「位相シフタ」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

その光路の一方（光路Ａ）に光周波数シフタである音響光学変調器４を、他方（光路Ｂ）に光位相制御装置５を挿入し、光位相制御装置５は駆動機構を有する微小反射鏡により光位相を制御する。例文帳に追加

An acoustooptical modulator 4 being an optical frequency shifter is inserted into one (optical path A) of the optical paths, and an optical phase controller 5 is inserted into the other (optical path B), and the optical phase controller 5 controls an optical phase by a minute reflection mirror having a drive mechanism. - 特許庁

照射光に対して透明な基板上に、ラインパターンが形成された遮蔽領域と、前記遮蔽領域の両側にそれぞれ配置された第一の透明領域および第二の透明領域とを有し、前記第一の透明領域の下方には位相シフタが形成されており、前記位相シフタの側壁が、外側に凸の湾曲部を有している位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

The phase shift mask is provided with a shielded region having a line pattern formed therein and first and second transparent regions disposed on both sides of the shielded region on a substrate transparent to irradiated light, wherein a phase shifter is formed below the first transparent region and a side wall of the phase shifter has a curved portion convex to the outside. - 特許庁

対物レンズの片面には、光軸を中心とする輪状の段差部を備える位相シフタが設けられ、この位相シフタは第１の波長の光に対して、第１の波長をλ_1とするとき、位相差の絶対値が距離に換算した場合に、１．０１λ_1から１．１３λ_1の範囲の段差で構成されている。例文帳に追加

The phase shifter having an annular step around an optical axis as a center is provided on one surface of the objective lens and the phase shifter is constituted of steps in a range of 1.01 to 1.13 λ_1 to light having the first wavelength when an absolute value of the phase difference is expressed in terms of a distance and when the first wavelength is defined as λ_1. - 特許庁

二次元ランダムパターン形状である遮光領域１１を有するクロムマスク１を用いて第１の露光を行う工程と、遮光領域１１に対応する位置に位相シフタ２０の位相シフタエッジ１６の一部１５を有するクロムレス位相シフトマスク２を用いて第２の露光を行う工程とを備えることによって上記課題を解決する。例文帳に追加

The method for exposure includes a process of first exposure by using a chromium mask 1 having a shading region 11 as a two-dimensional random pattern and a process of second exposure by using a chromium-free phase shift mask 2 having a part 15 of the phase shifter edge 16 of the phase shifter 20 in the position corresponding to the shading region 11. - 特許庁

位相シフトマスクに於ける位相シフター膜のドライエッチング工程に於いて、エッチング処理中に観測されるプラズマ電流−電圧間の位相差の平均値と位相シフター膜のエッチング速度の相関関係と位相差出力の経時変化とを用いて次回処理基板に於けるエッチング速度を予測し、然る後、最適エッチング時間を設定してエッチング処理を行なう過程が含まれてなることを基本とする。例文帳に追加

A dry etching step of a phase shifter film in a phase shift mask essentially comprises predicting an etching rate in the next process substrate by using a correlation between an average phase difference in a plasma current-voltage and the etching rate of the phase shifter film observed during the etching process and using changes in the phase difference output with time, and then setting an optimum etching time to carry out the etching process. - 特許庁

駆動回路７は、第１の電極２５ａにパルス信号を印加する第１のレベルシフタ８ａと、第３の電極２５ｂにパルス信号を印加する第２のレベルシフタ８ｂと、第２の電極２６ａと第４の電極２６ｂとにパルス信号を印加する第３のレベルシフタ８ｃと、各レベルシフタから出力するパルス信号の位相差を制御するマイコン９とを有する。例文帳に追加

The driving circuit 7 has a first level shifter 8a applying a pulse signal to the first electrode 25a, a second level shifter 8b applying a pulse signal to the third electrode 25b, a third level shifter 8c applying a pulse signal to the second and the fourth electrodes 26a and 26b and a microcomputer 9 controlling retardation of pulse signals output from each level shifter. - 特許庁

位相シフトレチクルの製造段階から遮光膜と位相シフタ−との精度の良い重ね合わせ位置精度の評価が可能で、仮に重ね合わせ位置精度が良くない場合には、重ね合わせ描画のやり直しができ、位相シフトレチクルが完成してからも精度の良い重ね合わせ評価のできる位相シフトレチクルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a phase shift reticle with which high superposition position accuracy of a light shielding film and a phase shifter can be evaluated in a manufacturing stage of the phase shift reticle, a supperposition drawing can be restarted if the superposition position accuracy is not good and the evaluation of an accurate superposition is possible also after the manufacture of the phase shift reticle is completed. - 特許庁

