「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

The annealing (c) may use an improved annealing process comprising successively exposing the part to one or more kinds of gases.例文帳に追加

アニーリング（ｃ）は、部品を１つ以上のガスに順次暴露して部品をアニーリングする、改善されたアニーリングプロセスを用いてもよい。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING SURFACE SHAPE, MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSING DEVICE例文帳に追加

面形状測定装置および測定方法、並びに、投影光学系の製造方法、投影光学系及び投影露光装置 - 特許庁

To provide a substrate edge aligner capable of exposing uniformly over the entire substrate edge with a sufficient light quantity.例文帳に追加

基板端縁部全体に均一かつ十分な光量の露光を行うことができる基板端縁露光装置を提供する。 - 特許庁

A hole 63a for exposing the detecting end portion toward the belt is formed in the dust preventing pad 63 and the holding member 64.例文帳に追加

防塵パッド６３および保持部材６４には検出端部をベルトに向けて露出するための孔６３ａが形成されている。 - 特許庁

To improve the throughput of a work for exposing a circuit pattern while forming an unexposed part in the vicinity of the outer circumference of a circular substrate.例文帳に追加

円形の基板の外周近傍に未露光部を形成しながら回路バターンを露光する作業のスループットを向上する。 - 特許庁

The foamed injection-molded article 1 includes at least one gate part 2 exposing a foam layer 5 to the outside.例文帳に追加

本発明の発泡射出成形品１は、発泡層５が外部に露出している、少なくとも１つのゲート部２を有している。 - 特許庁

A slit 12 for exposing a part of an upper end of a drain hose externally engaged with the part 10 is axially provided on the part 10.例文帳に追加

外筒部１０に、これに外嵌する排水ホースの上端から一部が露出するスリット１２を軸方向に設ける。 - 特許庁

A circular insulation layer exposing part 5 concentric to the through hole 1 is provided in the inner layer solid pattern 6 and the diameter of the insulation layer exposing part 5 is set equal to the sum of the diameter of the inspection through hole 1 and the shift allowance A of the inner layer solid pattern 6.例文帳に追加

しかも、内層ベタパターン６にスルーホール１と同心の円からなる絶縁層露出部５を設け、絶縁層露出部５の直径は、検査用スルーホール１の直径に内層ベタパターン６のずれ許容量Ａを加えた大きさとなるようにする。 - 特許庁

To provide an exposing head capable of conducting the heat generated by a light emitting element to the medium (thyristor film) side with a high efficiency, capable of promoting the coloring reaction efficiently, also with a good cooling efficiency, to be adopted preferably in an exposing part of an image forming apparatus, such as a printer.例文帳に追加

発光素子の発生熱を媒体（サイリスフィルム）側へ高効率に伝熱することができ、発色反応を効率よく促進できて冷却効率もよく、プリンター等の画像形成装置の露光部に好ましく適用できる露光ヘッドを提供する。 - 特許庁

This opening/closing door device is not only fully opened for exposing the full display part and fully closed for shutting off all of the display part but also half opened for exposing only a part of the display part, so as to perform the performance interlocked with the pattern displayed on the display part.例文帳に追加

また、開閉扉装置は表示部を全て露出させる全開放、全て遮蔽する全閉鎖のみならず、表示部の一部のみ露出させる半開放を行うことにより、表示部で表示する図柄と連動させた演出を行うことができる。 - 特許庁

Circuit regions, 4 exposing the surface of the lead frame 3, and insulation regions 5 exposing the surface of the insulation layer 2 between the circuit regions 4, 4 and having surface projecting from the circuit region 4 are formed on the circuit forming of the heat conduction board 1.例文帳に追加

その回路形成面に、リードフレーム３の表面が露出する回路領域４と、回路領域４，４間において絶縁層２の表面が露出すると共にこの表面が回路領域４よりも突出している絶縁領域５とが形成されている。 - 特許庁

In the aligner exposing an original plate to a substrate, a retaining member retaining at least the original plate or the substrate and/or a movable table mounting the retaining member has a fiber reinforcing material in which strength is enhanced in a plane perpendicular to the optical axis of exposing light.例文帳に追加

原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、少なくとも原版または基板を保持する保持部材および／または該保持部材を搭載した可動テーブルは、露光光の光軸に直交する面内に強度を向上させた繊維強化材を有する。 - 特許庁

