伝送回路において、回路厚を一定にすると共に優れた差動インピーダンス特性及び耐ノイズ性を確保する。例文帳に追加

To secure a constant circuit thickness and excellent differential impedance characteristics and noise resistance in a differential transmission circuit which is formed on both-sided flexible printed board by a semi-additive method. - 特許庁

その後、絶縁性保護被覆5を除去し、後はセミアディティブ法と同様に、めっきレジストパターン9を利用して、電解銅めっきにより配線パターン10を形成する。例文帳に追加

Afterwards, the insulating protecting coating 5 is removed, and a wiring pattern 10 is formed by electrolytic copper plating by using a plated resist pattern 9 in the same way as a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法で高密度のプリント配線板を実現できる高分子と金属層の積層体であって、その目的は、接着性、回路形状、線間絶縁性に優れたプリント配線板を提供することにある。例文帳に追加

To provide a printed-wiring board having excellent adhesiveness, circuit shape and insulation properties between wirings in a laminated body of a polymer and a metal layer which can realize the printed-wiring board with a high density by a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法により微細配線パターンを形成する際にめっき厚のばらつきを可能な限り均一に抑えることが可能な配線基板を提供する。例文帳に追加

To provide a wiring board capable of minimizing a variation in plating thickness to make it uniform in forming a micro wiring pattern by means of a semi-additive method. - 特許庁

プリント配線板等のセミアディティブ法での製造での銅配線形成における配線幅の減少、アンダーカットを抑え、更に面内での均一な配線幅を形成させる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a method for reducing a wiring width in the formation of a copper wiring by the semi-additive method of a printed circuit board, etc., suppressing an undercut and further forming a uniform wiring width in a plane. - 特許庁

電子部品搭載部の配線がセミアディティブ法に使用するめっきレジストの解像度以下の微細な配線幅とした回路基板を提供する。例文帳に追加

To provide a circuit board in which a wiring of an electronic component mounting part has a micro wiring width which is equal to or less than a plating resist resolution, for use in a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法により作成されたプリント配線基板の表面を撮像する場合においても、コンパクトな構成により良好な二値画像を得ることが可能な基板検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an inspection device of a board for obtaining a good binary image by a compact constitution even in a case that the surface of a printed wiring board formed by a semiconductor additive method is imaged. - 特許庁

配線基板の代わりに裏面側にもエッチングバリア層を形成し、両面でエッチングバリア層をシードメタル層として利用したセミアディティブ法を行ってもよい。例文帳に追加

A semi-additive method may be used wherein the wiring board is replaced by a board having an etching barrier layer also on the rear surface for the etching barrier layers on both surfaces to serve as seed metal layers. - 特許庁

セミアディティブ法により絶縁体表面にメッキ層からなる銅配線を設けた配線基板であって、該メッキ層からなる銅配線表面の表面粗さ(Rz)が0.25μm以下の配線基板とする。例文帳に追加

The wiring board is provided with copper wiring formed of a plating layer on the surface of an insulator through semi-additive method, and the surface roughness (Rz) of the surface of the copper wiring formed of the plating layer is 0.25 μm or less. - 特許庁

サブトラクティブ、アディティブセミアディティブ法等のいずれの回路基板の製造方においても、エッチングレジスト層およびめっきレジスト層を形成する際の位置合わせが原因となり発生していたランドと孔の位置ずれの問題を解決する手段を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a means for solving the problem wherein alignment when an etching resist layer and a plating resist layer are formed causes the positional misalignment between a land and a hole even in a method of manufacturing a circuit board, such as a subtractive method, an additive method, and a semi-additive method. - 特許庁

プリント配線板をセミアディティブ法を用いて製造するにあたり、無電解銅めっき膜に対応でき、レジストの種類を問わず密着性を確保できる(レジストの剥離を抑制できる)プリント配線板の製造方とプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a printed circuit board, capable of coping with an electroless copper plating film and securing adhesion regardless of type of resist (suppressing peeling of the resist), when manufacturing the printed circuit board by using a semi-additive method, and to provide the printed circuit board. - 特許庁

セミアディティブ法によるプリント配線板の製造方において、第一金属導電層をエッチング除去する際の第二金属導電層の側面方向からのエッチングの影響を少なくし、エッチング量のばらつきが少ない回路パターンを得る。例文帳に追加

To obtain a circuit pattern reducing the dispersion of etching quantity by reducing the influence of etching from the side face direction of a 2nd metallic conductive layer at the time of removing a 1st metallic conductive layer by etching, in a printed board manufacturing method using a semi-additive method. - 特許庁

本発明の目的は、従来になく、極薄銅箔積層絶縁フィルムを用いて、銅箔と絶縁フィルムの密着性が良好で、セミアディティブ法により直線性に優れる微細配線を形成可能で、回路視認性の優れた銅配線絶縁フィルムの製造を提供すること。例文帳に追加

To provide an unprecedented method of manufacturing a copper wiring insulation film capable of forming a fine wiring which has excellent bondability between a copper foil and an insulation film and is excellent in linearity by using a semi-additive method while using an ultra-fine copper foil laminate insulation film, and is excellent in circuit visibility. - 特許庁

セミアディティブ法を用いて配線基板を製作する際して、シードエッチングにおける電解銅めっき層のアンダーカットの生成を抑制し、ライン/スペースが10/10μm以下の極細配線が可能な配線基板の製造方および配線基板を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a wiring board that inhibits the generation of undercuts in an electroless copper plating layer in seed etching, and enables extra-fine wiring having a size of line/space of 10/10 μm or smaller, when a wiring board is manufactured by using a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法によるプリント配線板の製造で、金属配線パターンを形成する際のソフトエッチング時に、下地層の不要な部分を除去すると同時に、必要な下地層を保護するプリント配線板の製造方を提供すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a printed wiring board which removes an unnecessary part of a foundation layer and at the same time protects a necessary foundation layer during soft etching in the formation of a metal wiring pattern in manufacturing a printed wiring board by a semi-additive method. - 特許庁

セミアディティブ法による回路形成において、微細配線化が可能となるように粗化後の絶縁層表面粗さが3μm以下でありながら、高い伸び性を実現することによりめっき銅との良好な接着強度を示す多層プリント配線板の製造方を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for producing a multilayer printed wiring board, exhibiting good adhesive strength to plated copper by realizing high elongation property, while keeping surface roughness of an insulating layer after coarsening the surface to ≤3 μm so as to enable micro-wiring in circuit formation by a semi-additive method. - 特許庁

例文

絶縁基材10の表面に、下地層23と、この上にセミアディティブ法により形成された銅めっき層24とを含む配線パターンを有するプリント配線基板であって、前記銅めっき層24が、多層構造を有し、双晶粒径が5μm未満である。例文帳に追加

In the printed wiring board having a wiring pattern including, on a surface of an insulation base material 10, a base layer 23 and a copper-plated layer 24 formed by a semi-additive method on top of the base layer, the copper-plated layer 24 has a multilayer structure, wherein a twin particle diameter is <5 μm. - 特許庁

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