共通ポート用チャネル光導波路１１の一つから、分岐ポート用チャネル光導波路１３側における第２のスラブ光導波路１５の端面上の一点までの光路長は、位相シフタの駆動前において、位相シフタ用チャネル光導波路アレイ１２を構成する光導波路によらず一定である。例文帳に追加

An optical path length from one of the channel optical waveguide 11 for common port to one point on the end surface of the second slab optical waveguide 15 in the channel optical waveguide 13 for branch port side is fixed regardless of the optical waveguide constituting the channel optical waveguide array 12 for phase shifter before the phase shifter is driven. - 特許庁

曲線導波管２６は、スペーサ２４層を貫通する２個の離間した光学カプラ２７Ａ，２７Ｂにより共振器と光学的に結合され、共振器の光路長を制御するための第１の位相シフタ２８、および導波管において、導波管と共振器の間の結合強度を制御するよう動作する第２の位相シフタ２９により同調が与えられる。例文帳に追加

The curved waveguide 26 is optically coupled with the resonator by two separated optical couplers 27A, 27B penetrating the layer of the spacer 24, and is turned by a first phase shifter 28 for controlling the optical path length of the resonator and a second phase shifter 29 which is operated so as to control coupling strength between the waveguide and the resonator in the waveguide. - 特許庁

光モジュールは、平面光導波回路と、その平面光導波回路を所定位置において加熱する熱光学位相シフタと、平面光導波回路を通過した光信号の光出力を検出する光検出器と、その光検出器が検出した光出力が設定値に近づくように熱光学位相シフタをパルス幅変調制御する制御部とを備える。例文帳に追加

An optical module includes: a planar lightwave circuit; a thermo-optic phase shifter for heating the planar lightwave circuit at a prescribed position; a photodetector for detecting optical output of optical signals which have passed through the planar lightwave circuit; and a control part for performing pulse width modulation control of the thermo-optic phase shifter so that the optical output detected by the photodetector gets close to a set value. - 特許庁

対物レンズの内外の対応基板厚を変え、なおかつ中心部分に凸状の円形突出位相シフタを設け、その周辺部分に輪帯陥没位相シフタを設けることで、基板厚０．６ｍｍのＤＶＤで発生する収差と基板厚１．２ｍｍのＣＤで発生する収差をともに低減する。例文帳に追加

By changing the thickness of the corresponding substrate on the inside and the outside of the objective, providing a circular projecting phase shifter made to project at the center part, and providing an annular cave-in phase shifter at the periphery part, the aberration caused in a DVD whose substrate thickness is 0.6mm and the aberration caused in a CD whose substrate thickness is 1.2mm are both reduced. - 特許庁

Ａ１〜Ａ４へシフタ２３を透過する露光光と、Ａ１１〜Ａ１４へ透明基板２２のみを透過する露光光の位相差が１８０°となるようにシフタ２３の膜厚ｄ２は、ｄ２＝λ／２／（ｎ２×ｃｏｓθ２−ｎ０×ｃｏｓθ０）とする。例文帳に追加

The film thickness d2 of the shifter 23 is defined as follows: d2=λ/2/(n2×cosθ2-n0×cosθ0) such that the phase difference between the exposure light transmitting the shifter 23 to A1 to A4 and the exposure light transmitting only the transparent substrate 22 to A11 to A14 is 180°. - 特許庁

このように、外部へのトレーニング用の電波が出ない状況下では、トレーニング用の電波を発生する回路とその位相を検出し、位相シフター３１６を最適に制御するトレーニング制御部３２２が許す最短時間までトレーニング時間を短縮できる。例文帳に追加

Thus, it is possible to reduce training time to the shortest time that is allowed by a circuit which generates radio waves for training and a training controlling part 322 which detects its phase and optimally controls a phase shifter 316 under the situation in which the radio waves for training does not emit outward. - 特許庁

そして、位相シフタ２１〜２ｎは、上記シフト量だけ水平同期信号および垂直同期信号の位相をシフトさせ、これと駆動クロックに基づいて同期信号生成部３１〜３ｎが、上記映像機器Ｖ１〜Ｖｎに与える同期信号をそれぞれ生成するようにしたものである。例文帳に追加

