「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

The crushed coating material waste is again arranged in the drying chamber 1 and is further dried by exposing the coating material waste to the air of ordinary temp. under low humidity.例文帳に追加

この粗粉砕した塗料廃棄物を再び乾燥室１内に配置し、低湿度で常温の空気にさらして更に乾燥する。 - 特許庁

Then, a bit line insulating film 110 embedding the inside of the opening is formed while exposing an upper surface of the sacrifice nitride film 105.例文帳に追加

次に、犠牲窒化膜１０５の上面を露出させる一方で開口部の内部を埋め込むビット線絶縁膜１１０を形成する。 - 特許庁

To provide a wire conduit exposing box which can easily satisfy conditions of drawing-out directions of various types of wire conduits and different wires.例文帳に追加

電線管の種類や異なる電線の引出方向の条件への対応を容易にできる電線管用露出ボックスを提供すること。 - 特許庁

To prevent air in a processing solution processing part from getting into an output device sucking and holding photosensitive material when exposing the photosensitive material.例文帳に追加

感光材料を露光するときに吸着保持する出力装置内に、処理液処理部内の空気が入り込むのを防止する。 - 特許庁

The reinforcing part 50 is provided while exposing a part of the contact part 46 and covering the circumference of the first end of the contact part 46.例文帳に追加

補強部５０は、コンタクト部４６の一部を露出させ、かつ、コンタクト部４６の第１の端部の周囲を被覆して設けられている。 - 特許庁

The laminated decoration film 10 and reinforcing plate 30 are provided with keytop exposure parts 11 and 31 made of openings for exposing the keytops 71.例文帳に追加

積層した化粧フイルム１０及び補強板３０にキートップ７１を露出する開口からなるキートップ露出部１１，３１を設ける。 - 特許庁

The wiping cloth 1 has a thumb exposure opening 12 for exposing the inserted thumb from the inside to the outside, and has a structure that the exposed thumb catches on the wiping cloth 1 during removing work by exposing the thumb from the thumb exposure opening 12.例文帳に追加

この払拭布１は、挿入した手の親指を内側から外側に露出させるための親指露出孔１２を有しており、この親指露出孔１２から親指を露出させて、払拭作業を行う際に、露出させた親指が、払拭布１に対するひっかかりとなる構造を有する。 - 特許庁

First image data is obtained by exposing an image pickup element 14 for a first exposure time (T1) in the state of opening an optical path opening and closing means 12 and second image data is obtained by exposing the element 14 for a second exposure time (Ta) in the state of closing the means 12.例文帳に追加

光路開閉手段を開いた状態で撮像素子を第１の露光時間（Ｔ１）露光させることにより第１の画像データを得るとともに光路開閉手段を閉じた状態で撮像素子を第２の露光時間（Ｔａ）露光させることにより第２の画像データを得る。 - 特許庁

A first magnet 34 is disposed oppositely to the exposing unit 18 while holding a recording medium 36 between and toner heated by the exposing unit 18 loses magnetism and is attracted by the first magnet 34 to adhere to the recording medium 36 thus performing transfer and development simultaneously.例文帳に追加

また、記録媒体３６を挟んで露光装置１８に対向するように第１の磁石３４が配置されており、露光装置１８で加熱されたトナーは磁性を失って第１の磁石３４により記録媒体３６に付着し、転写と現像が同時に行われる。 - 特許庁

The method of characterizing the biological activity of a candidate compound may include exposing cells to the candidate compound, and then exposing the cells to a repetitive application of electric fields to set the transmembrane potential to a level corresponding to a pre-selected voltage dependent state of a target ion channel.例文帳に追加

候補化合物の生物学的活動を特徴付けする方法は、細胞を候補化合物に曝すことと、その後で、トランスメンブレン電位をターゲットイオンチャネルの予め選択された電圧依存状態に対応するレベルに設定するように、細胞を電界に繰り返し曝すこととを含むことができる。 - 特許庁

To provide an exposure device for exposing efficiently different kinds of color filter patterns with one exposure line, in the exposure device for pattern-exposing the color filter patterns for imposition on a treated substrate formed with a photosensitive layer, and to provide an exposure method for the different kinds of patterns.例文帳に追加

面付け用のカラーフィルタパターンを感光層が形成された処理基板にパターン露光するインラインの露光装置において、１台の露光ラインで効率良く異種のカラーフィルタパターンを露光できる露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The atmospheric sensor comprises: a core exposing part 5 formed on a part of clad 4 of the optical fiber cable or the optical wave guide; and an alternative lamination layers 6 formed with one to a plurality numbers of alternative lamination composed of cationic compound films 8 and anionic compound films 9 on the surface of the core exposing part 5.例文帳に追加

本発明は、光ファイバ又は光導波路のクラッド４の一部に形成されたコア露出部５と、コア露出部５の表面にカチオン性化合物膜８とアニオン性化合物膜９の１乃至複数回の交互積層により形成された交互積層部６と、を備える。 - 特許庁

