「Distribution Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To contribute to the improvement of semiconductor product quality by obtaining a pattern of high dimensional uniformity for an arbitrary pattern, without being affected by an aberration distribution which originates from an electron beam exposure system.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に起因する収差分布の影響を受けることなく、任意のパターンに対して寸法均一性の高いパターンを得ることを可能とし、半導体製品の品質向上に寄与することを目的とする。 - 特許庁

To accurately detect an object pattern at high speed by extracting a partial region to perform pattern collation, referring to a feature distribution map prepared from the feature detection of an object.例文帳に追加

本発明は、被写体の特徴検出から作成した特徴分布マップを参照し、部分領域を抽出してパターン照合を行うことで、高速かつ精度よく被写体パターンを検出することを目的とする。 - 特許庁

This device detects the recessed/projecting information made by the punched pattern on the surface of the coin and grasps the characteristic of the punched pattern made by the recessed/projecting information as a histogram representing the distribution of the recessed/projecting information in the entire area of the coin surface.例文帳に追加

コイン表面における打抜模様がなす凹凸情報を検出し、この凹凸情報がなす打抜模様の特徴を、コイン表面の全域における凹凸情報の分布を表すヒストグラムとして捉える。 - 特許庁

When an aperture diaphragm is small, illumination passing through a pattern 14A becomes dominant, and a distribution where a central part results being lower than the peripheral part by reflecting a permeability of the pattern 14A is made.例文帳に追加

照明光の開口絞りが小さい場合には、パターン１４Ａを通過する照明光が支配的になり、パターン１４Ａの透過率を反映して周辺部よりも中心部が低い傾向を示す分布となる。 - 特許庁

A common pattern candidate evaluation means 5 evaluates the validity of feature determination of text data by multimedia feature quantities 9aa on the basis of distribution conditions of feature quantity sets in the common pattern candidates 9c.例文帳に追加

共通パターン候補評価手段５が、共通パターン候補９ｃ内の特徴量セットの分布状況に基づいて、マルチメディア特徴量９ａａによるテキストデータの特徴判断の有効性を評価する。 - 特許庁

The polymer blend material comprises at least two kinds of polymers and has a light exposure pattern corresponding to light having a light intensity distribution and the light exposure pattern has a phase separation structure.例文帳に追加

本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のポリマーを含むポリマーブレンド材料であって、光強度分布を有する光に対応した露光パターンを備え、上記露光パターンは相分離構造を有している。 - 特許庁

Thus, a catalyst is absorbed by the silanol-group containing layer 4, in which the amount and distribution of the silanol group are controlled and electroless plating, is carried out by using a catalyst layer as a catalyst to form the metal pattern in the groove pattern.例文帳に追加

このようにして、シラノール基の量、分布が制御されたシラノール基含有層４に触媒が吸着され、触媒層を触媒として無電解メッキが行われて、溝パターン内に金属パターンが形成される。 - 特許庁

The shape of the mirror face can be deformed into a prescribed shape stepwise depending on the formation pattern of the strength distribution pattern 2a, and spherical abrasion correction can effectively be performed to recording layers, for example, three or more layers.例文帳に追加

また、強度分布パターン２ａの形成パターンによってはミラー面の形状を段階的に所定形状に変形でき、例えば３層以上の記録層に対応して有効に球面収差補正を行うことができる。 - 特許庁

A similar time point extracting means 9 searches and extracts a plurality of time points in the past having a pattern similar to a traffic flow data distribution in a road section within an area including the start and end points, by pattern matching.例文帳に追加

類似時点抽出手段９は、起終点を含む領域内の道路区間の交通流データ分布パターンと類似するパターンを所有する過去の複数時点をパターンマッチングにより探索し抽出する。 - 特許庁

Since the illuminator is provided with a plurality of light emitting elements 302 having different wavelength distribution patterns and different irradiation angles and a control part 304 controlling the luminance of a plurality of light emitting elements 302 so as to obtain the wavelength distribution pattern and the irradiation angle fit to an imaging condition, a subject is illuminated in the wavelength distribution pattern at the irradiation angle to fulfill the photographing condition.例文帳に追加

異なる波長分布パターン、および照射角度の異なる複数の発光素子３０２を設け、撮像条件に適合する波長分布パターンや照射角度となるように複数の発光素子３０２の輝度を制御する制御部３０４とを設けたので、撮影条件に応じた波長分布パターンや照射角度で被写体に照明を行うことができる。 - 特許庁

Intensity modulation is applied to short pulse light by a bit sequence pattern (distribution data) before the short pulse light is made incident onto a nonlinear medium, and the intensity modulated light is made incident onto the nonlinear medium.例文帳に追加

短パルス光を非線形媒質に入射する前に、ビット列パターン（配信データ）により強度変調してから、非線形媒質に入射する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ANALYZING DISTRIBUTION PATTERN OF SURFACE DEFECT ON THIN PLATE, COMPUTER PROGRAM AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

