例文 (587件) |
錫法の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 587件
高濃度酸化錫ITO焼結体およびその製造方法例文帳に追加
HIGH CONCENTRATION TIN OXIDE ITO SINTERED COMPACT, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁
パワーデバイスとその製造方法ならびに錫基はんだ材料例文帳に追加
POWER DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF AS WELL AS TIN BASE SOLDER MATERIAL - 特許庁
錫含有粒状磁性酸化物粒子およびその製造方法例文帳に追加
SILVER-CONTAINING PARTICULATE MAGNETIC OXIDE PARTICLE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME - 特許庁
鉄、錫含有銅処理炉の炉底堆積物の除去方法例文帳に追加
METHOD FOR REMOVING DEPOSIT ON FURNACE BOTTOM IN IRON AND TIN-CONTAINING COPPER TREATMENT FURNACE - 特許庁
銀−錫ハンダによるガラス等の合わせ面のシーリング方法。例文帳に追加
METHOD OF SEALING MATING FACE OF GLASS OR THE LIKE WITH SILVER-TIN SOLDER - 特許庁
Si含有化成皮膜を有する錫系めっき鋼板の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING TINNED STEEL SHEET HAVING Si-CONTAINING CHEMICAL CONVERSION FILM - 特許庁
錫イオンを含有する金属溶液と還元剤水溶液を混合し、粉末を還元析出させるハンダ粉末の製造方法において、金属溶液は、第一錫イオンと第二錫イオンの双方を含み、第二錫イオンの含有割合は、第一錫イオンと第二錫イオンの合計100モル%に対して0.5〜30モル%にすることを特徴とする。例文帳に追加
In the method for producing solder powder by mixing a tin ion-containing metal solution with a reducing agent aqueous solution to reduce and precipitate powder, the metal solution contains both of stannous ions and stannic ions, and the containing ratio of the stannic ions is 0.5 to 30 mol% to the total 100 mol% of the stannous ions and the stannic ions. - 特許庁
従来からの問題を是正した、インジウムナノワイヤに錫を所定量、均一に固溶させたインジウム−錫ナノワイヤ、およびこのインジウム−錫ナノワイヤを酸化して形成するインジウム−錫酸化物(ITO)ナノワイヤの提供と、このインジウム−錫ナノワイヤとインジウム−錫酸化物(ITO)ナノワイヤを簡便にかつ安価に製造する製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide an indium-tin nanowire in which conventional problems are corrected, and solid-solution of a prescribed amount of tin into an indium nanowire is uniformly carried out, an indium-tin oxide (ITO) nanowire formed by oxidizing the indium-tin nanowire, and to provide a method for easily and inexpensively producing the indium-tin nanowire and indium-tin oxide (ITO) nanowire. - 特許庁
インジウムイオンと錫イオンとを含有する酸性水溶液を、錫イオンを金属錫にすることにより該酸性水溶液から錫イオンを実質的に除去できる量の電流を流して電解処理することによって、金属錫を析出させ、析出した金属錫を除去することを特徴とするインジウムイオン含有水溶液の製造方法。例文帳に追加
In the method of producing an indium ion-containing aqueous solution, an acid aqueous solution comprising indium ions and tin ions is subjected to electrolytic treatment by making electric current flow by the quantity to substantially remove the tin ions from the acid aqueous solution by converting the tin ions into metallic tin, thus metallic tin is deposited, and the deposited metallic tin is removed. - 特許庁
錫・白金複酸化物およびその製造方法、錫・タングステン複酸化物およびその製造方法、並びに錫・レニューム複酸化物およびその製造方法例文帳に追加
TIN-PLATINUM DOUBLE OXIDE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME,TIN-TUNGSTEN DOUBLE OXIDE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND TIN-RHENIUM DOUBLE OXIDE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
酸化インジウム−酸化錫粉末及びそれを用いたスパッタリングターゲット並びに酸化インジウム−酸化錫粉末の製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE-TIN OXIDE POWDER, SPUTTERING TARGET USING IT, AND METHOD OF MANUFACTURING INDIUM OXIDE-TIN OXIDE POWDER - 特許庁
電着錫中のFe品位を低下させることができるとともに、電解後の液を再使用することができる、錫の電解採取方法を提供する。例文帳に追加
To provide an electrowinning method for tin, by which the Fe-grade in electrodeposited tin can be reduced and an electrolytic solution can be reused after electrolysis. - 特許庁
棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法、及び棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING ROD-LIKE ELECTROCONDUCTIVE TIN-CONTAINING INDIUM OXIDE FINE POWDER AND ROD-LIKE ELECTROCONDUCTIVE TIN-CONTAINING INDIUM OXIDE FINE POWDER - 特許庁
