「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

Upper part through holes 26, 26, ...for exposing an upper end part 32 of each injector 30 are provided on an upper surface of the upper head cover 20.例文帳に追加

アッパヘッドカバー２０の上面に各インジェクタ３０の上端部３２を露出させるための上部貫通孔２６，２６，…を設ける。 - 特許庁

The exposing unit comprises an organic LED 2 disposed at one end of a light guide tube 1 and emitting light depending on desired image information.例文帳に追加

露光装置では、導光管１の一端に配置した有機ＬＥＤ２が所望の画像情報に対応して発光される。 - 特許庁

This exposure device for exposing a substrate 130 through a liquid L includes a projection optical system 110, and a supply unit 160.例文帳に追加

液体Ｌを介して基板１３０を露光する露光装置は、投影光学系１１０と、供給ユニット１６０を備える。 - 特許庁

The second side plate 42 is provided with a window part 42a for exposing an external output terminal 5c of the protective circuit 5.例文帳に追加

第２側板部４２には、保護回路部５の外部出力端子５ｃを露出させるための窓部４２ａが設けられている。 - 特許庁

An opening 9 for exposing an electric connector 8 (electric terminal) provided in the housing 2 is formed in the housing 2.例文帳に追加

筐体２には、筐体２内に設けられた電気コネクタ８（電気端子）を露出させるための開口９が形成されている。 - 特許庁

Throughput is improved by performing the aging without exposing the MgO film, and filling the gas for sealing (sealing) after the positioning causes the throughput to be still higher.例文帳に追加

位置合わせ後、大気に曝さずにエージング処理し、ガス封入及び密封(封着処理)を行うと更にスループットが高くなる。 - 特許庁

Then a resist frame defining a pattern for the second yoke part 221 is formed by exposing and developing the negative resist film.例文帳に追加

次に、ネガ型レジスト膜を、露光し、現像することにより、第２のヨーク部２２１のためのパターンを画定するレジストフレームを形成する。 - 特許庁

An ID code 8 is formed by exposing the non-black print layer 12 from below the opening 8a of the black ink layer 11.例文帳に追加

黒色インキ層１１の開口８ａから下方の非黒色印刷層１２を露出させて、ＩＤコード８を形成する。 - 特許庁

For this purpose, the second front intermediate core 72 is subjected to a resist coating, exposing and patterning in the state of non-difference in level to be formed.例文帳に追加

このため、第二の前部中間コア７２は、段差のない状態でレジスト塗布，露光，パターニングが行なわれて形成される。 - 特許庁

By performing main coating immediately without drying to the touch, coating is nicely enabled without exposing a shoulder of the laser viahole 4.例文帳に追加

次いで，指触乾燥せず直ちに本コートを行うと，レーザビアホール４の肩を露出させることなく良好にコーティングできる。 - 特許庁

The pellicle is particularly a thin film of silicon dioxide having 0.01-50 μm film thickness obtained by exposing perhydropolysilazane to steam.例文帳に追加

特に、ペルヒドロポリシラザンを水蒸気に曝して得られる、膜の厚さが０．０１〜５０μｍの二酸化ケイ素の薄膜であるペリクル。 - 特許庁

A light source for selectively exposing the media held on the drum and a spatial light modulator are included in the carriage.例文帳に追加

キャリエジにはドラムに対して保持される媒体を選択的に露光するための光源及び空間的光調節器が含まれる。 - 特許庁

To provide a master optical disk exposing device and a master optical disk manufacturing method capable of obtaining fine reproduced signals.例文帳に追加

良好な再生信号を得ることができる光ディスク原盤露光装置および光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

A recessed portion 31 exposing the hot junction 45 of the thermocouple 40 to the lean flame hole is provided at a front end of the closing portion 24.例文帳に追加

閉塞部２４の前端部には、熱電対４０の温接点４５を淡炎口に露出させる凹部３１が設けられている。 - 特許庁

To stabilize a battery surface and efficiently cover with a heat-shrinkable film without exposing the surface which needs insulation.例文帳に追加