薄板の表面欠陥の分布形態解析装置、薄板の表面欠陥の分布形態解析方法、コンピュータプログラム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a passing light distribution pattern capable of securing moderate illumination before a road surface without deteriorating the distant visibility.例文帳に追加

遠方視認性を低下させることなく、かつ路面手前の適度な照明を確保することができるすれ違い配光パターンを奏することができること。 - 特許庁

Thereby, the utilization rate of the flux of light for the light from each light emitting element 24 is improved, and a light distribution pattern with comparatively narrow vertical width can be formed.例文帳に追加

これにより、各発光素子２４からの光に対する光束利用率を高めるとともに比較的上下幅の狭い配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

Each of right side lamp 30R and left side lamp 30L irradiates regions including an upper part from a cutoff line of a luminous intensity distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

左側灯具３０Ｌおよび右側灯具３０Ｒは、それぞれロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方を含む領域を照射する。 - 特許庁

Thereby radiation information consisting of the radiation energy distribution and/or radiation intensity is given to the tag in addition to conventional printing pattern information.例文帳に追加

このことより従来の印刷パターン情報に加えて放射線エネルギー分布及び／又は放射線強度からなる放射線情報をタグに付与させる。 - 特許庁

The lamp tool for a vehicle forms a light distribution pattern of low beams by superposing light irradiated from a first unit and a second unit.例文帳に追加

本発明の車両用灯具は、第１ユニットと第２ユニットとから出射する光を重ね合わせてすれ違いビームの配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a reflection surface design method of a reflection mirror of a vehicle lighting in which controllability of a light distribution pattern and efficiency in designing are enhanced.例文帳に追加

配光パターンの制御性及び設計作業の効率が向上される車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法を提供する。 - 特許庁

The reference temperature change distribution pattern and the coefficient of internal heat transfer, with respect to an arbitrary specific region which is known in surface reflectivity and wall thickness are specified.例文帳に追加

表面放射率及び肉厚が既知である任意特定部位に対する基準温度変化分布パターン及び内部熱伝達係数の特定をする。 - 特許庁

The projector type headlight 10 is provided with a main reflection surface 11a, a light source 13, a projecting lens 14, and a shade 15 to form a main light distribution pattern.例文帳に追加

メイン反射面１１ａと光源１３と投影レンズ１４とシェード１５とを備え、主配光パターンＩを形成するプロジェクタ型ヘッドランプ１０である。 - 特許庁

The period of time in which a temperature distribution in the surface of the substrate formed in cooling affects dimensions is shortened and the dimensional precision of a pattern in the surface of the substrate is enhanced.例文帳に追加

その結果、冷却時に生じる基板面内の温度分布が寸法に影響する時間帯が短くなり、面内寸法精度が向上する。 - 特許庁

When the movable reflectors 13U, 13D are at a first position, a low-beam light distribution pattern LP is obtained by the reflecting surfaces 2U, 2D of the fixed reflector 3.例文帳に追加

可動リフレクタ１３Ｕ、１３Ｄが第１位置に位置するときには、固定リフレクタ３の反射面２Ｕ、２Ｄでロービーム用配光パターンＬＰが得られる。 - 特許庁

To solve the problem wherein the risk of a part of an irradiated image from a projection lens of a luminous chip from popping out of the cut-off line of the basic light distribution pattern and turning into glare.例文帳に追加

発光チップの投影レンズからの出射像の一部が基本配光パターンのカットオフラインから飛び出してグレアとなる虞がある点にある。 - 特許庁

To emphasize an edge amount of a required part, while suppressing increase in the noise and improve the accuracy of pattern matching which is performed in edge amount distribution.例文帳に追加

ノイズの増加を抑制しながら、必要な部分のエッジ量を強調させ、エッジ量分布において行われるパターンマッチングの精度を向上させる - 特許庁

The movable shade 28 is configured to be located at a light-shielding position that shields light other than the light for forming a central region of the additional light distribution pattern.例文帳に追加

その際、可動シェード２８として、付加配光パターンの中心領域の形成に寄与する光以外を遮蔽する遮光位置を採り得る構成とする。 - 特許庁

The light-distribution pattern P2 for an overhead sign is obtained by reflecting the light L2 of the semiconductor type light source 7 with s second reflection surface 9.例文帳に追加

また、半導体型光源７からの光Ｌ２を第２反射面９で反射させることにより、オーバーヘッドサイン用の配光パターンＰ２が得られる。 - 特許庁

On the printed wiring board 4, an input pattern 22 and an output patterns 24, 26 are formed, which form the input side and the output side of the distribution path.例文帳に追加

プリント配線基板４に、分配経路の入力側及び出力側を構成する入力パターン２２及び出力パターン２４、２６を形成する。 - 特許庁

To provide a headlight device for a vehicle capable of forming a light distribution pattern other than those for high beams and for low beams, in an easy structure.例文帳に追加

