「Electron irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electron beam irradiation device capable of irradiating electron beams uniformly over a large area of work piece surface by scanning high-intensity electron beam in a wide range.例文帳に追加

高強度の電子線を広範囲に走査させて、ワーク表面の広い領域に均一に電子線を照射することができる電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

Use of these material realizes the electron gun which is capable of improving irradiation uniformity and ensuring the sufficient emission quantity of the electron beam from the cathode while reducing useless electron beams emitted from the cathode holder.例文帳に追加

これにより、照明一様性が良好であり、しかもカソードホルダから放出される無駄な電子ビームを少なくして、カソードからの十分な電子ビームの放出量を確保できる。 - 特許庁

To realize highly precise recording by easily and correctly focusing electron beam corresponding to an original recording 1 in an electron beam irradiating equipment which records data with irradiation of the electron beam to the original recording 1.例文帳に追加

電子ビームを原盤１に照射して記録を行なう電子ビーム照射装置において、原盤１に対応した電子ビームのフォーカス合わせを容易かつ正確に行なえるようにし、高精度な記録を可能とする。 - 特許庁

As to the electron beam irradiation equipment 1, current readout electrodes 5 are placed in a window unit 4 so that they cannot overlap an electron beam emission window 24, as seen from the emission axis direction of an electron beam EB.例文帳に追加

電子線照射装置１では、窓ユニット４において、電子線ＥＢの出射軸方向から見て、電子線出射窓２４と重ならないように電流読出電極５が設けられている。 - 特許庁

In the electron beam irradiation equipment 1, moreover, the thickness of the electron beam EB in the emission axis direction in the outside window 34 is smaller than that in the electron beam emission window 24.例文帳に追加

また、この電子線照射装置１では、外窓３４における電子線ＥＢの出射軸方向の厚さが、電子線出射窓２４における電子線ＥＢの出射軸方向の厚さよりも小さくなっている。 - 特許庁

The electron beam irradiation system has an electron beam E irradiated on the specimen 4 accommodated in a chamber 2, and the energy irradiated on the specimen 4 is measured by an electron beam detector 7.例文帳に追加

電子線照射システムにおいては、チャンバ２に収容された試料４に電子線Ｅを照射し、その試料４に照射された電子線エネルギーを、電子線検出器７によって測定する。 - 特許庁

This electron beam irradiation device is used for catching an electron beam 12 taken out from an electron beam accelerator 10, and is equipped with the beam catcher 38a having a structure cooled by a coolant flowing in a coolant passage 40.例文帳に追加

この電子線照射装置は、電子線加速器１０から取り出された電子線１２を受け止めるものであって、冷媒流路４０に流される冷媒によって冷却される構造のビームキャッチャー３８ａを備えている。 - 特許庁

A stripe-shaped projecting part 50 being charged by irradiation of electron beams and focusing electron beams on the aperture side is formed on both sides of each aperture line 19 on the surface on the electron gun body structure side of the shadow mask 12.例文帳に追加

シャドウマスク１２の電子銃構体側の表面上で各開孔列１９の両側には、それぞれ電子ビームの照射により帯電して電子ビームを開孔側へ集束するストライプ状の突状部５０が形成されている。 - 特許庁

To increase a surface to be irradiated with electron beams in an object to be irradiated by devising a moving direction of the object to be irradiated with respect to electron beams in an electron beam irradiation region.例文帳に追加

電子線の照射領域において、電子線に対する被照射物の移動方向を工夫することで、被照射物における電子線の照射面を増加させる。 - 特許庁

An auxiliary electronic irradiation device 15, that radiates an electron beam directed toward the sample is provided at an inclination of θ degrees with respect to an optical axis O1 of an electron optics system, to which a primary electron beam EB is radiated.例文帳に追加

試料に向けて電子ビームを照射する補助電子照射器１５が一次電子ビームＥＢが照射される電子光学系の光軸Ｏ１に対して角度θ傾けられて設けられている。 - 特許庁

To provide an electron beam control device which is capable of preventing an electron beam used for an electron beam exposure unit used for drawing patterns from varying in irradiation density with a change in location.例文帳に追加