The phase shifters 21 to 2n shift a horizontal synchronizing signal and a vertical synchronizing signal by the shift quantities and synchronous signal generation parts 31 to 3n generate synchronizing signals to be supplied to the video apparatuses V1 to Vn according to the synchronizing signals and a driving clock. - 特許庁

ＤＬＬが、位相検出器の出力が平均で５０％の時間だけハイになるまでフェーズ・シフタを調整するので、ＤＬＬ出力クロックの入力基準クロックとの関係は、使用される位相検出器のタイプにしか依存しない。例文帳に追加

Because the DLL adjusts the phase shifter until the output of the phase detector is high 50% of the time, on average, the relationship of the DLL output clock to the input reference clock depends only on the type of phase detector used. - 特許庁

石英基板に入射光を位相変調するパターンを有する位相シフタの製造方法であって、前記石英基板に対し前記石英基板上に金属膜を堆積しレジスト膜を塗布し露光および現像しレジストパターンを形成する。例文帳に追加

In the manufacturing method of a phase shifter that comprises a pattern for phase-modulating incident light on a quartz substrate, a metal film is deposited on the quartz substrate, on which a resist film is applied for exposure and development, to form a resist pattern. - 特許庁

この干渉計は、インターリーバ３０の3dBカプラ３２に接続された3dBカプラ５１と100%カプラ５２の間に形成した光路長差ΔL=4.1mmの位相部分５３と、πの位相シフタ５４と、ＡＷＧ２０の第１スラブ導波路２５に接続された3dBカプラ５５と、を備える。例文帳に追加

This interferometer has a phase part 53 of an optical path length difference ΔL=4.1 mm formed between a 3 dB coupler 51 connected to the 3 dB coupler 32 of the interleaver 30 and a 100% couplers 52, a π phase shifter 54, and a 3 dB coupler 55 connected to the first slab wave guide path 25 of the AWG20. - 特許庁

さらに、遮光層３をパターニング処理して遮光パターン３ａを形成し、さらに、シフター層２をＩＣＰ（誘電結合プラズマ）タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン２ａを形成し、本発明の位相シフトマスク１００を得る。例文帳に追加

Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention. - 特許庁

位相シフトマスクにおいて、マスク基板を掘り込むことで位相シフタを形成して、遮光膜を非掘り込み部から前記掘り込みまで延在させ、該掘り込み側部に設けられた遮光膜の厚さを変化させることによって、位相シフトマスクにおける掘り込み非掘り込み部の結像強度をなくすように構成する。例文帳に追加

In the phase shifting mask, a phase shifter is formed by engraving a mask substrate, a light shielding film is extended from an unengraved portion to the engraved portion and the thickness of the light shielding film disposed on the engraved portion is varied to eliminate difference in imaging intensity between the engraved and unengraved portions in the phase shifting mask. - 特許庁

透明基板１１と位相シフタ膜１２が合成石英ガラスとモリブデンシリサイドの酸化物あるいはモリブデンシリサイドの酸化窒化物の組み合わせからなる位相シフトマスク１０を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカリの水溶液からなるエッチング薬液を用いてエッチングして位相差調整を行う。例文帳に追加

The phase contrast of a phase shift mask 10 in which a transparent substrate 11 and a phase shifter film 12 comprise the combination of synthetic quartz glass and the oxide or oxynitride of molybdenum silicide is adjusted by etching the mask 10 with an etching solution comprising an aqueous solution of a strong alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. - 特許庁

アレイ光導波路格子波長可変フィルタは、チャネル光導波路の１本に対して、三次元光導波路を挟んで平行に対向する２つの電極が配置されている導波路電気光学位相シフタを有する。例文帳に追加

The array optical waveguide lattice wavelength variable filter includes a waveguide electro-optical phase shifter having two electrodes disposed opposite to each other and parallel to each other across the three-dimensional optical waveguide with respect to one channel optical waveguide. - 特許庁

この場合には、温度変化及び波長シフトがあっても、回折レンズ４によってピント位置ずれが抑制されるため、位相シフタ面により拡大された深度余裕を維持することができる。例文帳に追加

In this case, even when a temperature variation and a wavelength shift occur, the shift of focal point is suppressed by the diffraction lens 4, thus a depth tolerance expanded by the phase shifter face is maintained. - 特許庁

