「プラズマ境界」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

イオン源引き出し領域におけるプラズマ境界面制御方法及びそのイオン源例文帳に追加

PLASMA BOUNDARY SURFACE CONTROL METHOD IN ION SOURCE EXTRACTION REGION AND ITS ION SOURCE - 特許庁

入力手段と演算手段と出力手段とを備え，プラズマを解析する装置において，運動方程式と，マックウェル方程式とによりプラズマを解析するプラズマ解析手段と，プラズマの境界条件を与える境界条件設定手段と，プラズマのイオン化学反応についての条件を設定するイオン化学反応条件設定手段とを備える。例文帳に追加

This plasma analyzing device equipped with an input means, calculating means, and output means for analyzing a plasma is provided with a plasma analyzing means by means of the equation of motion and the Maxwell' s equations, a boundary conditions setting means to give the boundary conditions of the plasma, and an ion chemical reaction condition setting means to set the condition about the ion chemical reactions of the plasma. - 特許庁

これにより、対向する磁力線９、１０が作る両外部磁場の境界では大きな半径まで磁力線９が存在し、プラズマ６の大面積化と、そのプラズマ境界端面を明確にできる。例文帳に追加

The magnetic lines of force 9 exist to a large radius at the boundary between both external magnetic fields formed by the opposing magnetic lines of force 9, 10, plasma is generated in a large area, and the plasma boundary end face can be clarified. - 特許庁

アンテナ側磁力線９で示す外部磁場に沿って伝播するヘリコン波やスロー波等の波動をアンテナ３で励起するプラズマ発生装置において、プラズマ６を大面積化し、プラズマ境界端面を明確化し、基板等の処理材料１１の位置選択を可能にすること。例文帳に追加

To generate plasma in a large area, to clarify the plasma boundary end face and to allow the position selection of a process material such as a substrate in a plasma generator exciting the wave motion of the helicon wave or slow wave propagating along the external magnetic field shown by the magnetic lines of force on the antenna side with an antenna. - 特許庁

上流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。例文帳に追加

A method for operating the upstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction. - 特許庁

下流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。例文帳に追加

A method for operating the downstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction. - 特許庁

そしてマスクパターン形成後の半導体ウェハ１をプラズマ処理することにより半導体ウェハ１の境界線領域をプラズマエッチングにより除去して半導体素子１ｃ毎に分割する。例文帳に追加

The method further includes a step of plasma processing the semiconductor wafer 1 after the mask pattern is formed to remove the boundary region of the semiconductor wafer 1 by plasma etching, and a step of dividing each semiconductor element 1c. - 特許庁

内側領域と外側領域との境界は、フォーカスリングをプラズマエッチング装置に組み込み、基板に対してプラズマによりエッチングを行ったときに消耗の程度が変わる部位とする。例文帳に追加

The boundary between the inner and outer regions is taken as a portion where the level of consumption changes when the focus ring is incorporated in a plasma etcher to etch a substrate with plasma. - 特許庁

また、プラズマ境界端面が明確なので、このプラズマ端面の内外に目的のプロセスに応じて大口径の基板等の処理材料１１を位置選択して設置することができる。例文帳に追加

Since the plasma boundary end face is made clear, a process material 11 such as a large-diameter substrate can be installed via position selection according to the aimed process on the inside or outside of the plasma end face. - 特許庁

空中移動プラットフォームの飛行を制御する方法および物体の表面上の境界層流に影響を及ぼすためのプラズマアクチュエータ例文帳に追加

METHOD OF CONTROLLING FLIGHT OF AIR MOVABLE PLATFORM AND PLASMA ACTUATOR FOR AFFECTING BOUNDARY LAYER FLOW ON SURFACE OF OBJECT - 特許庁

プラズマディスプレイパネルの表示領域と表示外領域との境界が画像に影響を与えないように、目立たなくする。例文帳に追加

To make a boundary between a display region and a region outside the display region of a plasma display panel inconspicuous so as to prevent affecting the images due to the boundary. - 特許庁

