「回転マーク」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

表面にアライメントマークが形成され、外周部に特異点を有し、フォトレジストが塗布されたウエハＷを回転ステージ６に載置し、特異点及びエッジ位置検知手段４によりウエハＷのエッジ位置およびノッチ等の特異点を検出する。例文帳に追加

The alignment mark is formed on a surface, the peripheral part has a singular point, the wafer W applied with photoresist is mounted on a rotary stage 6, and the edge position of the wafer W and the singular point, e.g. a notch or the like, is detected by a singular point and edge position detection means 4. - 特許庁

バーコードリーダ３１１を挟んで両側の第１および第２のポジションＣＲ６，ＣＲ６に位置されたＩＣトレイＣＲのそれぞれのバーコードマークＢＣを、回転装置３１２，３１３を作動してバーコードリーダ３１１の姿勢を制御することにより、単一のバーコードリーダ３１１により読み取る。例文帳に追加

The barcode marks BC on the IC trays CR located at first and second positions CR6, CR6 on both sides sandwiching the barcode reader 311 are read by one barcode reader 311 by operating the rotating devices 312, 313 for controlling the attitude of the barcode reader 311. - 特許庁

専用レチクルや専用の測定装置を必要とする投影倍率やショット回転の微小な変化ではなく、製品の不良に直結する大きな変化を即座に発見できるマークを備えるレチクルとそれを用いた半導体装置の製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a reticle, having a mark capable of finding out not fine changes of projection magnification and shot rotation requiring a dedicated reticle or a dedicated measuring device but a large change directly connected to a defective product in an instant, and to provide a manufacturing method of semiconductor device which uses the reticle. - 特許庁

マーキング工程は、ハブ部材２８の回転中心に対する当該ハブ部材２８の重心の偏位状態を示すアンバランス情報を取得して、このアンバランス情報を含む情報マークをハブ部材２８とベース部材の少なくとも一方に付する。例文帳に追加

The marking process obtains the unbalance information showing the deviation of the gravity center of the hub 28 from its revolution center and puts an information mark including the unbalance information at least on one of the hub 28 and the base. - 特許庁

実際の印画動作に先だって毎秒Ｎ_0パルスの基準の駆動信号でステップモータ１８を回転せしめ、その際ｎ個のマーク間隔に対して時間検出手段１６の出力がＴ秒であったとき、マイクロコンピュータ１７は印画のための毎秒Ｎ_1パルスの駆動信号を次式によって求めることを特徴とするプリンタ。例文帳に追加

A step motor 18 is rotated in accordance with a reference driving signal of pulses of N0/see prior to an actual printing operation. - 特許庁

外周に結晶方位を示すマークを備えた半導体ウエーハの裏面を研削又は研磨する半導体ウエーハの加工装置であって、回転可能な保持テーブルを有し、半導体ウエーハのマークを検出して半導体ウエーハを所定の向きに位置付ける位置合わせ手段と、研削又は研磨された半導体ウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナテーブルを有するスピンナ洗浄装置を備えている。例文帳に追加

The processing apparatus for the semiconductor wafer which grinds or polishes a reverse surface of the semiconductor wafer having a mark indicating crystal orientation at an outer periphery includes a positioning means having a rotatable holding table and detecting the mark of the semiconductor wafer to position the semiconductor wafer in the predetermined direction, and a spinner cleaning device having a spinner table for cleaning or spin-drying the semiconductor wafer having been ground or polished. - 特許庁

また、レーザトリミング位置決め用パターンを、半導体集積回路チップ内の既存のパッド領域内やブリーダ抵抗領域内に形成したり、スクライブラインの交点に配置して、半導体ウエハの回転方向に対する比較的荒い位置合せを行なうためのいわゆるシータマークの機能と、繰り返し配置された半導体集積回路一つ一つに対して正確な位置合せを行なうためのトリミングマークの機能とを兼用できる連続した構造として占有面積の縮小を図った。例文帳に追加

The occupied area is reduced by using a continuous structure in which is called the theta mark function for performing comparatively rough alignment against the direction of rotation of a semiconductor wafer and the trimming mark function for accurate alignment against the individual semiconductor integrated circuit that is repetitively arranged can be used for a double purpose. - 特許庁

レンズまたはレンズ群４０あるいは鏡筒３９を光軸上に複数個配置したレンズユニット３８において、前記複数個のレンズまたはレンズ群４０あるいは鏡筒３９の全てに、各レンズまたはレンズ群４０あるいは鏡筒３９の光軸を中心とした回転方向（γ方向）の位置を定めるための印（マーク）ＭＫ１，ＭＫ２を設ける。例文帳に追加