The image forming device includes an image carrying member 1, a primary electrostatic charger 2 for uniformly electrostatically charging the member 1 by exposing the member 1, a laser exposure device 3 for forming an electrostatic latent image by exposing the member 1, and a two-component contact developing device 4 which develops the electrostatic latent image to a sensible image.例文帳に追加

画像形成装置が、像担持体１と、像担持体１を均一に帯電する一次帯電器２と、像担持体１を露光して静電潜像を形成するレーザ露光装置３と、静電潜像を顕画化する２成分接触現像装置４とを具備する。 - 特許庁

To provide a blanket which can be used not only for keeping the body warm but also for multi-functions, and with which such treatment as measurement of blood pressure and an injection can be given by exposing only a necessary right or left arm or leg without exposing the broader skin than necessary.例文帳に追加

この発明は、体を保温するのみに使用するだけでなく、多機能的にした物で必要以上の肌を出さずに、左右どちらか必要な腕及び脚だけを出すことにより、血圧を計ったり注射等の処置が出来るようにした物である。 - 特許庁

The method includes a process of forming a photosensitive resin film containing silicon on the substrate to be treated, exposing and developing to form a photosensitive resin pattern and a process of exposing the photosensitive resin pattern to the plasma of a discharge gas containing oxygen.例文帳に追加

被処理基板上にシリコンを含む感光性樹脂膜を形成した後、露光、現像処理して感光性樹脂パターンを形成する工程と、前記感光性樹脂パターンを酸素を含む放電ガスのプラズマ中に曝す工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

A before-electrification exposure unit 10 for exposing the photoreceptor 1 is arranged just before the magnetic brush contact electrifying unit 30 and the longitudinally exposing width E-E' of the unit 10 is made narrower than the longitudinally electrifying width D-D' of the unit 30.例文帳に追加

磁気ブラシ接触帯電装置３０の直前に感光体１を露光する帯電前露光装置１０を配置し、且つ、帯電前露光装置１０の長手露光幅Ｅ−Ｅ’を磁気ブラシ接触帯電装置３０の長手帯電幅Ｄ−Ｄ’より狭くする。 - 特許庁

To provide an exposing unit, an imaging apparatus, and a method for regulating the quantity of light of the exposing unit in which an uniform image can be obtained without requiring an extra means for measuring the quantity of light, by eliminating variation in the quantity of light among light emitting elements in a light emitting array.例文帳に追加

発光アレイ内の各発光素子の光量ばらつきをなくすことにより、光量計測手段を新たに設けることなく均一な画像を得ることのできる露光装置、画像形成装置、露光装置の光量調整方法を提供する。 - 特許庁

The contact hole 12 is formed by exposing the organic film 8 formed on the insulating film 7 by using a mask provided at an aperture part 20 corresponding to the contact hole 12 and at the peripheral part of the aperture part 20 and having a slit pattern 21 having the width not wider than the resolution of an exposing device.例文帳に追加

コンタクトホール１２が、絶縁膜７の上に形成された有機膜８をコンタクトホール１２に対応する開口部３０及び開口部２０の周辺に設けられ露光装置の解像度以下の幅のスリットパターン２１を有するマスクを用いて露光されている。 - 特許庁

Further, the picture data is exposed and printed on a negative press plate and, thereafter, the picture part area of the press plate is increasingly adjusted by exposing and printing superposingly the picture data from the position where the exposing position toward the press plate is shifted by a required adjustment amount.例文帳に追加

また、印刷用画像データをネガタイプの刷版に露光して焼き付けた後、前記刷版への露光位置を必要調整量分だけずらした位置から前記印刷用画像データを露光して重ねて焼き付けることにより、刷版の画像部面積を増加調整す - 特許庁

This method comprises: a step (S103) of cleaning the face plate (a) by exposing the face plate to an active species F* of fluorine; and a step (S105) of regenerating a front surface of the face plate (b) by exposing the face plate to a plasma of gas including oxygen as a constituting element.例文帳に追加

この方法は、(ａ)フェースプレートをフッ素の活性種Ｆ^＊に曝して、フェースプレートをクリーニングする工程(Ｓ１０３)と、(ｂ)酸素を構成元素として含むガスのプラズマにフェースプレートを曝して、フェースプレートの表面を再生する工程(Ｓ１０５)とを備える。 - 特許庁