錫−銀合金めっき皮膜の製造方法及び錫−銀合金めっき皮膜及びそれを備えた電子部品用リードフレーム例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING TIN - SILVER ALLOY PLATED FILM, AND TIN - SILVER ALLOY PLATED FILM, AND LEAD FRAME FOR ELECTRONIC COMPONENT THEREWITH - 特許庁
黒色度、光遮蔽性に優れ、しかも安価な錫微粒子の製造方法及び錫微粒子を提供する。例文帳に追加
To provide a method for inexpensively producing a tin particulate having excellent blackness and light shielding properties, and to provide a tin particulate. - 特許庁
銅電解液中に含まれる錫を安全に効率よく分離回収可能な錫を含む電解液の浄液方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for purifying an electrolytic solution containing tin, which can safely and effectively separate and recover tin contained in a copper electrolytic solution. - 特許庁
電解液中の鉛の除去効果に優れ、高純度錫の錫を得ることができる電解精製方法と装置を提供する。例文帳に追加
To provide an electrolytic refining method for obtaining high-purity tin, superior in a removal efficiency for lead in an electrolytic solution, and an apparatus therefor. - 特許庁
一浴の電解めっき浴によって銅−錫銅合金積層皮膜を形成し得る銅−錫銅合金積層膜の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing a multilayer film of copper-tin/copper alloy, which can form the multilayer film by electrolytic plating in one bath. - 特許庁
非鉄製錬工程中間物から、錫を鉛や砒素と分離し、錫回収を効率的に行う湿式処理方法を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a wet type treating method by which tin is separated from lead and arsenic in an intermediate at a nonferrous refning stage, and the recovery of tin is efficiently performed. - 特許庁
透明な塊状の酸化錫であって、好ましくは導電性および多孔性を有する酸化錫とその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a tin oxide which is a transparent lump tin oxide and preferably has conductivity and porosity, and a method for producing the same. - 特許庁
錫及び錫合金半田めっきにおいて、ウィスカーの発生を抑制することのできる、めっき液、めっき膜及びその作製方法を提供する。例文帳に追加
To provide a plating liquid capable of suppressing the generation of whiskers in tin and tin alloy solder plating, to provide a plating film, and to provide a method for producing the same. - 特許庁
錫めっき浴の濃度を一定に維持管理するための簡便で経済的な不溶性陽極を使用する錫めっき方法を提供する。例文帳に追加
To provide a tinning method using a simple and economical insoluble anode for fixedly maintaining the concentration of a tinning bath. - 特許庁
この錫メッキ層は、溶融メッキ法で形成され、溶融錫61に浸漬した後、ダイス62のダイス穴63を通過させる。例文帳に追加
The tin plated layer is formed by a hot-dip plating method and the wire rod is immersed in molten tin 61 and then, is passed through a dice hole 63 of dice 62. - 特許庁
ガラス基板上に四塩化錫を原料として熱分解法により厚さ500〜1000nmの酸化錫膜を形成し、前記酸化錫膜を、非酸化雰囲気で300〜650℃で熱処理することを特徴とする酸化錫膜付きガラス基体の製造方法。例文帳に追加
The glass substrate with the tin oxide film is manufactured by forming the tin oxide film of a thickness 500 to 1,000 nm by a pyrolysis method using a tin tetrachloride as a raw material on a glass substrate and heat-treating the tin oxide film at 300 to 650°C in a nonoxidizing atmosphere. - 特許庁
錫アノードを用いた電解精製による電気錫の製造方法であって、電解液の酸化還元電位(銀/塩化銀電極基準)を−800mV以上に制御しながら電解精製を実施することを含む電気錫の製造方法。例文帳に追加
The method of manufacturing the electric tin by electrolytic refining, using the tin anode, includes the execution of the electrolytic refining while controlling the oxidation-reduction potential of the electrolytic solution (silver/silver chloride electrode reference) to be -800 mV or more. - 特許庁
二酸化錫粉末及び水酸化第二錫粉末から選ばれる少なくとも一種の錫化合物粉末と窒化珪素粉末とを混合した後、非酸化性雰囲気下で加熱焼成することを特徴とする珪素含有二酸化錫粉末の製造方法である。例文帳に追加
A method for producing silicon-containing tin dioxide powder comprises the steps of: mixing at least one kind of tin compound powder selected from tin dioxide powder and stannic hydroxide powder with silicon nitride powder; and heating/firing the obtained mixture under a non-oxidizing atmosphere. - 特許庁
アポフェリチンと、錫イオンと、を含み、pHが4以下の原料溶液に、錫の酸化還元電位より負側の電位を有する還元剤(例えばNaBH_4)を添加することで、前記アポフェリチンの内腔部で錫ナノ粒子を形成することを特徴とする錫ナノ粒子の製造方法。例文帳に追加