A method for characterizing the biological activity of a candidate compound includes exposing cells to the candidate compound, and then exposing the cells to a repetitive application of electric fields to set the transmembrane potential to a level corresponding to a pre-selected voltage dependent state of a target ion channel.例文帳に追加

候補化合物の生物学的活動をキャラクタライズする方法は、細胞を候補化合物に曝すことと、その後で、トランスメンブレンポテンシャルをターゲットイオンチャネルの予め選択された電圧依存状態に対応するレベルに設定するように、細胞を電界に繰り返し曝すこととを含むことができる。 - 特許庁

The method of forming the buried wire includes steps of etching a wire groove with an opening for exposing a wire 1 on a lower layer, then peeling the residuals 5 on the wire by plasma excitation, and then cleaning the wire-exposed surface by a gaseous organic gas 6 without exposing in the atmosphere.例文帳に追加

下層の配線１を露出させるための開口を伴う配線溝孔エッチング後に、プラズマ励起により配線上の残渣５を剥離処理したのち、大気中に晒すことなく、気体状態の有機系ガス６により配線の露出部表面の清浄化処理を行う。 - 特許庁

To provide a small size wave-front aberration measuring apparatus which can mount easily a measuring apparatus to an exposing apparatus and can quickly measure with higher accuracy the aberration of the optical system to be detected, a method of measuring such aberration, an exposing apparatus which can manufacture devices with higher accuracy and excellent productivity, and a method of manufacturing devices.例文帳に追加

露光装置への測定装置の装着が容易で、被検光学系の収差を迅速かつ高精度に測定可能な小型の波面収差測定装置及び方法、デバイス等を高精度にかつ生産性よく製造可能な露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

This holographic optical element has interference fringes in predetermined compartments, and the interference fringes can be obtained by exposing with the reference wave surface obtained from a monochrome coherent laser light source as well as exposing with the parallel wave surface similarly obtained from this laser light source at the same time, and developing successively.例文帳に追加

このホログラフィ光学素子は所定の区画に干渉縞を有しており、この干渉縞は、単色のコヒーレントなレーザ光源から得られる基準波面と、同様にこのレーザ光源から得られる平行な波面とで同時に露光し、引き続いて現像することにより得られる。 - 特許庁

The control panel 1 having a user operation section operated by a user and a maintenance operation section operated by a manager comprises a user door 2 for exposing the user operation section by opening, and a maintenance door 3 for exposing the maintenance operation section further by opening while the user door 2 is open.例文帳に追加

ユーザが操作するユーザ操作部と、管理者が操作するメンテナンス操作部とを有する制御盤１において、開放することによりユーザ操作部が露出するユーザ扉２と、ユーザ扉２を開放した状態で開放することにより更にメンテナンス操作部が露出するメンテナンス扉３とを備えた。 - 特許庁

The image recorder 10 has a plurality of light sources for irradiating a photosensitive material A with a plurality of kinds of exposing light beam having a different wavelength region in order to excite pigments of cyan, magenta and yellow wherein at least two kinds of exposing light beam from these light sources have different beam diameters.例文帳に追加

画像記録装置１０は、シアン、マゼンタ、イエロの各色素を発色すべく、波長領域の異なる複数種類の露光ビームを感光材料Ａに照射する複数の光源を有し、この光源から照射される露光ビームの少なくとも２種類は、露光ビームのビーム径が異なっている。 - 特許庁

The nip roller is used for an exposing device for exposing a pattern to a sheet formed by laminating a photosensitive resin composition for forming a color filter on a transparent continuous sheet-like base material, in which the nip roller holding the sheet is formed of a ceramic-metal matrix composite.例文帳に追加

透明な連続シート状基材上にカラーフィルター形成用の感光性樹脂組成物を積層したシートにパターンを露光する露光装置に用いられるニップローラであって、該シートを保持する前記ニップローラがセラミックス−金属複合材料で形成されていることを特徴とするニップローラ。 - 特許庁

The exposure method for illuminating a mask M1 with illumination light and exposing the substrate P using the mask pattern of the mask M1 includes scanning the substrate P relative to the mask M1 in a scanning direction which is an in-plane direction of the substrate P, and exposing the substrate P during relative scanning.例文帳に追加

照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、基板Ｐを、マスクＭ１に対して基板Ｐの面内方向である走査方向に相対走査させること、相対走査中に基板Ｐを露光することを含む。 - 特許庁

Next, surface potential of an exposed part of the photoreceptor drum 11 is detected by the surface potential sensors 27Y to 27BK and optical intensity of laser beams 16Y to 16BK by an exposing device 16 is controlled by an exposing device control system 50b so that a detection result shows a specified exposure reference value.例文帳に追加

次いで感光体ドラム１１の露光部の表面電位を、表面電位センサ２７Ｙ〜２７ＢＫで検出し、検出結果が規定の露光基準値となるように、露光装置制御系５０ｂにより露光装置１６によるレーザ光１６Ｙ〜１６ＢＫの光強度を制御する。 - 特許庁