パターン描画用の電子線露光装置に使用される電子ビームの照射密度の場所によるばらつきを少なくする電子ビーム管理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a single-electron tunnel element, where stable operation as a single-electron tunnel element is ensured and original single-electron tunnel conducting characteristic is reproduced by returning the element to a dark part after subjecting it to light irradiation.例文帳に追加

単一電子トンネル素子として安定した動作が保証され、また、光照射後も暗所に戻すことで、元の単一電子トンネル伝導特性が再現される単一電子トンネル素子を提供する。 - 特許庁

Furthermore, widening of the electron beam due to a space-charge effect of the primary electron beam is reduced by anions generated by the collision of the primary electron beam with the gas introduced from the sample chamber, and so accurate irradiation is possible.例文帳に追加

さらに一次電子線と試料室から入射した気体との衝突で発生した正イオンによって、一次電子線の空間電荷効果による電子線の拡がりが低減されており、正確な照射が可能となる。 - 特許庁

The electron gun 11 is located so as to form a prescribed angle between its optical axis and the normal 4 of the sample 3, and deflection means 16 and 17 deflect the electron beam so as to irradiate the surface of the sample 3 with the electron beam of a uniform irradiation dose.例文帳に追加

電子銃１１はその光軸と試料３の法線４とが所定の角度をなすように配置され、偏向手段１６、１７は、電子線を試料表面に一様な照射量で照射するよう偏向させる。 - 特許庁

The two electron beams transmitting the sample at the same time are spatially separated and imaged by a second electron-beam biprism arranged in an imaging optical system to obtain two electron microscope images with different irradiation angles.例文帳に追加

この同時に試料を透過した２つの電子線を結像光学系に配置した第２の電子線バイプリズムにより空間的に分離して結像させ、照射角度の異なる２つの電子顕微鏡像を得る。 - 特許庁

The device for sterilizing the bottle cap includes an electron beam radiating device emitting the electron beam, and a guide guiding the bottle cap to a predetermined guide direction so that the bottle cap may pass an electron beam irradiation range.例文帳に追加

ボトルキャップ殺菌装置は、電子線を照射する電子線照射装置と、電子線の照射範囲を通過するようにボトルキャップを所定のガイド方向にガイドするガイド部とを備える。 - 特許庁

An electron source 20A is provided so as to face the whole of the ion irradiation object part of a workpiece W, and filaments 2a, 2a', 2a" in the electron source 20A are distributed in parallel with each other in discontinuity in a plurality of steps over the whole electron source 20A.例文帳に追加

電子源20A を物品Ｗのイオン照射対象部分の全体に臨むように設け、電子源20A におけるフィラメント2a、2a’、2a”は、電子源20A の全体にわたり不連続に複数段に分散並列配置する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation treatment device capable of controlling an electron dose with which an object to be treated is irradiated by preventing adherence of contaminants to a detector part detecting an electron dose emitted from an electron tube, properly detecting the electron dose emitting from the electron tube, and controlling the emitted electron dose to be constant.例文帳に追加

電子線管から放射される電子線量を検出する検出部への汚染物質の付着を防止して、電子線管から放射される電子線量を正しく検知することによって、放射される電子線量を一定に制御して、被処理物に照射される電子線量を制御することを可能にした電子線照射処理装置を提供すること。 - 特許庁

To accurately detect irradiation intensity of the radiation irradiated from an irradiation apparatus such as an electron beam irradiation apparatus with a simple and inexpensive means, and to stop operation of the irradiation apparatus or to output a control signal for operating an alarm device when the illuminance intensity varies.例文帳に追加

電子ビーム照射装置等の放射線照射装置から照射される放射線の照射強度を簡易で安価な手段によって正確に検出して、その照度強度が変化したときに照射装置の稼動を停止させたり、警報装置を作動させる制御信号を出力できるようにする。 - 特許庁