従来の方法では引き出し方向から見てプラズマ境界面が凸面となり、発散イオンビームしか得られない。例文帳に追加

To solve a problem where, since a plasma boundary surface is formed into a convex surface when viewed from an extraction direction in a conventional method, only a divergent ion beam can be provided. - 特許庁

そして、境界溝７に露出した半導体ウエハ１の表面をフッ素系ガスのプラズマによりエッチングし、半導体ウエハ１を境界溝７に沿って個々の半導体チップ１′に切り分ける。例文帳に追加

The surface of the semiconductor wafer 1 which has been exposed in the border grooves 7 is etched by plasma of a fluorine-based gas, and the wafer 1 is cut into individual semiconductor chips 1' along the border grooves 7. - 特許庁

一実施形態において、プラズマを閉じ込めるための装置は、基板支持体と、プラズマが形成されるべき、前記基板支持体の少なくとも上部に設けられた第１の領域と、前記プラズマが選択的に抑制されるべき第２の領域との間の境界線の近傍で磁界を形成するための磁界形成デバイスを含む。例文帳に追加

In one embodiment, a device for confining plasma includes a substrate support and a magnetic field forming device 114 for forming a magnetic field proximate a boundary between a first region disposed at least above the substrate support, where a plasma is to be formed, and a second region, where the plasma is to be selectively restrained. - 特許庁

プラズマ境界層リフトシステム１１は、対向する前縁および後縁ＬＥ，ＴＥの間において翼弦方向Ｃに延在する外側表面５４を備えて翼幅方向に延在するエアフォイル３９を有する少なくとも１つのガスタービンエンジン翼形部３２と、外側表面５４に沿って翼弦方向Ｃに延在するプラズマを生成する翼弦方向に離間したプラズマ発生器２とを包含する。例文帳に追加

A plasma boundary layer lifting system 11 includes at least one gas turbine engine vane 32 having a spanwise extending airfoil 39 with an outer surface 54 extending in a chordwise direction C between opposite leading and trailing edges LE, TE, and chordwise spaced apart plasma generators 2 for producing a plasma 90 extending in the chordwise direction C along the outer surface 54. - 特許庁

加えて、第１シリコン層のエッチング工程と接着層のエッチング工程との間には、第１ガスと第２ガスとの混合ガスのプラズマにより、第１シリコン層と接着層との境界をエッチングする境界エッチング工程を実施する。例文帳に追加

Furthermore, in between a first silicon layer etching step and an adhesion layer etching step, a boundary etching step of etching the boundary between the first silicon layer and the adhesion layer by a plasma of mixture of first and second gases is executed. - 特許庁

放電セル境界部分と、共通電極及び走査電極とバス電極との間にブラックマトリックス層を同一な材料で一体に形成させることにより製造工程を単純化したプラズマディスプレイパネルを提供する。例文帳に追加

To simplify a manufacturing process by integrally forming a boundary part of a discharge cell and a black matrix layer between a common electrode and a scanning electrode and a bus electrode in the same material. - 特許庁

プラズマ３０とイオンシース２１の境界面３１は、傾斜面２ａが形成されたスパッタリングターゲット２の鋸状の表面形状と比較して滑らかになり平面に近くなる。例文帳に追加

A boundary surface 31 of a plasma 30 and an ion sheath 21 is made smoother than the saw-like surface shape of the sputtering target formed with the slopes 2a and made nearly plane. - 特許庁

上流プラズマ境界層遮蔽システムは、低温及び高温表面を有する壁を貫通して配置されかつ壁の低温表面から壁の外側高温表面まで下流方向に傾斜したフィルム冷却開口を含む。例文帳に追加

An upstream plasma boundary layer shielding system includes a film cooling opening disposed to penetrate a wall having low temperature and high temperature surfaces and inclined in the downstream direction from the low temperature surface of the wall to the outer high temperature surface of the wall. - 特許庁

インタレース型プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）を駆動する装置であって、遅延素子、画像上下縁検出素子、画像境界処理素子、および画像処理アナログ制御ループを有する。例文帳に追加

The device driving the interlace type plasma display panel (PDP) has a delay element, an image upper/lower edge detecting element, an image boundary processing element, and an image processing analog control loop. - 特許庁