ハイビーム用の配光パターン及びロービーム用の配光パターン以外の配光パターンを容易な構造で形成できる車両用前照灯装置を提供する。 - 特許庁

To enable to accurately form a bright low-beam light distribution pattern for a projector type headlight for a vehicle by cutting short a longitudinal length of a lighting tool.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、灯具前後長を短縮した上で、明るいロービーム用配光パターンを精度良く形成可能とする。 - 特許庁

To improve utilization efficiency of light source luminous flux of a direct radiation type lamp for a vehicle provided with a light distribution pattern having cutoff lines on an upper end part.例文帳に追加

上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成する直射型の車両用照明灯具において、光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁

The shield unit (26) has an edge (42) and the secondary optical system (20) images this edge on the road surface as the light-shade boundary line (206) of a light distribution pattern (202).例文帳に追加

シールドユニット（２６）はエッジ（４２）を有し、前記二次光学系（２０）がこのエッジを、配光パターン（２０２）の明暗境界線（２０６）として路面に結像する。 - 特許庁

Accordingly, colored light, for example, blue light in the vicinity of the cut-off lines CL1, CL2, CL3 of the low beam light distribution pattern P can be extinguished.例文帳に追加

このために、すれ違い用の配光パターンＰのカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３付近の着色光たとえば青色光を消すことができる。 - 特許庁

The second transmission tuning bodies 32 are arranged on the transparent film 34 in a given pattern density distribution in a direction parallel to an axis direction of a linear light source 12.例文帳に追加

第２透過率調整体３２を、線状光源１２の軸方向と平行な方向に所定のパターン密度分布で透明フィルム３４上に配置する。 - 特許庁

An electronic control unit 30 senses a collision of the vehicle with any pedestrian using the load distribution pattern given by sensor cells in a plural number.例文帳に追加

電子制御ユニット３０は、複数のセンサセルによってそれぞれ検出された各荷重の分布パターンにより車両の歩行者への衝突を検出する。 - 特許庁

The imprint mold has an etching rate gradient film where an etching rate shows gradient distribution, and a rough pattern provided on the etching rate gradient film.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドは、エッチングレートが傾斜分布を示すエッチングレート傾斜膜と、該エッチングレート傾斜膜に凹凸パターンを設けることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an arithmetic device capable of calculating a dimension-reducing matrix A suitable for pattern recognition, even when a distribution of a feature vector shows multiple peaks.例文帳に追加

特徴ベクトルの分布が多峰性を示す場合でも、パターン認識に適切な次元削減行列Ａを算出可能な演算装置を提供する。 - 特許庁

A pattern corrector 4 adjusts the amount of in-plane exposure so as to cancel the in-plane film thickness distribution of the lower layer structural body in each exposure region.例文帳に追加

パターン補正部４は、各露光領域における下層構造体の面内膜厚分布を打ち消すように、当該面内の露光量を調節する。 - 特許庁

(b) A distribution pattern of failures generated at the rear face of the process objective substrate processed by at least part of the equipment out of two or more manufacturing facilities is acquired.例文帳に追加

（ｂ）複数の製造設備の少なくとも一部の設備によって処理された処理対象基板の裏面に発生した欠陥の分布パターンを取得する。 - 特許庁

When the calculation of the pit patterns is finished about the all pit pattern, the jitter distribution is calculated on the basis of the RF signals, and further the total jitters are calculated.例文帳に追加

全てのピットパターンについてピットパターンの計算が終了すれば、ＲＦ信号に基づいてジッター分布を計算し、さらに、トータルジッターを計算する。 - 特許庁

To provide an air type spray nozzle assembly effective for forming a full conical spray pattern to improve the atomizing and the distribution of liquid particles.例文帳に追加

液体粒子の細分化及び分布を向上させる全円錐状スプレーパターンを生成するのに効果的な空気式スプレーノズル組立体を提供する。 - 特許庁

The in-plane film thickness distribution of a wafer W is determined according to a processing recipe including the type of resist liquid and the transition pattern of the number of revolutions of the wafer W.例文帳に追加

ウエハＷの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハＷの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。 - 特許庁

With this, a nearly fan-shaped light distribution pattern with its end edge extended in a nearly horizontal direction, is enabled to be formed with slightly larger center angle than 180°.例文帳に追加

これにより、１８０°よりもやや大きい中心角で、下端縁が略水平方向に延びる略扇形の配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a semiconductor device, capable of controlling a resist pattern to a desired dimensional distribution.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンを、所望の寸法分布に制御できる半導体装置の製造装置および製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting fixture system capable of automatically selecting a light distribution pattern of not imparting the glare to an oncoming car or the like even when traveling on a steep curve road.例文帳に追加

急カーブ道路の走行中においても対向車等にグレアを与えない配光パターンを自動で選択できる車両用灯具システムを提供する。 - 特許庁

The control unit determines the distribution of brightness for distances [(b)] for a plurality of radiation directions from around the center of the acquired pattern image [(a) (d)].例文帳に追加

制御部では、取得したパターンの画像［（ａ）（ｄ）］の中心付近から複数の放射方向について、距離に対する輝度の分布を求める［（ｂ）］。 - 特許庁