論理回路１５９は、位相シフタ１５２とマルチプレクサ１６１の出力に基づき、スイッチ駆動信号を出力し、スイッチングデバイス１３２を駆動し、ゼロ電圧スイッチングを実現する。例文帳に追加

The logic circuit 159 outputs a switch drive signal, based on the output of the phase shifter 152 and a multiplexer 161, and drives the switching device 132 thereby realizing zero-voltage switching. - 特許庁

透過性基板３０上に、クロム膜等の遮光膜よりなる遮光部４１と位相シフター４２及び４３とを有するマスクパターン４０が形成されている。例文帳に追加

A mask pattern 40 having a light shielding part 41 comprising a light shielding film such as a chromium film and phase shifters 42 and 43 is formed on a transmissive substrate 30. - 特許庁

開口切替えと収差補正を位相シフタ面だけで行い、基板厚の異なる光記録媒体の再生，記録を同一波長の光束と単一の対物レンズで実現する。例文帳に追加

To perform aperture switching and aberration correction only with a phase shifter surface to enable reproducing and recording of optical recording media having different substrate thicknesses with the same wavelength luminous flux and a single objective lens. - 特許庁

アクティブマトリクス液晶表示装置に内蔵される出力信号の位相制御機能付レベルシフタ回路において、コントローラＩＣ側の回路負担を低減する。例文帳に追加

To reduce the circuit load of a controller IC side in a phase control function added level shifter circuit for output signals incorporated in an active matrix liquid crystal display device. - 特許庁

位相シフタは、２又はそれ以上の同電性ストリップ、入力ライン３１、入力ライン３１と導電性ストリップに連結されたワイパー３３を含む。例文帳に追加

A phase shifter includes two or more conductive strips, an input line 31 and a wiper 33 coupled to both the input line 31 and the conductive strips. - 特許庁

油圧位相シフタにより、一方の群のバルブ（例えば排気バルブ３４）を、他方の群のバルブ（例えば吸気バルブ３０）よりも前に動作不能にできる。例文帳に追加

The hydraulic phase shifter allows one group of valves, such as an exhaust valve 34, to be disabled before another group of valves, such as an intake valve 30. - 特許庁

第２のレベルシフタは、第５乃至８のトランジスタが設けられ、レベルシフトされた第１の出力信号とは逆位相の第２の出力信号を出力する。例文帳に追加

The second level shifter has fifth to eighth transistors and outputs a second output signal in the opposite phase to the first level-shifted output signal. - 特許庁

光混合器１３の前段にポリマ導波路からなる波長可変フィルタ１６を備え、導波路アレイ状に三角形状の位相シフタ用ヒータ電極を取付け、電流を流すことにより波長可変フィルタとして駆動させる。例文帳に追加

A tunable filter 16, which consists of a polymer waveguide, is placed in the front stage of the mixer 13 and activated by applying a current to the triangular electrodes for a heater of a phase shifter mounted in an array of waveguide. - 特許庁

パターンレイアウトを作成すると共に位相シフターの透過率Ｔを決定した後、パターンレイアウトを分割して複数の分割パターンを生成する。例文帳に追加

After a pattern layout is made as well as the transmittance T of a phase shifter is determined, the pattern layout is divided to generate a plurality of split patterns. - 特許庁

第２のマスクパターン２８Ｂは、主光透過パターン２６ｃ１と、その周囲に配置された複数の補助光透過パターン２６ｃ２と、主光透過パターン２６ｃ１に配置された位相シフタＳとを有している。例文帳に追加

The second mask patterns 28B have main light transparent patterns 26c1, plural auxiliary light t transparent patterns 26c2 arranged at their circumferences and phase shifters S arranged on the main light transparent patterns 26c1. - 特許庁

本発明に係るフォトマスクは、ガラス基板１５と、該基板１５の上に配置された孤立ラインパターン１１ｃと、該孤立ラインパターン１１ｃの近傍に形成された位相シフタの補助パターン１３と、を具備するものである。例文帳に追加

The photomask has a glass substrate 15, an isolated line pattern 11c disposed on the substrate 15 and an auxiliary pattern 13 of a phase shifter formed near the isolated line pattern 11c. - 特許庁

また、第ｉ番目（i=1 〜N)の位相シフタθ_i とスラブ干渉領域５とを結ぶ光導波路の長さを、第１番目の導波路７の長さに比べて一定の導波路長δｌだけ順次短くする。例文帳に追加

