Beam Lineの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1573件
To easily adjust the scanning line interval of a multi-beam light source unit.例文帳に追加
マルチビーム光源ユニットの走査線間隔を容易に調整する。 - 特許庁
The shielding member has an opening on the scanning line of a laser beam.例文帳に追加
遮蔽部材は、レーザ光の走査線上に開口部を有する。 - 特許庁
The planar beam forms thereby a line on the reference surface.例文帳に追加
前記平らなビームは従って、前記基準面に線を形成する。 - 特許庁
The first light line of the interference pattern is utilized as a scanning beam.例文帳に追加
この干渉縞の最初の明線を走査ビームとして使用する。 - 特許庁
3. Oscillators with a laser beam spectral line width of 0.005 nanometers or less 例文帳に追加
(三) レーザー光のスペクトル線幅が〇・〇〇五ナノメートル以下のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
LASER LINE BEAM IRRADIATION METHOD AND DEVICE IN LASER MARKER例文帳に追加
レーザー墨出し器におけるレーザーライン光照射方法および装置 - 特許庁
ON-LINE MONITORING METHOD AND APPARATUS FOR WELDING ACCURACY OF LASER BEAM WELDING MACHINE例文帳に追加
レーザービーム溶接機の溶接精度オンライン監視方法及び装置 - 特許庁
The two or more pieces of beam data and the two or more pieces of line data are transferred to an image processor 30 and stored in a beam memory 32 and a line memory 34.例文帳に追加
複数のビームデータと複数のラインデータは、画像プロセッサ30に転送されてビームメモリ32とラインメモリ34に記憶される。 - 特許庁
Excitation light from a line beam light source multiplex assembly 1 becomes a line beam LB and is reflected by a plate rotary mirror 2.例文帳に追加
本発明では、ラインビーム光源多重アッセンブリー1からの励起光は、ラインビーム光LBとなり、平板の回転ミラー2で反射される。 - 特許庁
A scribe line of a substrate is scanned with a first laser beam that has a long beam spot in the extending direction of the scribe line, thereby forming a groove along the scribe line.例文帳に追加
基板のスクライブラインを、スクライブラインの延在する方向に長いビームスポットを持つ第1のレーザビームで走査することにより、スクライブラインに沿った溝を形成する。 - 特許庁
Opening part 40 where the center beam 38 does not exist is formed on same line as the center beam 38.例文帳に追加
このセンタービーム38と同一線上に、センタービーム38が存在しない空隙部40を形成する。 - 特許庁
LINE BEAM GENERATING OPTICAL SYSTEM, AND LASER MARKING APPARATUS MOUNTING THE SAME例文帳に追加
ライン光発生光学系及びそれを搭載したレーザ墨出し装置 - 特許庁
In the second step, the pulse laser beam is scanned along a planned dividing line.例文帳に追加
第2工程はパルスレーザ光を分断予定ラインに沿って走査する。 - 特許庁
To provide an electron beam lithography process which is reduced in line width variation.例文帳に追加
線幅変化が低減された電子ビーム・リソグラフィ・プロセスを提供する。 - 特許庁
To attain equalization of beam diameter within one line in the main scanning direction by enabling control of beam diameter within the one line in the main scanning direction.例文帳に追加
主走査方向1ライン内でビーム径を制御することができ、これによって主走査方向1ライン内でビーム径の均一化を可能にさせる。 - 特許庁
The ion beam emittance measuring mechanism 15 comprises an ion beam emittance measuring instrument 151 which is inserted into the passage of ion beam, that is, on a beam line at the time of measurement, and is controlled so as to be outside of the beam line at the time other than measurement, and can inspect at least divergence degree of ion beam.例文帳に追加
イオンビームエミッタンス測定機構15は、測定時にイオンビームの経路すなわちビームライン上に挿入され、測定時以外はビームラインから外れるように制御され、イオンビームの少なくとも発散度合いが検査可能なイオンビームエミッタンス測定器151を有する。 - 特許庁
The length of the transmission line of the laser beam from the terminating end of the optical fiber 11B to the laser beam head part 120 is determined so as not to substantially cause any stimulated scattering beam in the transmission line.例文帳に追加
光ファイバ11Bの終端からレーザヘッド部120までのレーザ光の伝送路の長さは、当該伝送路において誘導散乱光を実質的に生じさせない長さとされる。 - 特許庁
To provide a laser beam generator capable of prolonging the using time of a dry cell, a line beam generating optical system, and a laser marking device using the line beam generating optical system.例文帳に追加