絶縁が必要な面を露出させることなく、電池表面を安定して、しかも能率よく熱収縮フィルムで被覆する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device capable of exposing simultaneously a repetition exposure area and a nonrepetitive exposure area by the one scanning exposure device.例文帳に追加

一台で繰り返し露光領域と非繰り返し露光領域とを同時に露光することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing device and an exposure method capable of shortening time required for alignment action to improve throughput.例文帳に追加

アライメント動作に要する時間を短縮して、スループットを向上することができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The reinforcing plate 73 is formed with an opening 80 for exposing the first rocker arm 32 and the second rocker arm 33.例文帳に追加

補強板７３には、第１のロッカーアーム３２および第２のロッカーアーム３３を露出させる開口部８０が形成されている。 - 特許庁

A planarized insulation layer is formed on the structure exposing the upper surface of the metallic interconnections.例文帳に追加

平坦化した絶縁層は、前記金属製相互接続部の前記上部表面を露出する前記構造の上に形成される。 - 特許庁

The exposure pattern 1 for the lens aberration measuring exposure mask is projected to a photoresist via a projection lens for exposing the photoresist.例文帳に追加

このようなレンズ収差測定用露光マスクの露光パターン１を、投影レンズを介してホトレジストに投影し、ホトレジストを露光する。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING INTERVAL BETWEEN TWO OBJECTS, METHOD OF EXPOSING SEMICONDUCTOR USING THE SAME, INTERVAL MEASURING INSTRUMENT, AND SEMICONDUCTOR EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

２つの物体の間隔測定方法とそれを用いた半導体露光方法、および間隔測定装置、半導体露光装置 - 特許庁

An opening 5a for exposing a photographic lens 4 is formed in the front cover 17, and a raised part 5 is formed around the opening 5a.例文帳に追加

前カバー１７に、撮影レンズ４を露呈させる開口５ａが設けられ、その周囲には隆起部５が形成されている。 - 特許庁

The substrate is polished on the first platen to breakthrough the conductive material exposing a portion of the underlying barrier material.例文帳に追加

この基板は、導電性物質をブレークスルーして下層バリヤ物質の部分を露出させるように、その第１のプラテンで研磨される。 - 特許庁

The MPU 137 decides exposure (an exposing time) at the time of main scanning or LUT gradation converting characteristics based on the histogram.例文帳に追加

ＭＰＵ１３７は、このヒストグラムに基づいて、主スキャン時の露出量（露光時間）や、ＬＵＴ階調変換特性を決定する。 - 特許庁

On the transparent resin plate 42, a notched part 58 for exposing the rear contact part 60a of the first grounding member 60 is formed.例文帳に追加

透明樹脂板４２には、第１アース部材６０の後方接触部６０ａを露出させる切欠部５８が形成される。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure apparatus capable of suppressing deterioration in performance due to a cover member in exposing a substrate via a liquid.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する際、カバー部材に起因する性能の劣化を抑制できる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

A beam detection sensor 212 detects an exposing light from a plurality of laser devices in a laser unit 114 at a predetermined position in a main scanning direction.例文帳に追加

ビーム検知センサ２１２は主走査方向の所定位置でレーザ・ユニット１１４内の複数レーザによる露光を検出する。 - 特許庁

Then, the resist mask 56 is removed, and the unnecessary part of the conductive material seed 54 is eliminated (magnetic material seed exposing step).例文帳に追加

次に、レジストマスク５６を除去し、導電性材料シード５４の不要部分を除去する（磁性材料シード露出工程）。 - 特許庁

The cover 3 is designed to be movable between a shield position for shielding the projection lens 2 and an exposure position for exposing the lens 2.例文帳に追加

カバー３は、投射レンズ２を遮蔽する遮蔽位置及び露出する露出位置の間を移動可能に構成されている。 - 特許庁

The method also comprises the step of then forming a resist mask 66 for exposing base end sides of predetermined sides 70 and 72.例文帳に追加