An irradiation axis of an FIB irradiation system 16 and an irradiation axis of a STEM observation electron beam irradiation system 5 are made almost orthogonal, and the sample 7 is arranged at the intersection position and the FIB cross-section working face of the sample is made a thin-film face of the STEM observation sample.例文帳に追加

ＦＩＢ照射系１６の照射軸とＳＴＥＭ観察用電子ビーム照射系５の照射軸をほぼ直交させ、その交差位置に試料７を配置して、試料のＦＩＢ断面加工面をＳＴＥＭ観察用試料の薄膜面にとる。 - 特許庁

To improve a utilization efficiency of an irradiated material by realizing uniform heating of the material irradiated with an electron beam spot with an electron source device for electron beam irradiation of the material using an electron source device controlling method, and by uniformly solving the material.例文帳に追加

本発明は、電子ビームを被照射材料に照射する電子源装置および電子源装置調整方法に関し、電子ビームスポットによる被照射材料の均一加熱を実現すると共に被照射材料を均一に溶かして被照射材料の利用効率を向上させることを目的とする。 - 特許庁

The primary electron optic system includes not less than two pairs of quadrupole electrodes 6 for adjusting the irradiation area 8 of the primary electron beams, not less than one pair of polarizers 7 for scanning the primary electron beams, and a Faraday cup for measuring the current density of the primary electron beams.例文帳に追加

一次電子光学系は、一次電子線の照射領域８を調整するための２組以上の四重極電極６、一次電子線を走査するための１組以上の偏向器７、走査信号を発生する発信器、及び一次電子線の電流密度を測定するためのファラデーカップを含む。 - 特許庁

To improve luminance unevenness while maintaining the brightness of a screen, in an electron beam display in which each of electron-emitting elements 10 emits an electron beam 5 by which a current density on an irradiation surface of the electron beam 5 of a corresponding pixel 7 becomes non-uniform.例文帳に追加

電子放出素子１０が、対応する画素７の電子線５の照射面における電流密度が不均一な電子線５を照射する電子線ディスプレイにおける輝度むらを、画面の明るさを維持したまま改善できるようにする。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation treatment device which can output a stable and constant electron beam over a long period from an electron beam tube by setting up a means for detecting the difference between a tube current and an electric current flowing from an electron beam emission component to an earth.例文帳に追加

管電流と電子線出射部からアースに流れる電流との差を検出する手段を設けることにより、電子線管から長期間にわたり安定した一定の電子線を出力させることのできる電子線照射処理装置を提供することにある。 - 特許庁

The electron beam irradiation surface reforming device 1 is provided with an electron beam generation chamber 25, an electron beam housing 10 which forms the electron beam generation chamber 25 and has an emitting mouth 13a, and a processing housing 30 which forms a processing chamber 31 and has an incident mouth 30a.例文帳に追加

電子ビーム照射表面改質装置１が、電子ビーム発生室２５と、電子ビーム発生室２５を形成し出射口１３ａを有する電子ビームハウジング１０と、加工室３１を形成し入射口３０ａを有する加工ハウジング３０とを備える。 - 特許庁

Since the electron beam shielding area 12 is stuck close to the pattern formation layer 2 by the slight adhesive effect of the slight adhesive layers 15 stuck close to the pattern formation layer 2, the incidence of electron beams on the area for shielding electron beams from oblique directions can be prevented even if a general and inexpensive electron beam irradiation apparatus is used.例文帳に追加

パターン形成層２に密着する微粘着層１５の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１２が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがない。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device preventing a window part of an electron beam tube from being polluted by an impurity gas, to hold the output of the electron beam constant, to prevent the window part from being broken, and to easily shift the electron beam relative to a material to be processed at a desired speed.例文帳に追加

電子ビーム管の窓部が不純ガスによって汚染されることがなく、電子ビームの出力を一定に保ち、かつ窓部の破損を防止するととともに、被処理物に対して電子ビームを所望の速度で容易に移動させることのできる電子ビーム照射装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a decorative sheet having high design ability suppressing yellowing derived from an electron beam irradiation while having sufficient weathering performance as the decorative sheet, and particularly suppress the yellowing of a polypropylene-based resin layer derived from the electron beam irradiation in the decorative sheet having a surface protective layer cured by the electron beam irradiation based on a polyolefin-based material.例文帳に追加

