「Electron irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

This electron beam aligner has a wafer stage 152 on which a wafer is placed, an electron gun for generating electron beams, an electron detection unit 210 for detecting electrons, a mask member 220 which is disposed in a path of electron beam irradiation and has a passage unit 222 of electron beams, and a deflection unit 146 for deflecting electron beams and irradiating the mask member 220 or the electron detection unit 210 with electrons.例文帳に追加

電子ビーム露光装置は、ウェハを載置するウェハステージ１５２と、電子ビームを発生する電子銃と、電子を検出する電子検出部２１０と、電子ビームが照射される経路に設けられ、電子ビームを通過する通過部２２２を有するマスク部材２２０と、電子ビームを偏向し、マスク部材２２０又は電子検出部２１０に電子を照射させる偏向部１４６とを備える。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation processing apparatus provided with a collector electrode, which stably operate without requiring special mechanisms and processing.例文帳に追加

コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構及び処理を施すことなく安定した動作を有する装置を提供する。 - 特許庁

In more detail, the leukocyte removing filter is obtained by limiting the ratio between the exposure of the electron beam for irradiation and an accelerating voltage to be within a certain range before irradiation with the electron beam.例文帳に追加

より詳しくは、電子線を照射する際に、照射する電子線の照射線量と加速電圧の比をある範囲内に限定することによって、白血球除去フィルターを得る。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation processing apparatus provided with a collector electrode, which stably operate without adding special mechanisms.例文帳に追加

コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。 - 特許庁

To automatically stop measurement before a sample is damaged by electron beam irradiation, in an analysis method for detecting X-rays generated from the sample by electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線照射により試料から発生するＸ線を検出する分析方法において、試料が電子線照射により損傷を受ける前に測定を自動的に停止させる。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation method capable of suppressing variation in core loss values in the plate width direction by performing electron beam irradiation exactly in response to the alteration of strip width even when the strip width alters.例文帳に追加

ストリップ幅が変更した場合であっても、それに的確に対応して電子ビーム照射を行うことにより、板幅方向の鉄損値のバラツキを抑制することができる電子ビーム照射方法を提供する。 - 特許庁

A cathode-ray tube PRT is provided with a panel glass PNL whose electron beam irradiation side has a transparent thin layer TF made from oxides of elements which is reduced easily by the electron beam irradiation.例文帳に追加

陰極線管ＰＲＴのパネルガラスＰＮＬの電子線照射側に当該電子線の照射により還元され難い元素の透明酸化物薄層ＴＦを設けた。 - 特許庁

The electron gun 10 emits electron beams 12 to irradiation parts 11a and 11b in the ring hearth 8, and the irradiation parts 11a and 11b serve as evaporation sources of MgO.例文帳に追加

電子銃１０は、リングハース８の照射部分１１ａ及び１１ｂに電子線１２を照射し、この照射部分１１ａ及び１１ｂをＭｇＯの蒸発源とする。 - 特許庁

As for the rear projection screen used for a rear projection type television, the lenticular lens is provided with a right absorbing layer formed by irradiation of electron beams from an electron beam irradiation device.例文帳に追加

背面投射型テレビジョンに用いられる背面投射スクリーンにおいて、電子線照射装置により電子線を照射することによって形成した光吸収層が設けられていることを特徴とするレンチキュラーレンズ。 - 特許庁

The pair of clamping rollers 6, 7, the first electron beam irradiation device 3 and the second electron beam irradiation device 4 are surrounded by covers 15, 11, 12, respectively, inside of which is nitrogen atmosphere.例文帳に追加

一対の挟持ローラ６、７、第１電子線照射装置３および第２電子線照射装置４は、いずれもカバー１５、１１、１２により囲まれ、内部が窒素雰囲気となっている。 - 特許庁

To provide a method of modifying the surface of a fluoropolymer material by using irradiation of electron beams and producing a superhydrophobic surface by adjusting the electron beam irradiation amount.例文帳に追加

電子ビームの照射を用いてフッ素系高分子材料の表面を改質し、電子ビーム照射量を調節して超疎水性表面を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To realize a method to fast and efficiently cure a resist without leaving gas produced by irradiation of electron beams in the resist when the resist is to be cured by irradiation of electron beams.例文帳に追加

レジストに電子ビームを照射して硬化処理する際に、電子ビーム照射によって発生したガスをレジスト内に残存させることなく、レジストを早く、かつ効率的に硬化処理する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a non-scanning type electron beam irradiation device capable of changing an irradiation width of an electron beam, without using an equipment having a movable part and a contact such as a switch.例文帳に追加