次に、十字状マスク６４の、予め定めた辺７０、７２の基端部側を露出させたレジストマスク６６を形成する。 - 特許庁

Then a resist pattern having a desired size is obtained without relying upon the electric charge by exposing the substrate 20 with the optimum luminous exposure at every chip 20a.例文帳に追加

そして、チップ２０ａ毎に最適露光量で露光することにより、帯電量によらず所望のサイズのレジストパターンを得る。 - 特許庁

On the solder resist layer 30, a recess 30a for exposing a part of the wiring pattern as the pad 21 is formed.例文帳に追加

ソルダレジスト層３０には、配線パターン２０の一部をパッド２１として露出させるための凹部３０ａが形成されている。 - 特許庁

The first and second insulating films 3, 9 at the bottom of the opening are removed selectively for exposing the pad electrode 4 partially.例文帳に追加

次に、開口部の底部の第１及び第２の絶縁膜３，９を選択的に除去し、パッド電極４を一部露出させる。 - 特許庁

Holes 6a to 6c are formed for exposing the surface of the protective film 5 using a resist pattern formed on the insulating film 11.例文帳に追加

その絶縁膜１１上に形成されたレジストパターンにより、保護膜５の表面を露出するホール６ａ〜６ｃが形成される。 - 特許庁

An opening is formed in the protective layer for exposing the implanted region of the semiconductor layer, and an electrode is formed in the opening.例文帳に追加

半導体層の注入領域を露出させるために、保護層に開口が形成され、開口内に電極が形成される。 - 特許庁

To provide a display device with a housing having an opening for exposing part of a heat absorbing member and having high rigidity.例文帳に追加

吸熱部材の一部を露出させるための開口部を有し、且つ、剛性が高いハウジングを備えた表示装置を提供する。 - 特許庁

The method includes a step of exposing a contact lens to hydration solution containing about 30 to 70% isopropyl alcohol.例文帳に追加

本方法には、約３０〜約７０％のイソプロピルアルコールと水とを含む水和溶液にコンタクトレンズを曝露するステップが含まれる。 - 特許庁

At the same time, the substrate transmits two laser beams and the periodic grating is used for exposing the photoresist layer of the lower surface.例文帳に追加

同時に、２つのレーザービームを基板を通過させ、周期性格子を下表面のフォトレジスト層を露光することに用いる。 - 特許庁

To suppress variation in the emission quantity of light emitting elements provided in an exposing head from an adjustment target as much as possible.例文帳に追加

露光ヘッドに備えられた光出射エレメントの出射光量の調整目標からのばらつきを可及的に抑制する。 - 特許庁

PATTERN TRANSFER TYPE CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE, EXPOSING METHOD OF PATTERN TRANSFER TYPE CHARGED PARTICLAE BEAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン転写型荷電粒子線露光装置、パターン転写型荷電粒子線露光方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

To position an optical part while keeping sufficient laser light transmission without exposing a light path of excimer laser to the atmosphere.例文帳に追加

エキシマレーザの光路を大気開放せず、十分なレーザ光透過率を保ったまま光学部品の位置合わせを可能にする。 - 特許庁

By connecting ends of the respective lamps 11-14 to the coat exposing part 17, the connection environment of the lamps is made common.例文帳に追加

各ランプ１１〜１４の端部をこの被覆露出部１７に接続することによって、ランプの接続環境を共通にしている。 - 特許庁

By exposing titanium oxide to the surface of the woody synthetic composition 29 as mentioned above, an cleaning effect possessed by titanium oxide is sufficiently developed.例文帳に追加

このように、酸化チタンを表面に露出させることにより、酸化チタンが備える空気清浄効果が充分に発揮される。 - 特許庁

To provide a charged corpuscular beam exposing device which can obtain a large deflection amount with small excitation electric current and of which deflection aberration is small.例文帳に追加

小さな励磁電流で大きな偏向量が得られ、かつ、偏向収差の小さい荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of exposure capable of suppressing overlay errors from occurring, when exposing different layers on a wafer.例文帳に追加

基板上の異なる層の露光を行なう際に発生する重ね合わせ誤差を抑制することができる露光方法を提供する。 - 特許庁