To provide a printing head, a picture printing devices and a picture printing method capable of exposing without mechanically moving the components of the picture printing device, also at a low cost, and also, exposing with a pixel shift free from an adverse effect on the performance of the printing head.例文帳に追加

画像焼付装置の構成部品を機械的に移動させることなく、低コストで、しかもプリントヘッドの性能に悪影響を及ぼすことがない画素ずらしによる露光を行うことができるプリントヘッド、画像焼付装置、および画像焼付方法を提供する。 - 特許庁

The imaging device capable of performing exposure by energizing starts exposing an object image by energizing when the cam surface of the cam 4 for desired aperture is selected, and stops performing exposing when the imaging device reaches the valley surface succeeding to the selected cam surface and the aperture 8 is closed.例文帳に追加

通電により露光可能な撮像素子は、絞りカム４の所望の絞りのカム面が選択されたときに通電により被写体像の露光を開始し、選択されたカム面に続く谷面に至ったときにシャッタ開口８が閉鎖されて露光を停止する。 - 特許庁

A method for producing the hetero-junction bipolar transistor includes forming an etching mask (96) on an emitter cap layer (118), forming a reentry shape (100) by selectively etching the exposed portion the cap layer, and exposing a portion of the cap layer, and exposing a portion of an emitter layer (116).例文帳に追加

ヘテロ接合バイポーラトランジスタを形成する方法は、エミッタキャップ層(118)上にエッチングマスク(96)を形成して、該キャップ層の一部を露出し、該キャップ層の露出した部分を選択的にエッチングしてリエントリ形状(100)を形成すると共にエミッタ層(116)の一部を露出させる。 - 特許庁

To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask.例文帳に追加

透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To improve insulation performance and heat radiation performance between an exposing electrode foil and a container, in a capacitor housed in the container, in which capacitor elements exposing the side edge parts of an electrode foil at the end parts of both sides are gathered and an insulative fluid is given.例文帳に追加

両側の端部で電極箔の側縁部が露出してなるコンデンサ素子を集合して絶縁流体を充填した容器内に収納してなるコンデンサ装置において、露出する電極箔と容器との間の絶縁性能、及び放熱性能を高めること。 - 特許庁

The shutter 5 is provided to be movably between a shutting position where it shuts the luminous flux passing aperture part 211 and the exposing aperture part 212, and an opening position where it opens the luminous flux passing aperture part 211 and the exposing aperture part 212 on the outside housing 2.例文帳に追加

シャッタ５は、外装筐体２に対して、光束通過用開口部２１１および露出用開口部２１２を閉塞する閉位置と、光束通過用開口部２１１および露出用開口部２１２を開放する開位置との間を移動可能に設けられている。 - 特許庁

To have the center of a wafer coincide with the center of a mask pattern in with proper precision by a manufacture of a semiconductor sensor, having a transfer step where the mask pattern is transferred by exposing the semiconductor wafer via the mask, without relating to the kind of exposing apparatus.例文帳に追加

マスクを介して半導体ウェハ上を露光することにより該マスクのパターンを転写する転写工程を有する半導体センサの製造方法において、露光機の種類に関係なく、ウェハの中心とマスクパターンの中心とを精度良く合致させる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and a microlens array structure for an exposure apparatus for exposing a substrate on which a positive resist material is formed over regions that turn into a plurality of individual substrates, the exposure apparatus capable of exposing a positive resist material between regions that turn into individual substrates.例文帳に追加

複数枚の個別基板となる領域に跨ってポジレジスト材料が形成された基板を露光する露光装置において、個別基板となる領域間のポジレジスト材料を露光できる露光装置及び露光装置用マイクロレンズアレイ構造体を提供する。 - 特許庁

An opening for exposing a conductor is formed by penetrating the silicon nitride film 58, the first insulating film 86 and the second insulating film 85.例文帳に追加

シリコン窒化膜５８、第１の絶縁膜８６及び第２の絶縁膜８５を貫通して導電体を露出する開口部を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern direction measuring apparatus which can measure the direction of a L/S pattern formed on a resist without exposing the resist.例文帳に追加