開閉器のような可動部や接点を有する機器を用いることなく、電子線の照射幅が変更可能な非走査型電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition which is crosslinkable by electron beam irradiation and produces a molded product by being crosslinked by electron beam irradiation, having excellent heat shrinkability in addition to excellent balance of heat resistance and flexibility.例文帳に追加

電子線照射による架橋が可能であり、電子線照射で架橋されることにより、耐熱性および柔軟性のバランスが優れるほか、優れた熱収縮性を有する成形物を与える組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a smoke detector for an electron beam irradiation device, capable of enhancing safety by stopping automatically the electron beam irradiation device in an initial stage when generating smoke by overheating of a constitutive component.例文帳に追加

構成部品の過熱による発煙時に初期段階で当該電子線照射装置を自動停止させることにより、安全性を向上させるようにした電子線照射装置用発煙検出装置を提供する。 - 特許庁

At the irradiation step, an irradiation condition for ions of light elements or electron beams is so set that the content of a silicon cluster may exceed 0.06 times the content of carbon-oxygen composite defects in the region to be irradiated with ions of light elements or electron beams.例文帳に追加

この照射工程では、前記照射対象領域においてシリコンクラスタの含有量が炭素−酸素複合欠陥の含有量の０．０６倍を超えるように、軽元素イオン又は電子線の照射条件を設定する。 - 特許庁

A height measurement position is shifted from a primary electron irradiation position, and a height correction mechanism is installed to correct height shift due to differences of horizontal position of the height measurement position, the primary electron irradiation position, and time.例文帳に追加

高さ計測位置を一次電子照射位置からずらし，高さ計測位置と一次電子照射位置との水平位置，および時間的な違いによる高さのずれを補正するための高さ補正機構を設ける。 - 特許庁

The electron beam irradiation system 100 has a casing 20 of an electron beam irradiation unit 1, and the casing 20 is placed in a chamber 30 in which printed matter P is transferred.例文帳に追加

電子線照射システム１００では、印刷物Ｐが搬送されるチャンバ３０内に電子線照射装置１の筐体２０が配置されている。 - 特許庁

An ion beam irradiation system and an electron beam irradiation system in a different axis direction are set in the same sample chamber, and the working depth is obtained from a difference when a working hole bottom part and a raw area are focused with this electron beam system.例文帳に追加

イオンビーム照射系と軸方向を異にした電子ビーム照射系を同一試料室内に設け、該電子ビーム照射系で加工穴底部と上部に焦点を合わせた時の差分から加工穴深さを求めることとした。 - 特許庁

A semi-fabricated stand pouch 1 under linear transportation from one side to the other side in an irradiation chamber 10 is subjected to sterilization treatment by using electron beams radiated from an electron beam generation means 20 mounted in the irradiation chamber 10.例文帳に追加

照射室１０内の一方側から他方側にスタンドパウチ半製品１を、直線的に搬送中に照射室１０に取り付けた電子線発生手段２０から照射した電子線により滅菌処理する。 - 特許庁

To increase merchantability in electron beam irradiation by irradiating an object to be irradiated so that an absorption dosage inside the object can be made economically uniform without need for huge installation investment for electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線照射を行うにあたり大きな設備投資を必要とすることなく、経済的に被照射物内部の吸収線量を均一化し、電子線照射の商用性を向上せしめる。 - 特許庁

The resin container 2 is supported by a plurality of supporting means provided at a sterilizing wheel 10 so as to be transported by rotation, and sterilized on irradiation with an electron ray when it passes a front side of an electron ray irradiation device 12.例文帳に追加

殺菌ホイール１０に設けた複数の支持手段に樹脂製容器２を支持させて回転搬送し、電子線照射装置１２の前面側を通過する際に電子線を照射して殺菌を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation method and device, capable of suppressing a partial effect by partial irradiation of a sample with electron beam.例文帳に追加

本発明は、試料に対する電子ビームの部分的な照射による部分的な影響を抑制する電子ビームの照射方法、及び装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device which can reduce the electrification of an object to be irradiated with a simple structure when an electron beam irradiation treatment is given to the object.例文帳に追加

被処理物に電子線照射処理を施す際に、簡易な構成で被処理物の帯電を低減することができる電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and irradiation method, capable of radiating an electron beam over an entire number of matters to be irradiated and uniformly to the surface of each matter to be irradiated, without increasing facility cost, processing man-hours or the time.例文帳に追加

設備費や処理工数及び時間を増大させることなく、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表面にまんべんなく電子線を照射することができる電子線照射装置及び照射方法を提供する。 - 特許庁