Moreover, lengths of optical waveguides connecting the ith (i=1 to N) phase shifters θi and the slab interference area 5 are successively shortened by a fixed waveguide length δ1 as compared with the length of the first waveguide 7. - 特許庁

主パターン１０１は、露光光を部分的に透過させる第１の透過率を有する第１の半遮光部１０１Ａと、位相シフター１０１Ｂとから構成されている。例文帳に追加

The main pattern 101 has a half-shielding part 101A which partially transmits the exposure light and has a first transmittance, and a phase shifter 101B. - 特許庁

照明光がシフター側壁の影響を実質上受けることなく、且つパターン形状によらず露光寸法精度向上が可能となる位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask which enables an improvement in exposure dimensional accuracy without allowing illumination light to substantially receive the influence of shifter side walls and without depending on pattern shapes. - 特許庁

導波路型偏波分離・合成器１は、アーム５、６のそれぞれに幅w1の導波路１１と幅w2の導波路１２が具備されており、それぞれの導波路には別の熱光学位相シフタ１３、１４を備えている。例文帳に追加

The waveguide type polarization separator/multiplexer 1 has a waveguide 11 with a width w1 and a waveguide 12 with a width w2 at arms 5 and 6 respectively, and the respective waveguides are equipped with different thermooptic phase shifters 13 and 14. - 特許庁

内燃機関用のバルブ動作システムは、油圧位相シフタを備えたバルブシステムの動作によって選択的に動作不能にされる複数の吸気・排気バルブ操作部２２、２６を駆動するカムシャフト１４を備えている。例文帳に追加

A valve operating system for an internal combustion engine is provided with a camshaft 14 driving a plurality of intake and exhaust valve operators 22, 26 which may be selectively disabled through operation of a valve system including a hydraulic phase shifter. - 特許庁

透明基板をドライエッチングによって形成した位相シフトマスクパターンのパターン検査において、エッチング表面が多孔質化された状態を計測することによって不完全なシフターパターン部を検出する。例文帳に追加

When a phase shift mask pattern formed by dry-etching a transparent substrate is inspected, a state wherein an etched surface is made porous is measured to detect an incomplete shifter pattern part. - 特許庁

方向性結合器や光位相シフターなどが不要な比較的簡単な構成を有して光タップまたは／及びＡＤＤ機能を実現できる光伝送装置である。例文帳に追加

To obtain an optical transmission device having a relatively simple constitution eliminating the necessity of having a directional coupler and an optical phase shifter and an optical tap and/or an ADD functions are realized. - 特許庁

検査パターン４００は，コンタクトホールである光透過部４２０と，位相シフタ４１０とで形成し，この半導体製造用マスク１００を用いて露光を行いディンプル発生の有無を検査する。例文帳に追加

The inspection pattern 400 is formed of a light transmission part 420 which is a contact hole and of a phase shifter 410 and exposure is performed by using this mask 100 for semiconductor manufacture to inspect whether there is a dimple. - 特許庁

マスクパターンは、露光光に対して所定の透過率を有する半遮光部と、半遮光部に設けられた開口部に配置された位相シフターとを備えている。例文帳に追加

The mask pattern has a semi-shielding part having specified transmittance for exposure light and a phase shifter disposed in an opening formed in the semi-shielding part. - 特許庁

利得調整回路１１により位相シフタ回路１３の利得が調整されて直交変調器１０の利得が調整され、直交変調器１０の出力信号がＡＧＣ回路に入力される。例文帳に追加

The gain of the phase shifter circuit 13 is adjusted by using the gain adjusting circuit 11, the gain of the modulator 10 is adjusted, and an output signal of the modulator 10 is inputted in an AGC circuit. - 特許庁

位相シフタは、下層感光性材料上に上層感光性材料を付すか、中間層非感光性材料と上層感光性材料を付して形成する。例文帳に追加

The phase shifter is formed by applying an intermediate nonphotosensitive material and/or an upper layer photosensitive material onto the lower layer photosensitive material. - 特許庁

フィードバック回路は積分デジタイサであるブロック４１７及び検出器であるブロック４１９を持ち調整可能な位相シフタとゼロクス検出器を備えている。例文帳に追加

A feedback circuit has a block 417 that is an integration digitizer and a block 419 that is a detector and is provided with an adjustable phase shifter and a zero-crossing detector. - 特許庁