乾電池の使用時間を長くすることができるレーザ光発生装置、ライン光発生光学系及びライン光発生光学系を用いたレーザ墨出し装置を提供すること。 - 特許庁
A pattern (2) is made up of a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from the LD0 and a horizontal line pattern 30 drawn by a light beam from the LD1.例文帳に追加
パターン(2)はLD0からのビームで描く傾き45°の斜め線パターン31と、LD1からのビームで描く水平線パターン30からなる。 - 特許庁
The photodiodes PD1 and PD2 are arranged along a light beam scanning line L.例文帳に追加
フォトダイオードPD1,PD2は、光ビーム走査ラインLに沿って配置される。 - 特許庁
The optical part 4 includes a first block 61 emitting a front vertical line beam L1 and a second block 62 emitting a side vertical line beam L3.例文帳に追加
光学部4は、正面垂直ライン光L1を出射する第1ブロック61と側面垂直ライン光L3を出射する第2ブロック62とを有している。 - 特許庁
LASER BEAM GENERATOR, LINE LIGHT GENERATING OPTICAL SYSTEM, AND LASER SETTING-OUT EQUIPMENT例文帳に追加
レーザ光発生装置、ライン光発生光学系及びレーザ墨出し装置 - 特許庁
SINGLE-CHAMBER GAS DISCHARGE LASER HAVING SEED BEAM WITH NARROWED LINE WIDTH例文帳に追加
ライン幅を狭められたシードビームを有する単一チャンバ式のガス放電レーザ - 特許庁
In this Roentgen ray diagnostic system, a line detector - camera 4 is placed facing a beam source 3.例文帳に追加
ビーム源3に対向してライン検出器−カメラ4が配置されている。 - 特許庁
A coordinate system, having an electron beam axial line (82) and a horizontal direction plane which crosses the electron beam axial line (82), is defined by using a receptacle-mounting flange (122).例文帳に追加
レセプタクル取付けフランジ(122)を使用して、電子ビーム軸線(82)と該電子ビーム軸線と交差する横方向平面とを有する座標系を確定する。 - 特許庁
Multiple ion beam line assemblies are arranged around a common processing chamber.例文帳に追加
複数のイオンビームラインアセンブリーが、共通処理チャンバーの周囲に配置される。 - 特許庁
The laser beam 3 is made into a line laser beam 3a by passing through the cylindrical lens 9 and applies a bending work to the workpiece W by moving (scanning) this line laser beam 3a along the bending line 11 of the workpiece W.例文帳に追加
レーザ光3は、シリンドリカルレンズ9を通過することで一方向に長いラインレーザ光3aとなり、このラインレーザ光3aをワークWの曲げ線11に沿って移動(走査)させることで、ワークWに対して曲げ加工を施す。 - 特許庁
The laser beam machining method comprises: a laser beam emission stage where a pulse laser beam is condensed and is emitted to the surface of a brittle material substrate; and a laser beam scattering stage where the laser beam is scanned along a scribe schedule line.例文帳に追加
このレーザ加工方法は、パルスレーザ光を集光して脆性材料基板表面に照射するレーザ光照射工程と、レーザ光をスクライブ予定ラインに沿って走査するレーザ光走査工程と、を含んでいる。 - 特許庁
Then the beam end side beams are configured so that a tilt angle based on the central major axis line of the load beam part is greater than that of the middle side beam.例文帳に追加
そして、前記基端側方梁を、前記中間側方梁よりもロードビーム部の中央長手軸線に対する傾斜角が大きいように構成する。 - 特許庁
To provide an ion beam device which can parallelize ion beams and separate energy, enabled to shorten a length of a beam line of the ion beam.例文帳に追加
イオンビームの平行化およびエネルギー分離を行うことができ、しかもイオンビームのビームライン長を短くすることを可能にしたイオンビーム装置を提供する。 - 特許庁
In the laser beam scanning step, the laser beam is scanned along the groove-planned line so that a beam overlapping rate is in the range of >60% but ≤85%.例文帳に追加
レーザビーム走査工程は、レーザビームを、ビーム重なり率が60%を越え85%以下の範囲になるように溝予定ラインに沿って走査する。 - 特許庁
When the injector flag Faraday cup 32 is inserted in the beam line and shields the ion beam, the ion beam abuts on graphite 32a provided at the injector flag Faraday cut 32.例文帳に追加
インジェクタフラグファラデーカップ32をビームラインに挿入してイオンビームを遮断すると、イオンビームがインジェクタフラグファラデーカップ32に設けられたグラファイト32aに当たる。 - 特許庁
To provide a white line detection device capable of consistently detecting a white line even when the solar beam is reflected by a road surface.例文帳に追加
太陽光が路面に反射する場合であっても、安定して白線を検出することができるようにする。 - 特許庁