The method for producing tin nanoparticles is characterized in that a reducing agent having a potential on the negative side than the oxygen-reduction potential of tin (such as NaBH_4) is added to a raw material solution which contains apoferritin and tin ions and has pH of ≤4, for forming silver nanoparticles at the inner lumina part of the apoferritin. - 特許庁
酸化インジウム及び酸化錫を含有する塊状物から容易に高純度インジウムと粗錫を回収することを特徴とするインジウム及び錫の回収方法。例文帳に追加
To provide a method for recovering indium and tin, by which high purity indium and crude tin are recovered easily from agglomerates containing indium oxide and tin oxide. - 特許庁
酸化インジウム及び酸化錫を含有する塊状物から容易に高純度インジウムと酸化錫を回収することを特徴とするインジウム及び錫の回収方法。例文帳に追加
To provide a method for recovering indium and tin, by which high purity indium and tin oxide are recovered easily from agglomerates containing indium oxide and tin oxide. - 特許庁
水アトマイズ法により得られる不規則状の錫粉末及び/又は錫合金粉末を含む金属成分と、熱可塑性ポリウレタン樹脂及び/又はポリウレタン系熱可塑性エラストマーとを含有する研磨パッド形成用錫組成物。例文帳に追加
The tin composition for polishing pad formation contains a metal component including irregular tin powder and/or tin alloy powder obtained by a water atomization method, and thermoplastic polyurethane resin and/or polyurethane-based thermoplastic elastomer. - 特許庁
錫アノードを用いた電解精製による電気錫の製造方法において、次第に電解液が変色し、それに伴い錫メタルの電着状態が悪化するという問題を解決する。例文帳に追加
To solve such a problem in a method of manufacturing an electric tin by electrolytic refining, using a tin anode, that the electrodeposition condition of a tin metal deteriorates, accompanied with the gradual discoloration of an electrolytic solution. - 特許庁
不純物としてSbを含む錫含有塩基性溶液中のSb濃度を短時間で十分に低下させて効率的に錫を回収することができる、錫の回収方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for recovering tin where, in a tin-containing basic solution comprising Sb as impurities, the Sb concentration can be sufficiently reduced in a short time, and tin can be efficiently recovered. - 特許庁
有害な鉛を含まず、優れたはんだぬれ性を有する錫電気めっき液、およびそのような錫電気めっき液を用いて電子部品等に錫被膜を堆積する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a tin electroplating liquid which does not comprise harmful lead, and has excellent solder wettability; and also to provide a method for depositing a tin film on an electronic component or the like using the tin electroplating liquid. - 特許庁
錫又は錫を主体とした鉛を含有しない金属メッキが施された小型・高密度パッケージング電子部品であるコネクタや端子から、錫メッキの針状ウィスカの発生を抑制する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for inhibiting an acicular whisker from forming in a tin plating film on a connector or a terminal which is a small and high-density packaged electronic component plated with tin or a metal mainly containing tin and no lead. - 特許庁
還元型の無電解錫めっき浴を用いて、プリント配線基板に適した処理条件で、所望とする膜厚を有する錫めっき皮膜を形成させるための錫めっき皮膜の成膜方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for film deposition of a tin-plated film capable of depositing the tin-plated film having a desired thickness under the processing condition suitable of a printed circuit board by using a reduction type electroless tin-plating bath. - 特許庁
酸化インジウム及び酸化錫を含有する塊状物から容易に高純度インジウムと粗錫を回収することを特徴とするインジウム及び錫の回収方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of recovering indium and tin by which high purity indium and crude tin are easily recovered from a block object containing indium oxide and tin oxide. - 特許庁
加熱した基体上に、気化した塩化錫、酸化ガスおよび気化したアンモニア類を含有する原料ガスを吹き付けて酸化錫を成膜する、酸化錫膜付き基体の製造方法。例文帳に追加
Disclosed is the method of manufacturing substrate with tin oxide film, wherein the tin oxide is subjected to film formation while spraying a raw material gas containing gasified tin chloride, oxidizing gas and gasified ammonia or the like onto the heated substrate. - 特許庁