例えばレジストを感光させることなく、レジストに形成されたＬ／Ｓパターンの方向を測定することのできる方向測定装置。 - 特許庁

To provide a fan device having a structure of high quietness without exposing cables connected to a motor to an air stream in an air channel.例文帳に追加

モータに接続されるケーブル類を風洞内の空気流に曝されることがなく静粛性が高い構造のファン装置を提供する。 - 特許庁

This game machine is provided with a slide lid moving between a position shielding an opening 28 provided in a lower tray 23 and a position exposing the opening 28.例文帳に追加

下皿２３に設けられた開口２８を遮蔽する位置と、開口２８を露呈する位置との間で移動するスライド蓋を設ける。 - 特許庁

The tape 70 is stuck to the separation pad 54 in a state of exposing both end parts 72 in the width direction of the separation pad 54.例文帳に追加

テープ７０は、分離パッド５４の幅方向における両端部７２を露出させた状態で分離パッド５４に貼り付けられている。 - 特許庁

Thus, the waterproofness and dustproofness of the opening 14 for exposing the connector 13 to the outside of the housing 1 can be maintained.例文帳に追加

これにより、コネクタ１３をハウジング１の外部に表出する開口部１４の防水性および防塵性を維持することができる。 - 特許庁

To provide a camera which enables a film cartridge to be unloaded and replaced without exposing its internal film to undesired light.例文帳に追加

内部にあるフィルムを望ましくない露光に晒すことなく、フィルムカートリッジを取り外して交換することができるカメラを提供する。 - 特許庁

Based on the transfer position computed in step 29, a mask stage and a wafer stage are driven, and exposing operations are performed successively in steps 34 to 40.例文帳に追加

以降、ステップ２９で算出された転写位置を基に、マスクステージとウエハステージとを駆動させて、順次露光を行う（ステップ３４〜４０）。 - 特許庁

The reinforcing part 50 is provided while exposing a part of the contact part 46 and covering the circumference of the first end of the contact part 46.例文帳に追加

補強部５０はコンタクト部４６の一部を露出させ、かつコンタクト部４６の第１の端部の周囲を被覆して設けられている。 - 特許庁

The sheet type photoreceptor is taken up to the roller 7 through an electrifier 2, an exposing light source 3, a developing device 4, a transfer part 5 and a cleaning part 6.例文帳に追加

このシート状感光体は、帯電器２、露光光源３、現像器４、転写部５、クリーニング部６を経てローラ７に巻き取られる。 - 特許庁

To provide a spectrum image exposing method in which an image picked up under the same condition as an original practical scene can easily be obtained.例文帳に追加

オリジナルの実技シーンと同条件で撮影した画像を簡便に獲得可能とする、スペクトル画像露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner capable of exposing a substrate precisely even when an immersion method is applied by preventing pattern transfer precision from degrading.例文帳に追加

液浸法を適用する場合にも、パターン転写精度の劣化を防止して、基板を精度良く露光できる露光装置を提供する。 - 特許庁

An insulating film is provided so as to cover the conductive layer, and has a contact hole for partially exposing the conductive layer.例文帳に追加

また、該導電層を覆うように絶縁膜が設けられており、該絶縁膜は該導電層の一部が露出するコンタクトホールを有する。 - 特許庁

To provide a conveying device for conveying micro electronic parts while exposing four different side faces in need of inspection to the outside.例文帳に追加

微小な電子物品を、検査の必要な４つの異なる側面を外部に露出させつつ搬送する搬送装置を提供する。 - 特許庁

The method for treating electrocoating fluids involves exposing the electrocoating fluid to high-frequency ultrasound while emitting microbubbles into the electrocoating fluid.例文帳に追加

電着流体に微小泡を発しつつ、高周波超音波に電着流体をさらすことを含む電着流体を処理するための方法。 - 特許庁

Then, the plating bedding film exposing in the frame is etched, and etching rebounds of the plating bedding film are adhered again to the wall of the frame side.例文帳に追加

次に、フレーム間に露出しているメッキ下地膜をエッチングし、該メッキ下地膜のエッチング跳ね返りをフレーム側壁に再付着させる。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS FOR SUPPRESSING FOCUS ERROR, USING SUBSTRATE TOPOLOGY WITH REGULATED EXPOSING SLIT SHAPE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

露光スリットの形状が調整された、基板トポロジーによる焦点誤差の抑制を可能にするリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