下流プラズマ境界層遮蔽システムは、低温及び高温表面を有する壁を貫通して配置されかつ壁の低温表面から該壁の外側高温表面まで下流方向に傾斜したフィルム冷却開口を含む。例文帳に追加

A downstream plasma boundary layer shielding system includes a film cooling opening 49 disposed to penetrate a wall 26 having low temperature and high temperature surfaces and inclined in the downstream direction from the low temperature surface of the wall to the outer high temperature surface of the wall. - 特許庁

そして、プラズマ条件を適宜に設定することにより、溝の内側壁のうちｐ型半導体領域とｎ型半導体領域の境界部分に横穴状の溝を形成する。例文帳に追加

A groove in the shape of a horizontal hole is formed on the border of the p-type semiconductor region and n-type semiconductor region of the inner sidewall of the groove by setting the plasma conditions properly. - 特許庁

誘電体窓１０９とプラズマとの境界面を伝播し処理容器１０１の壁部１０１ａに入射する表面波を減衰させ、該壁部１０１ａからの表面波の反射を抑制する反射抑制手段を有する。例文帳に追加

This plasma treatment device has a reflection suppressing means to suppress reflection of a surface wave from a wall part 101a by damping the surface wave propagating on the boundary surface of a dielectric window 109 and plasma and entering the wall part 101a of a treatment vessel 101. - 特許庁

また、誘電体板のエッジ部等の電界境界部で局所放電の発生が抑制され、酸化膜の成膜等のプラズマ処理の効率を向上させることが可能となる。例文帳に追加

On the other hand, the generation of local discharge in the boundary of an electric field such as the edge of the dielectric plate or the like is suppressed whereby the efficiency of plasma processing such as the deposit of an oxide film or the like can be improved. - 特許庁

このとき、焼結体１５と母材４１との境界部分では、放電プラズマ焼結するのに用いたニッケル−リン系の焼結用粉末１０、および母材４１を構成する鉄系の焼結粉末４４の成分比を連続的に変えることにより、焼結体１５と母材４１とを傾斜接合させる。例文帳に追加

In the boundary part between the sintered body 15 and a base material, by continuously changing the component ratio between powder 10 for nickel- phosphorus sintering used for discharge plasma sintering and sintered iron powder 44 constituting the base material 44, the sintered body 15 and the base material 44 are joined together slantingly. - 特許庁

プラズマ処理装置は、発振されたマイクロ波を真空チャンバ１に導くためのマイクロ波立体回路と、マイクロ波立体回路の端部に接続され、真空チャンバ１の内部との境界を形成するためのマイクロ波導入部２５とを備える。例文帳に追加

The plasma processing apparatus is equipped with the three-dimensional microwave circuit for introducing an oscillated microwave to a vacuum chamber 1, and a microwave introducing part 25 which is connected to an end of the three-dimensional microwave circuit to form a boundary between the end of the three-dimensional microwave circuit and the inside of the vacuum chamber 1. - 特許庁

電極支持体２２と電極板２３との境界面の少なくとも片方に，薄い絶縁被膜６２を設け，電極支持体２２と電極板２３との直接の接触を避け，絶縁被膜の厚さを調整して，融着を防止しつつ性能を保持したプラズマ装置を構成する。例文帳に追加

The plasma apparatus is constructed so that a thin insulating film 62 is located on at least one side of an interface between an electrode support 22 and an electrode plate 23, a thickness of the insulating film is adjusted so as to avoid a direct contact between the electrode support 22 and the electrode plate 23, thereby, the fusion between them is prevented and the performance can be kept. - 特許庁

また、プラズマ溶接トーチ１４は、ＭＡＧ溶接トーチ１２と共に矢印Ａ方向に移動しながら、溶接ビードの止端部（溶接ビードの表面と第１被溶接金属１８の表面との境界及びその周辺部分）を溶融する。例文帳に追加

Further, the plasma welding torch 14, while moving with the MAG welding torch 12 in the direction of the arrow A, melts the toe of the weld bead (border including the periphery between the surface of the weld bead and the surface of the first metallic plate 18 to be welded). - 特許庁