通電ロールへの金属錫の析出を効果的に抑制することができる錫めっき鋼帯の製造方法と、その製造に用いる水平型錫めっきセルを提供する。例文帳に追加
To provide a method of producing tinned steel strip, in which the deposition of metal tin on a conductive roll is efficiently suppressed, and a horizontal tinned cell to be used for the production. - 特許庁
原料となる錫を酸で浸出させた後、この浸出液を電解液とし、該電解液に不純物の吸着材を懸濁させ、原料Snアノードを用いて電解精製を行う、錫合金及び高純度錫の製造方法。例文帳に追加
The process for producing the tin alloy and the high purity tin comprises: leaching the tin as the raw material with acid; using this leached solution as an electrolytic solution to suspend an absorbing material for impurity in this electrolytic solution; and performing electro-refining by using a raw material Sn anode. - 特許庁
配線の表面全面に錫めっきを形成し、前記錫めっき上に部分的に、前記錫めっきと異なる機能めっきを形成する配線基板の製造方法において、前記機能めっきのはがれを低減する。例文帳に追加
To reduce the separation of functional plating in a process for producing a wiring board in which tin plating is formed on the entire surface of a wiring and then the functional plating different from the tin plating is formed partially on the tin plating. - 特許庁
錫または錫合金からなる錫めっき層を含むめっき皮膜において、ウィスカの発生及び成長を極力抑制することができるようにする方法の提供。例文帳に追加
To provide a method by which the generation and growth of whiskers in a plated coating including a tin-plated layer comprising tin (Sn) or a tin alloy can be suppressed to the utmost. - 特許庁
低温と高温が繰り返されるような環境下においても、ウィスカの発生が抑制された錫めっき皮膜を提供でき、しかも広い電流密度範囲において適用可能な錫めっき浴および錫めっき方法を提供する。例文帳に追加
To provide a tinning bath and a tinning method capable of providing a tinning film in which the generation of whiskers is suppressed even in an environment in which low temperature and high temperature are repeated and also applicable in a wide current range. - 特許庁
高密度化及び高容量化が必要な半導体装置で使用されるはんだ材料に対し、α線の少ない高純度錫または錫合金若しくは高純度錫の製造方法の提供。例文帳に追加
To obtain a high-purity tin or a tin alloy having low α-ray dose for a solder material used for s semiconductor device requiring high density and high volume, and to provide a process for producing the high-purity tin. - 特許庁
本発明の目的は、乾式精錬において、粗銅中の錫含有量を低レベル化できるようにし、また、錫の含有量を0.33mass-%以下とすることが可能である乾式精錬による粗銅中の錫除去方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for removing tin in crude copper by dry type refining where the content of tin in crude copper can be made into a low level, and further, the content of tin can be controlled to ≤0.33 mass%. - 特許庁
Crを用いず、錫めっき表面の酸化に起因する外観の劣化や塗料密着性の低下を抑制でき、しかも安価に化成処理が可能な錫めっき鋼板の製造方法および錫めっき鋼板を提供する。例文帳に追加
To provide a process for producing a tin-plated steel plate which can suppress the deterioration of the appearance caused by oxidation in a tin-plated surface without using Cr, and further, can be inexpensively subjected to chemical conversion treatment, and to provide a tin-plated steel plate. - 特許庁
被めっき物上に錫めっき皮膜を形成させるための無電解錫めっき方法において、少なくとも、錫化合物と、還元剤としての水素化ホウ素化合物とを含有する無電解錫めっき浴を用いて、上記水素化ホウ素化合物による還元反応により錫めっき皮膜を形成させることを特徴とする。例文帳に追加
In the electroless tin plating method for forming a tin plating film on a material to be plated, the tin plating film is formed by the reduction reaction by a borohydride compound, using an electroless tin plating bath containing at least a tin compound and a borohydride compound as a reducing agent. - 特許庁
大型寸法の耐火レンガ、特に錫浴底用レンガおよびその製造方法例文帳に追加
LARGE SCALE FIRE BRICK, ESPECIALLY BRICK FOR BOTTOM OF TIN BATH, AND ITS PRODUCTION - 特許庁
錫めっき手法を活用して作製した光触媒膜及び光触媒材の製造方法例文帳に追加
PHOTOCATALYTIC FILM PRODUCED BY MAKING GOOD USE OF TIN-PLATING TECHNIQUE AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOCATALYTIC MATERIAL - 特許庁
錫系合金の電解メッキ処理方法ならびに電解メッキ浴の管理方法例文帳に追加
ELECTROPLATING METHOD FOR TIN-BASE ALLOY AND METHOD OF MANAGING ELECTROPLATING BATH - 特許庁
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