「波面」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目)

光学系を透過した光を用いて、当該光学系の波面収差を測定する収差測定装置であって、前記光から前記光学系の波面収差を含む波面及び球面波を生成する第１のマスクと、前記光から前記光学系の波面収差を含む波面を生成する第２のマスクと、前記第１のマスク及び前記第２のマスクを切り替える切り替え手段とを有することを特徴とする収差測定装置を提供する。例文帳に追加

The equipment for measuring wave aberration of an optical system using a light passed through the optical system comprises a first mask generating a wavefront including wave aberration of the optical system and a spherical wave from that light, a second mask generating a wavefront including wave aberration of the optical system from that light, and a means for switching the first and second masks. - 特許庁

前記加工工程において、前記計測工程で計測された投影光学系の波面収差と前記推定工程で推定された投影光学系の波面収差の変化量とに基づいて、投影光学系の波面収差を低減するように前記少なくとも一つの光学素子の少なくとも一つの表面の形状を加工する。例文帳に追加

In the processing step, the shape of at least one surface of the at least one optical element is processed to reduce the wavefront aberration of the projection optical system based on the variation of the wavefront aberration of the projection optical system measured by the measurement step, and the wavefront aberration of the projection optical system estimated by the estimation step. - 特許庁

例文

ミラーの表面形状を変化させることにより波面収差を補正する波面収差補正装置であって、ミラーの表面形状を変化させるための補正ユニットを複数有し、補正ユニットは、ミラーの側面に配置されたアクチュエータと、ミラーの裏面に接続される力作用部材と、アクチュエータと力作用部材を接続するための力伝達機構と、を有することを特徴とする波面収差補正装置。例文帳に追加

A wavefront aberration correction apparatus, which corrects wavefront aberration by changing a surface profile of a mirror, has a plurality of correction units for changing the surface profile of the mirror, and the correction unit has an actuator disposed on a side face of the mirror, a force applying member connected to a back of the mirror, and a force transmission mechanism for connecting the actuator with the force action member. - 特許庁

例文

被写体光を導くためのレンズ群と波面コーディング光学系とで構成される光学系と、光学系を透過した被写体光を光電変換する撮像素子と、を有し、撮像素子に対し、波面コーディング光学系の光軸周りの回転方向の位置決めを行う波面コーディング画像形成装置とする。例文帳に追加

The wavefront coding image forming apparatus has: an optical system constituted of a lens group and a wavefront coding optical system for guiding subject light; and an imaging device photoelectrically converting the subject light transmitted through the optical system, and performs positioning in a rotating direction around an optical axis of the wavefront coding optical system relative to the imaging device. - 特許庁

対物レンズの中央領域と周辺領域共に、波長λ０に関してブレーズ化された回折輪帯を有する回折構造を形成したことによって、周辺領域でも輪帯形状に応じた波面収差が生ずるが、周辺領域における波面収差の位相と、中央領域における波面収差の位相とを実質的に一致させることができる。例文帳に追加

In an objective lens, forming a diffraction structure having a diffraction ring zone blazed with respect to a wavelength λ0 in both a central area and a peripheral area of the objective lens causes wave aberration corresponding to the ring shape even in the peripheral area, but the wave aberration phase in the peripheral area can substantially coincide with that in the central area. - 特許庁

本発明に係る光波面制御パターン生成装置１は、再生像表示部３０に表示された再生像を検知する再生像検知部４０と、再生像検知部４０によって検知された再生像についての評価を行い、評価結果が所定条件を満たすように光波面制御パターンに対して変更処理を施すことによって、最適な光波面制御パターンを生成する最適化部５０とを具備する。例文帳に追加

The optical wavefront control pattern generating apparatus 1 is provided with a reproduced image detecting part 40 for detecting a reproduced image displayed on a reproduce image display part 30, and an optimizing part 50 which evaluates the reproduced image detected by the reproduced image detecting part 40 and generates an optimum optical wavefront control pattern by performing a changing process to an optical wavefront control pattern so as to have the evaluation results satisfy prescribed conditions. - 特許庁

転写光学系２４は、発振器取り出しミラー２が熱の影響を受ける前の発振器取り出しミラー直後のビーム波面曲率と、発振器取り出しミラー２が熱の影響を受けた後のビーム波面曲率との平均値の波面曲率をもったビームの幾何光学的な焦点位置を非球面レンズ４の上に転写する。例文帳に追加

The transfer optical system 24 transfers a geometrical optical focal position of a beam having a wavefront curvature that is a mean value of a beam wavefront curvature just behind the fetching mirror of the oscillator before the fetching mirror 2 of the oscillator is influenced by heat and a beam wavefront curvature after the fetching mirror 2 of the oscillator is influenced by heat on the aspherical lens 4. - 特許庁

制御装置２０の波面制御部２０ｄは、所望の収差をキャンセルするための収差キャンセルパターンのデータに基づいて波面成形光源１０の位相変調モジュール１００を制御し、レンズＬの当該所望の収差に対する寄与度を判定するために必要な波面を有する検出光を生成させ、レンズＬに照射させる。例文帳に追加

A wavefront control part 20d of a control device 20 controls a phase modulation module 100 of a wavefront forming light source 10 based on data of an aberration cancel pattern for canceling desired aberration, generates detection light having the wavefront required for determining the contribution degree to the desired aberration of the lens L, and allows the lens L to be irradiated therewith. - 特許庁

レーザ光の強度分布を任意の強度分布に整形することと、レーザ光の波面を制御することとを両立するレーザ光整形及び波面制御用光学系において、レーザ光を拡大又は縮小するために光学レンズの加工時間が増加することを抑制するレーザ光整形及び波面制御用光学系を提供する。例文帳に追加

To provide an optical system for laser beam shaping and wavefront control that performs both shaping of the intensity distribution of laser beams into optional intensity distribution and control of wavefronts of the laser beams, and that suppresses increase in time for processing an optical lens for enlarging or reducing the laser beams. - 特許庁

更に、全ての指向性アンテナの中で干渉の影響が最も大きい指向性アンテナを選択し、該指向性アンテナの偏波面を回転させて干渉の影響が最も小さい位置を決定し、該指向性アンテナの偏波面の回転位置に基づき全ての指向性アンテナについて、隣接する２つの指向性アンテナの偏波面が互いに直交するように制御することも好ましい。例文帳に追加

Further, a directional antenna, having the greatest influence of interference, is selected from among all directional antennas, the polarization surface of the directional antennas is rotated for determining a position where the influence of interference is minimized, and control is made, so that the polarization surfaces of two adjacent directional antennas orthogonally cross each other for all directional antennas, based on the rotation position of the polarization surface of the directional antennas. - 特許庁