A light beam moving from a document toward cells in the first line and cells in the second line is tilted in the sub scanning direction.例文帳に追加
原稿から第1列のセル及び第2列のセルへ進む光線は、副走査方向において傾斜している。 - 特許庁
Furthermore, the beam line magnet has linear drive, which make the permanent magnet move perpendicularly to the machine axis line.例文帳に追加
さらにビームライン磁石は、永久磁石を機械軸線に対して垂直に移動させるリニアドライブを有する。 - 特許庁
ASYMMETRIC MULTILAYER MEMBRANE, ITS MANUFACTURING METHOD AND BEAM LINE DEVICE FOR ANGIOGRAPHY例文帳に追加
非対称多層膜及びその製造方法並びにアンジオグラフィー用ビームライン装置 - 特許庁
MICROWAVE STRIP TRANSMISSION LINE, BEAM FORMING NETWORK, ANTENNA AND ITS PREPARATION METHOD例文帳に追加
マイクロ波ストリップ伝送線路、ビーム形成ネットワークとアンテナ及びその準備方法 - 特許庁
The laser beam generated from a laser light source 10 is converted into an incoherent line-like light beam by a micromirror device 15.例文帳に追加
レーザ光源(10)から発生したレーザビームをマイクロミラー装置(15)により非コヒーレントなライン状光ビームに変換する。 - 特許庁
A beam processor 20 performs reception processing to each of the two or more pieces of beam data and forms two or more pieces of line data.例文帳に追加
ビームプロセッサ20は、複数のビームデータの各々に対して受信処理を施して複数のラインデータを形成する。 - 特許庁
A laser beam is adjusted by a diffraction optical element, and the semiconductor layer near a separating schedule line is removed by the laser beam whose diameter is about 30 μm (B).例文帳に追加
回折光学素子でレーザビームを調整しビーム径約30μmで分離予定線付近の半導体層を除去した(B)。 - 特許庁
Next, a transmission beam 42 is formed on the line 36-2, and receiving beams 44-1 and 44-2 are formed for the transmission beam 42.例文帳に追加
次に、送信ビーム42がライン36-2上に形成され、これに対して受信ビーム44-1,44-2が形成される。 - 特許庁
To provide an optical scanner which does not allow beam widening to affect a line adjoining the sub-scanning direction, even if beam broadening exists.例文帳に追加
ビーム広がりがあっても副走査方向に隣接するラインに影響が出ない光走査装置を提供する。 - 特許庁
Within a laser beam line emitted from a laser beam source 11 which emits laser beams, the hologram board 16 is installed.例文帳に追加
レーザビームを出射するレーザ光源11から出射したレーザビームの光路内に、ホログラム板16が配置されている。 - 特許庁
A BD sensor 230 detects the laser beam at an end of the scanning line of the laser beam deflected by the polygon mirror 240.例文帳に追加
BDセンサ230は、ポリゴンミラー240で偏向したレーザ光の走査ラインの端部でこのレーザ光を検出する。 - 特許庁
Preferably, the coupling point of the proximal end side beam and the intermediate beam is positioned outside of the virtual straight line in a suspension width direction, and the coupling point of the distal end side beam and the intermediate beam is positioned inside of the virtual straight line in a suspension width direction.例文帳に追加
好ましくは、基端側梁及び中間梁の連結点が仮想直線よりもサスペンション幅方向外方に位置され、先端側梁及び中間梁の連結点が仮想直線よりもサスペンション幅方向内方に位置される。 - 特許庁
The misaligned portion of the edge line portion 101b becomes an optical path of a light beam L1.例文帳に追加
稜線部101bをずらした部分は光ビームL1の光路となっている。 - 特許庁
A pattern (1) is made up of a horizontal line pattern 30 drawn by a beam from a light source LD0 and a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from a light source LD1.例文帳に追加
パターン(1)は光源LD0からのビームで描く水平線パターン30と他の光源LD1からのビームで描く傾き45°の斜め線パターン31からなる。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DECIDING LINE START WRITE-IN POSITION AND POWER OF SCANNING LIGHT BEAM例文帳に追加
走査光ビ—ムのライン開始書き込み位置及びパワ—の決定方法及び装置 - 特許庁
For 2-dimension measurement of the object, a line beam is projected with the laser light source turned on so that the object is irradiated with the line beam for acquiring an image.例文帳に追加
被測定物の二次元測定を行うときは、レーザ光源を点灯したままライン光を走査し、被測定物をそのライン光で照明して画像を取得する。 - 特許庁
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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