In the lens unit 38 having the plurality of lenses, lens groups 40, or lens barrels 39 arranged on the optical axis, the plurality of lenses, lens groups 40, or lens barrels 39 are all provided with marks MK1 and MK2 for determining positions in a direction (γ direction) of rotation around the optical axis of the respective lenses, lens groups 40, or lens barrels 39. - 特許庁

例えば、ポリゴンミラーと一体的に回転する円板１６０上に設けられた基準マーク１６１の通過がフォトインタラプタ１５１により検出されてから、走査ユニット製造装置２００側に設けられた検出センサ２２０によりレーザビームが検出されるまでの時間を、基準クロックのパルス数のカウント値として計測し、メモリ１８０に格納する。例文帳に追加

The time elapsing after passage of a reference mark 161 provided on a disc 160 rotating integrally with a polygon mirror is detected by a photointerrupter 151 before a laser beam is detected by a sensor 220 provided on the scanning unit manufacturing device 200 side is measured as the count of the number of pulses of reference clock and stored in a memory 180. - 特許庁

第１〜第３リールの内リールの停止後に入賞ライン上に停止されるシンボル２２の組合せが入賞でないときに外リールの回転及び自動停止を行い、外リールのマーク２５を内リールのシンボル２２に重複させ、そのシンボル２２の組合せにより入賞の有無を決定する。例文帳に追加

When combination of the symbols 22 stopped on a winning line after the inner reels 21 of the first to third reels are stopped is not a prize, the outer reels 24 are rotated and automatically stopped, the marks 25 on the outer reels 24 are superposed on the symbols 22 on the inner reels 21, and if a prize is won or not is determined based on combination of the symbols 22. - 特許庁

その長手方向を主走査方向とする原稿搬送ローラ１８に、その主走査方向に細長い白基準先頭マーク３８を有する白基準部位３７が設けられ、原稿読取りに先立って、この原稿搬送ローラ１８が回転することにより、ラインセンサでもってこの白基準部位３７が１ライン毎に順次読み取られてライン毎の画像信号が得られる。例文帳に追加

A white reference level 37, having a thin and long white reference head mark 38 in the main scanning direction, is provided to an original carrying roller 18 whose length direction is used for the main scanning direction; and turning the original carrying roller 18 before reading an original allows a line sensor to sequentially read the white reference level 37 by each line and to obtain an image signal by each line. - 特許庁

主面の回転対称な位置に複数組の識別符号及びアライメントマークが印字された検査用ウェーハを、自動で同複数片の検査サンプルに分割する分割工程と、該分割された検査サンプルの識別符号を検出し、自動で仕分けする仕分け工程を有することを特徴とする検査サンプルの作製方法及び同作製装置。例文帳に追加

A method and an apparatus for preparing inspection samples have each a step of automatically dividing an inspection wafer having a plurality of sets of identifying codes and alignment marks printed at rotationally symmetric positions on the main surface into the same plurality of inspection samples, and a step of detecting the identifying codes of the divided inspection samples and automatically classifying them. - 特許庁

前記第１バランサーシャフト４の一端側と第２バランサーシャフト５の一端側との一方または両方とハウジング１の外面に、第１バランサーシャフト４と第２バランサーシャフト５との相対回転位置をハウジング１の外面側から確認可能な位置合わせマーク２５，２６を設けた。例文帳に追加

Alignment marks 25, 25 enabling the mutual rotational positions of the first balancer shaft 4 and the second balancer shaft 5 to be confirmed from the outer surface side of the housing 1 are formed on either or both of the one end side of the first balancer shaft 4 and the one end side of the second balancer shaft 5 and on the outer surface side of the housing 1. - 特許庁

制御装置５０は、撮像装置３３で撮像された載置面ＳＦの基準マークに対する第３のレーザー光ＬＢ３の位置ずれ量及び回転ずれ角度、並びに第１及び第２の傾斜センサ３１、３２で検出された投光器１０の傾きに基づいて、投光器１０から照射される可視光線束の方向を補正する。例文帳に追加

The control device 50 is configured to correct the direction of a visible ray flux emitted from the projector 10 based on the position deviation value and rotational deviation angle of the third laser beam LB3 with respect to the reference mark of a placement face SF imaged by the imaging device 33 and the inclination of the projector 10 detected by the first and second inclination sensors 31 and 32. - 特許庁

互いに所定の接触圧で接触して逆回転し、かつ、表面にクランプ溝１４が形成された印刷胴１０に、クランプ溝１４同士が会合する周期に合わせて、このクランプ溝１４の反対方向に曲げ変形を発生させる曲げ変形発生手段２０を設けた印刷機のショックマーク防止装置１とする。例文帳に追加