These serve both as load lock function for maintaining inert gas atmosphere in chamber 51 and X-rays shield function, and are to irradiate electron beam to an irradiation matter 40 of the inner carriage rotary trays 55 passing the electron beam irradiation part 10 while the individual inner carriage rotary trays 55 are moved and positioned in the replacing room 52.例文帳に追加

個々の内部搬送回動トレイ５５が入替室部５２の位置に移動／位置決めされる間に、電子線照射部１０を通過する内部搬送回動トレイ５５の被照射物４０に電子線を照射する。 - 特許庁

To economically increase the efficiency of electron ray irradiation by equalizing doses at center portion and an outer peripheral portion within a plane in the direction of depth of the electron ray irradiation, thus achieving uniform sterilization and processing, and eliminating the need for a large investment.例文帳に追加

電子線照射深さ方向のある面内における中心部と外周部の線量を均一化し、滅菌・加工処理を均斉ならしめると共に大きな投資を必要とせず、経済的に電子線照射の効率を良好とする。 - 特許庁

A container carrier 24 is provided inside a sterilization box 18, the container 2 carried in from the outside is carried and introduced to an irradiation chamber 30, and the container 2 is irradiated with the electron beams from an electron beam irradiation device 28 and sterilized.例文帳に追加

殺菌ボックス１８内に容器搬送装置２４が設けられ、外部から搬入された容器２を搬送して照射室３０に導入し、電子線照射装置２８からこの容器２に電子線を照射して殺菌を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation apparatus which can control the generation of ozone in an irradiation portion to prevent the deterioration in the flavor of a food material, when the material such as a granular material or a powdery granular material, used for food is irradiated with electron beams.例文帳に追加

粒体、粉粒体などの食材となる被処理物に電子線を照射する場合において、照射部でオゾン発生を抑制し風味の低下を防ぐこと。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation system and an electron beam irradiation method which can perform such a reforming processing as bridging by efficiently irradiating organic materials with electron beam and prevent integrity harming of such system as irradiation room by suppressing dissolution products, and prevent quality degradation because of stagnation of dissolution products inside the irradiation target.例文帳に追加

有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。 - 特許庁

A decompression means including a laid pipe 3, a gas discharge pump 5 and the like is mounted on the irradiation sterilization chamber 1 to decompress the inside of the irradiation sterilization chamber to 1/100 to 1/5 atmospheric pressure, and the electron beam irradiation means 2 irradiating the electron beam to the conveyed connected bag type packaging material 10 is attached to the same.例文帳に追加

照射滅菌室１には、配管３や排気ポンプ５等を含む減圧手段を設けて内部を１／１００から１／５気圧に減圧しており、搬送移動する連袋式包装材１０に対して電子線を照射する電子線照射手段２を取付けている。 - 特許庁

A surface modifying method for the structural material 7 is for forming the hydrophilic minute uneven surface to the surface of the structural material by continuously irradiating the surface of the structural material 7 with an electron beam 5 at a given irradiation pitch, wherein the ratio of an irradiation current/an irradiation frequency of the electron beam 5 is 0.015-0.08.例文帳に追加

構造材７の表面に電子ビーム５を所定の照射ピッチで連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材７の表面改質方法において、前記電子ビーム５の照射電流／照射周波数比を０．０１５〜０．０８とする。 - 特許庁

To prevent the deterioration of a plastic base material and colored pixel patterns as a result of excess irradiation with electron beams by irradiating only the necessary portions with the electron beams in curing the colored pixel patterns formed on the plastic base material with a pigment dispersion method by the irradiation with the electron beams.例文帳に追加

顔料分散法にてプラスチック基材上に形成された着色画素パターンを電子線照射により硬化させる際、必要な部分にのみ電子線を照射することで、過度の電子線照射によるプラスチック基材及び着色画素パターンの劣化を防止することを目的とする。 - 特許庁

By controlling the surface electric field intensity of a specimen and the scanning method of primary electron beam during image acquisition, charge produced by primary electron beam irradiation is mitigated or stabilize and the effects of dynamic charge produced by primary electron beam irradiation are made hardly occur.例文帳に追加

試料の表面電界強度や画像取得時の一次電子ビームの走査方法を制御する事で、一次電子ビーム照射によって生成される帯電を緩和若しくは安定化し、一次電子ビームの照射によって生成される動的な帯電の影響を受けにくくする。 - 特許庁

To provide a method and device for stabilizing an electron beam of electron beam irradiation apparatus capable of stabilizing irradiation current even when a field emission type electron gun is used.例文帳に追加