被加工試料３表面からの反射光の波長ならびに各波長の光強度変化を検出する光導入部の透明体端面を、プラズマの境界から真空容器１内でのガス分子の平均自由工程の５倍以上の距離の空間を隔てて配置する。例文帳に追加

A transparent end face of a light introduction for detecting wavelengths of the light reflected from the plane of the workpiece 3 and a change in intensity of light of each wavelength is arranged at a distance five times or more the mean free path of gas molecules inside a vacuum container 1 from the plasma boundary. - 特許庁

プラズマ分離部２０とパーティクルトラップ部３０との境界部分には逆磁場発生コイル３２が設けられており、この逆磁場発生コイル３２の磁場によりパーティクルトラップ部３０に入ろうとするイオンを押し戻される。例文帳に追加

A reverse magnetic field generation coil 32 is provided in the boundary part between the plasma separation part 20 and the particle trap part 30, and ions trying to enter the particle trap part 30 are thrust back by the magnetic field of the reverse magnetic field generation coil 32. - 特許庁

プラズマ表示パネルの自動電力を制御する時、現在入力されているデータと直前入力データの間の負荷変化率を計算し、計算された負荷変化率を予め決められた所定の個数の変化率区画境界値と比較してどの範囲に属するかを決定する。例文帳に追加

When automatic power of the plasma display panel is controlled, a load change rate between data inputted at present and the just preceding input data is calculated, the calculated load change rate is compared with the prescribed number of predetermined change rate section boundary values to determine which range the calculated load change rate belongs to. - 特許庁

画像が表示される表示領域（境界線２６の内側の領域）と画像が表示されない非表示領域（境界線２６の外側の領域）とを有するプラズマディスプレイパネル１に所定の電圧を印加して表示駆動を行うエージング工程において、前記非表示領域を加熱するようにする。例文帳に追加

In the aging process in which a display drive is carried out by applying a prescribed voltage to the plasma display panel 1 having a display region (inside region of the boundary line 26) in which an image is displayed, and a non-display region (outside region of the boundary line 26) in which the image is not displayed, the non-display region is made to be heated. - 特許庁

プラズマセル２は所定の間隙を介して表示セル１側に接合した基板８と、隣り合う放電チャネル１２の境界に沿って基板８の上に形成された放電電極９と、隣り合う放電チャネル１２を互いに仕切る様に放電電極９の上に形成された隔壁１０とを有している。例文帳に追加

The plasma cell 2 comprises a substrate 8 bonded to the side of the display cell 1 via a prescribed gap, discharge electrodes 9 formed on the substrate 8 along the boundary of the adjoining discharge channels 12, and bulkheads 10 formed on the discharge electrodes 9 so as to partition the adjoining discharge channels 12 from each other. - 特許庁

そして、ガス供給部５は、これらの各ノズル５１０〜５１９のうち、処理領域に対応する位置にあるノズルからプラズマガスを供給するとともに、処理領域と非処理領域との境界部の非処理領域側に対応する位置にあるノズルからシールドガスを供給するよう構成されている。例文帳に追加

The gas supply 5 is configured to supply plasma gas from a nozzle located at a position corresponding to the processing region among the nozzles 510 to 519, and to supply shield gas from a nozzle located at a position corresponding to a non-processing region side of a boundary part between the processing region and the non-processing region. - 特許庁

本発明によるプラズマディスプレイパネルは、複数のサブピクセルを区切る第１隔壁と、前記複数のサブピクセルが一つの単位ピクセルを成して隣接された単位ピクセルと境界を成して区画されるように形成された第２隔壁とを含み、前記単位ピクセルを区切る第２隔壁の幅が前記複数のサブピクセルを区切る第１隔壁の幅よりさらに広く形成されて、前記複数のサブピクセルの中で中央部に位置したサブピクセルは青色サブピクセルであることを特徴とする。例文帳に追加

In this case, the width of the second barrier ribs partitioning the unit pixels is smaller than that of the first barrier ribs partitioning the plurality of sub-pixels, and a sub-pixel located at the center among the plurality of sub-pixels is a blue sub-pixel. - 特許庁