In the shock mark preventing apparatus of a printing press, bending deformation generating means 20 are provided on printing cylinders 10 brought to a mutual contact state under predetermined contact pressure to rotate reversely and having clamp grooves 14 formed on the surfaces thereof so as to generate bending deformation in the direction opposite to the clamp grooves 14 in matching relation to the mutually associated cycle of the clamp grooves 14. - 特許庁

描画位置合わせ機能において描画対象物のアライメントマークを撮影するためのアライメントカメラの光軸回転方向の位置ズレを校正可能とし、描画対象物に対する描画位置ずれの補正精度を向上することができる描画装置および描画装置の校正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing device in which an alignment camera for photographing an alignment mark of an object to be drawn can be calibrated by a drawing positioning function as to a position shift in an optical-axis rotational direction and which can improve correction precision of a drawing position shift on the object to be drawn, and a calibrating method for the drawing device. - 特許庁

走査露光装置における露光スリット内に同時に含まれる複数のマーク像の重ね合わせ誤差に含まれるスケーリング成分、オフセット成分、回転成分などの１次成分のみを、露光装置の性能に関係する成分として抽出し、それ以外の成分はウエハの変形などの露光装置の性能には無関係な成分として除去する。例文帳に追加

Only primary components such as a scaling component, an offset component and a rotary component included in the superposition error of a plurality of mark images included simultaneously in the exposure slit in a scanning exposure device are extracted as components related to the performance of the exposure device and other components are removed as components unrelated to the performance of the exposure device such as deformation of a wafer. - 特許庁

選択されるべき数字、マーク又は絵柄群の各総数と同じ数の穴（３）を円筒型容器の底部床面の内側壁に平行する円周上に均等形状、均等間隔にあけ、容器の中に球体（７）をいれて蓋（６）をした後、容器全体をゆり動かし、中の球体を回転流動させる。例文帳に追加

Holes 3 of the same number of the total number of a group of figures, marks or patterns to be selected are bored in the circumference parallel to the inside wall of the bottom floor surface of a cylindrical vessel in an equal shape and at equal intervals, a ball 7 is put in the vessel and lidded 6, and the whole vessel is shaken to rotate the ball. - 特許庁

所定軸Ｊ周りに回転しつつ基板Ｐ上にパターンＭＰの像を形成するためのマスクＭであって、パターンＭＰが形成され、所定軸Ｊ周りに配置されたパターン形成面ＭＦと、パターン形成面ＭＦの所定領域にパターンＭＰに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。例文帳に追加

A mask M, for forming an image of a pattern MP on a substrate P while rotating around a predetermined axis J, comprises; a pattern formation surface MF disposed around the predetermined axis J on which the pattern MP is formed; and a mark, formed in a predetermined positional relationship with the pattern MP in a predetermined area of the pattern formation surface MF, for acquiring positional information. - 特許庁

これにより、本来、回路パターンの印刷精度を向上させるために設けられているターゲットマーク３０を画像処理装置２５で検知することにより、基板本体Ａの位置がずれている場合のみならず、平面対角線交点Ｐ０を中心として基板本体Ａが回転して向きが規定の向きからずれている場合も検知できる。例文帳に追加

The target marks 30 are formed primarily to improve precision in printing a circuit pattern, and are detected by an image processor 25 to detect not only a shift in the position of the board body A but also a shift in the direction of the board body A from a specified direction, which results from the rotation of the board body A with respect to the diagonal intersection P0. - 特許庁

本発明は、所定の強度以上でなる光である光ビームＬＢが照射されることにより情報を記録マークＲＭとして記録する光ディスクとしての未初期化光ディスク１００Ｘに対して初期化用基準盤２００が一体化ディスク１００Ｇとして一時的に固定された状態でなる一体化ディスク１００Ｇを回転させる。例文帳に追加

An integration disk 100G where a reference plate 200 for initialization is temporarily fixed as an integration disk 100G to an uninitialized optical disk 100X working as an optical disk for recording information as a recording mark RM is rotated by applying the light beam LB having not less than prescribed intensity. - 特許庁

ゲーム画面上でリール画像の回転動作と停止動作を行う回胴式遊技機のシミュレーションゲームにおいて、軌道上の所定位置に配置されたターゲットと、リール画像の回転動作の際に、図柄列上における特定の図柄がリール画像として表示されるタイミングに合わせてターゲットが配置される位置に到来するように軌道上において移動表示されるガイドマークとを有するタイミングゲージを表示させる。例文帳に追加

This simulation game of the reel type game machine executing a rotating operation and a stop operation of reel pictures on a game screen displays timing gages having targets disposed on prescribed positions on tracks and guides marks movingly displayed on the tracks to reach positions where the targets are disposed, at the timings of displaying specific symbols as the reel pictures on a symbol row, when rotatingly moving the reel pictures. - 特許庁