本発明は電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置に関し、フィールドエミッション形電子銃を用いた場合でも照射電流を安定化することができる電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

A manufacturing method comprises: an electron beam irradiation step in which an inactivated nonvolatile getter is irradiated with an electron beam so that the nonvolatile getter is prevented from being activated; and a sealing step in which a sealing portion is sealed after the electron beam irradiation step to form an airtight container.例文帳に追加

活性化していない非蒸発型ゲッターに該非蒸発型ゲッターが活性化しないように電子線を照射する電子線照射工程と、前記電子線照射工程の後に、封着部を封着して気密容器を形成する封着工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To accurately perform various corrections for electronic beam to be carried out in relation to an irradiation position of electron beam such as tilt correction by a sub-deflector by conforming a scanning means side coordinate system of an irradiation position on a mask of electron beam in an electron beam proximity aligner to a mask coordinate system thereof.例文帳に追加

電子ビーム近接露光装置における電子ビームのマスク上照射位置の走査手段側座標系とマスク座標系とを一致させることにより、前記副偏向器による傾き補正等の、電子ビームの照射位置に関して行う電子ビームの各種補正を正確に行う。 - 特許庁

To stably prevent ozone produced due to electron beam irradiation in an irradiation chamber from leaking out of the irradiation chamber without being affected by external factors.例文帳に追加

電子線照射に伴って照射室内で発生するオゾンが照射室外へ漏れ出すことを、外部因子に左右されることなく安定して防止する。 - 特許庁

Accordingly, the electron beam irradiation system 100 can feed the nitrogen gas with small fluctuation of flow to the irradiation position Q, and the oxygen content of the atmosphere gas at the irradiation position Q can be sufficiently lowered.例文帳に追加

したがって、電子線照射システム１００では、流れムラの小さい窒素ガスを照射位置Ｑに供給でき、照射位置Ｑにおける雰囲気ガス中の酸素濃度を十分に低下させることができる。 - 特許庁

A control part 9 controls a mask driving mechanism 11 and moves the beam masks 7 on both sides so that the irradiation range of an electron current 3 agrees with the irradiation range L of an irradiation object 8 inputted from an input means 12.例文帳に追加

制御部９は電子流３の照射範囲が入力手段１２から入力された被照射物８の照射範囲Ｌに一致するように、マスク駆動機構１１を制御して両側のビームマスク７を移動させる。 - 特許庁

A charge amount distribution C(x, y) in an irradiation region and a non-irradiation region is calculated by using the irradiation amount distribution E(x, y) and the fogging electron amount distribution F(x, y, σ) (S108).例文帳に追加

照射量分布E(x,y)とかぶり電子量分布F(x,y,σ)を用いて、照射域及び非照射域の帯電量分布C(x,y)を算出する（Ｓ１０８）。 - 特許庁

A beam catcher 22 is a cooling component of a water cooling system which captures the electron beam passing through an irradiation space 21 without irradiating the object to be treated and cools the irradiation atmosphere and the object in the irradiation space 21.例文帳に追加

ビームキャッチャー２２は、被処理物に照射されずに照射空間２１を通過してきた電子線を捕捉すると共に照射空間２１内の照射雰囲気及び被処理物を冷却する水冷式の冷却部である。 - 特許庁

An electron beam irradiation device for scanning by a scanning part 3 the electron beam emitted toward a commodity box X from an electron beam generation part 1, and irradiating the commodity box X therewith, includes an electron lens 5 for deflecting a traveling direction of the electron beam on each scanning position to a direction approximately orthogonal to an irradiation plane of the commodity box X.例文帳に追加

電子線発生部１から商品箱Ｘに向けて出射された電子線を走査部３で走査して商品箱Ｘに照射する電子線照射装置であって、各々の走査位置における電子線の進行方向を商品箱Ｘの照射平面に略直交する方向に偏向する電子レンズ５を備える。 - 特許庁

To provide electron beam irradiation equipment which enables restraining frame sections between adjoining electron beam permeable members from releasing heat, in an electron beam permeable unit.例文帳に追加

電子線透過ユニットにおいて、隣り合う電子線透過部材間のフレーム部分が発熱するのを抑制することができる電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

The frequency of the current supplied from the electric power source 10 for the electron source to the electron source 6a is controlled to change the irradiation width W of the electron beam 32.例文帳に追加

電子源用電源１０から電子源６ａに供給する電流の周波数を制御することによって、電子線３２の照射幅Ｗを変更することができる。 - 特許庁