リオレフィン系材料をベースにし、表面保護層を電子線照射により硬化させた化粧シートにおいて、化粧シートとして充分な耐候性能を有しつつ、電子線照射に由来する黄変を抑さえた意匠性の高い化粧シートを提供することであり、その中でも特に、ポリプロピレン系樹脂層の電子線照射に由来する黄変を抑制すること。 - 特許庁

To provide an electron beam emission tube having such effects that an electron emission tube can be constituted comparatively small, that an irradiation window and a peripheral part of the irradiation window can be cooled effectively, and that the service life span of the electron beam emission tube determined by damage to the irradiation window can be elongated.例文帳に追加

電子放出管を比較的小形に構成することができ、また照射窓および照射窓の近傍部を効果的に冷却することができ、さらに照射窓の破損が原因となる電子ビーム放出管の寿命を延長することができる等の効果を有する電子ビーム放出管を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an electron gun forming electron beams uniformly over a wide region and of high current density in a fixed beam diameter or variable beam diameters, an electron beam irradiating device applying the electron gun, corresponding to wide-region beam scanning, and corresponding to irradiation time throughputs, or an electron beam irradiating device with uniform beams on a treated object and with enhanced electron beam efficiency of high current density.例文帳に追加

広領域にわたって均一で、高電流密度の電子ビームをビーム径固定若しくは可変に形成する電子銃、その電子銃を適用し、広領域のビームスキャンに対応し，照射時間スループットに対応した電子線照射装置、或いは被処理物上ビームが均一で、高電流密度の電子線効率を高めた電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

In an electron beam irradiation device 1, electron beams EB emitted by an electron beam gun 10 are caused to converge by a convergence coil 6_2 when passing through an electron beam passing hole 2, are deflected in the Y axis direction by a deflecting coil 7 and are caused to irradiate the electron beam transmission unit 20 having a plurality of the electron beam transmission member 21 lined in the Y axis direction.例文帳に追加

電子線照射装置１では、電子銃１０から出射された電子線ＥＢは、電子線通過孔２を通過する際に集束コイル６_２によって集束され、偏向コイル７によってＹ軸方向に偏向されて、Ｙ軸方向に並んだ複数の電子線透過部材２１を有する電子線透過ユニット２０に照射される。 - 特許庁

In the electron beam irradiation apparatus, a vacuum chamber provided with an electron beam emission section, an electron beam generator which emits an electron beam from inside the vacuum chamber outside it by way of the electron beam emission section and an ozone recovery device which recovers the ozone generated outside the vacuum chamber by the action of the electron beam are placed.例文帳に追加

電子線照射装置を、電子線射出部が設けられた真空チャンバーと、真空チャンバー内から電子線射出部を通じて真空チャンバー外に電子線を射出する電子線発生装置と、電子線の作用によって真空チャンバー外に生じたオゾンを回収するオゾン回収装置を設ける。 - 特許庁

Two X-ray measuring instruments 26a and 26b for measuring the dose of X rays 14 that originate from an electron beam irradiation area 12, penetrate a supply hopper 16 and enter an irradiation chamber container are located in upper and lower positions respectively in the side part, that of the supply hopper in the irradiation chamber container 2, opposite to the electron beam irradiation area 12.例文帳に追加

照射室容器２内における供給ホッパ１６の側部であって、電子線照射領域１２とは反対側の側部に、電子線照射領域１２から発生しかつ供給ホッパ１６を透過して来るＸ線１４の量を計測する二つのＸ線計測器２６ａおよび２６ｂを互いに上下に設けている。 - 特許庁

The electron beam irradiation device for irradiating a metal strip with an electron beam by a plurality of electron guns installed toward the metal strip passed through inside a vacuum tank includes at least one partition wall having an X-ray absorbing power, which extends in the direction of traversing the transportation direction of the metal strip to divide an electron beam irradiation region.例文帳に追加

真空槽内に通した金属ストリップに向けて設置した複数の電子銃により、該金属ストリップに電子ビームを照射する電子ビーム照射装置であって、前記金属ストリップの搬送方向を横切る向きに延びて電子ビーム照射域を分断する、Ｘ線吸収能を有する隔壁を、少なくとも１つ設ける。 - 特許庁

The electron beam irradiator which includes a gun structure that has an electron source and a gun grid and a high-voltage terminal that contains the gun structure and passes electrons and emits the electrons that passes through the high-voltage terminal into an irradiation space by way of an electron beam irradiation window is characterized by the use of a field emission element for the electron source.例文帳に追加

電子源とガングリッドとを有するガン構造体と、同ガン構造体を内蔵し電子を通過させる高電圧ターミナルとを具備し、同高電圧ターミナルを通過した電子を、電子線照射窓を通して照射空間に放出させる電子線照射装置において、前記電子源に電界放出素子を用いたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device that prevents contamination of a vacuum chamber or electron gun by reducing an adverse effect due to an evaporation component incidental to the damage of an insulation coating, which could be led when irradiating with an electron beam at high energy, without giving rise to deterioration of a magnetic domain subdividing effect caused by the electron beam irradiation.例文帳に追加

高エネルギーで電子ビームを照射した際に懸念される、絶縁コーティングの損傷に伴い発生する蒸発成分に起因した悪影響を極力低減して、真空槽や電子銃の汚染を防止すると共に、電子ビーム照射による磁区細分化効果の劣化を招来することのない電子ビーム照射装置を提供する。 - 特許庁

Care must be taken so that artifacts from the thin foil preparation process do not hinder investigation of the effects of electron beam irradiation. 例文帳に追加

薄膜作製の過程から(生じる)アーティファクトが、電子ビーム照射の効果の研究を妨げないよう、注意がはらわれるべきである。 - 科学技術論文動詞集

To provide an electron beam irradiation device capable of miniaturizing a beam mask, and thereby miniaturizing the whole device.例文帳に追加

ビームマスクを小型化し、装置全体を小型化することができる電子線照射装置を提供すること。 - 特許庁

The polymerizable substance is a compound having at least one reactive group which is polymerizable upon electron beam irradiation.例文帳に追加

前記重合性物質が電子線照射により重合可能な反応性基を少なくとも一つ有する化合物である。 - 特許庁

The irradiation of electron beams EB or ultraviolet rays UV is performed while the semiconductor substrate is heated in an inorganic atmosphere.例文帳に追加

電子線ＥＢまたは紫外線ＵＶの照射は、不活性な雰囲気中で半導体基板を加熱した状態で行われる。 - 特許庁

To provide a fullerene polymer having new structures and characteristics obtained by irradiation of electron beams and a fullerene polymer structure.例文帳に追加

電子線を照射することにより得られる新規な構造および特性を有するフラーレン重合体およびフラーレン重合体構造物の提供。 - 特許庁

The defective portion 106 formed in the carbon nanotube 103 through irradiation with electron beam acts as a tunnel junction and as a Coulomb barrier.例文帳に追加

電子線の照射によりカーボンナノチューブ１０３に形成された欠陥部１０６は、トンネル接合として作用し、クーロン障壁として作用する。 - 特許庁

An electrode 3 and an electrode 4 are formed on both sides of the diamond layer 1 in this electron beam irradiation region.例文帳に追加

この電子線照射領域におけるダイヤモンド層１の表裏両面に電極３及び４が形成されている。 - 特許庁

When irradiating the resist with the ultraviolet rays or the electron beams, an ozone gas is blown over the resist simultaneously or before and after irradiation.例文帳に追加

紫外線もしくは電子線を照射する際に、同時もしくはその前後いずれかにオゾンガスをレジストに吹き付ける。 - 特許庁

The substrate 17 is a semiconductor wafer having an EB resist material formed on the electron beam irradiation surface, for example.例文帳に追加

基材１７は、例えば電子線照射表面にＥＢレジスト材が形成された半導体ウェハである。 - 特許庁