An auxiliary wiring 14 is formed on the periphery of the first electrode 13 in such a manner as to be insulated from the first electrode 13, and an isolation insulating portion 15 having a first opening 15A exposing the first electrode 13 and a second opening 15B exposing the auxiliary wiring 14 is formed.例文帳に追加

第１電極１３の周囲には、第１電極１３に対して絶縁性を保って補助配線１４が形成されており、第１電極１３を露出させる第１開口１５Ａと補助配線１４を露出させる第２開口１５Ｂとを有する分離絶縁部１５が形成されている。 - 特許庁

When the detected signal becomes high, an interrupt is generated and the CPU 150 calculates a count value based on the counted values of the counters 158, 160 and a counted value corresponding to a distance from a position of the hole sensor and an exposing position to an output point of an exposing start signal, and then the CPU 150 sets the counted value to the counter 158.例文帳に追加

ホール検出信号がハイレベルになると、割り込みが発生し、ＣＰＵ１５０は、カウンタ１５８、１６０のカウント値、ホールセンサの位置から露光位置までの距離に相当するカウント値から、露光開始信号を出力させるまでのカウント値を演算してカウンタ１５８に設定する。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate original plate of an on-press development type or a non-processed (non-development) type and a lithographic printing method by which lithography by laser exposing is possible, preservation stability is good, visibility of a plate after exposing is good, waste sheet and plate life is maintained in good condition.例文帳に追加

レーザー露光による描画が可能であり、保存安定性に優れ、露光後の版の視認性、損紙および耐刷性が良好な状態に保持される機上現像型または無処理（無現像）型の平版印刷版原版ならびに平版印刷方法を提供する。 - 特許庁

The plural exposing members are provided on the developing part supporting member, and the developing part supporting member is supported by shifting means (a developing part shifting mechanism 110) to be shifted between a close position close to the photoreceptors along optical axes of the exposing members and a distant position away from the photoreceptors.例文帳に追加

複数の露光部材は現像部支持部材に設けられ、現像部支持部材は、変位手段（現像部変位機構１１０）によって、露光部材の光軸方向において感光体に近接した近接位置と、感光体から離間した離間位置との間で変位可能に支持される。 - 特許庁

This method comprises using a high-sensitivity negative type resist 14 and a low-sensitivity type negative resist 15 and exposing the high- sensitivity negative type resist 14a and the low-sensitivity type negative resist 15a in a light shielding band region 10a and exposing the high-sensitivity negative type resist 14b in a halftone region 10b.例文帳に追加

高感度ネガ型レジスト１４と低感度ネガ型レジスト１５とを用い、遮光帯領域１０ａでは高感度ネガ型レジスト１４ａと低感度ネガ型レジスト１５ａとを露光し、ハーフトーン領域１０ｂでは高感度ネガ型レジスト１４ｂを露光するように構成した。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus including a plurality of cartridges, which is reduced in the number of part items and thus reduced in the cost of cartridges by that much by adapting one of the cartridges to need no exposing device such as a preexposing device or a latent image exposing device.例文帳に追加

複数のカートリッジを備えた画像形成装置において、カートリッジの一つは、前露光装置或いは静電潜像用露光装置などの露光装置を必要としない構成とし、部品点数を削減し、その分価格の安いカートリッジを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

This master optical disk exposing device is constituted so that a glass base 5 applied with a photoresist is irradiated by laser beams 1 modulated in accordance with the pit information to be recorded, thereby the master optical disk is manufactured, and the exposing beam intensity of short pit is controlled in accordance with the long pit formed on the adjacent track.例文帳に追加

フォトレジストを塗布したガラス基盤５に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ光１を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤露光装置であり、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御する。 - 特許庁

This image recording apparatus can record images in the photosensitive material without generating unevenness of exposure in the photosensitive material by restricting the floating quantity of the photosensitive material within the depth, wherein exposure is necessary, at the exposing position by pressing the photosensitive material with the pair of carrying rollers 42 and 44 at positions close to the exposing position in comparison with the nipping position.例文帳に追加

搬送ローラ対４２、４４のニップ位置よりも露光位置側で感光材料を押えて露光位置における感光材料の浮き上がり量を露光必要深度内に抑制し感光材料に露光ムラを生じないようにして、感光材料に画像記録可能とする。 - 特許庁

The microstrip line of a first microwave component is projected from a carrier plate to provide a projection part exposing a ground conductor, the microstrip line of a second microwave component is arranged so as not to reach the edge of the carrier plate, and an exposure part exposing the carrier plate formed of a conductor is provided.例文帳に追加

第１のマイクロ波部品のマイクロストリップ線路をキャリアプレートから突出させて地導体が露出する突出部を設け、第２のマイクロ波部品のマイクロストリップ線路をキャリアプレートの縁に達しないように配置して導体によって形成されるキャリアプレートが露出する露出部を設けた。 - 特許庁

A method for manufacturing a resin pattern includes at least steps in the following order: (1) applying a photosensitive alkali aqueous solution developing type resin on a substrate; (2) exposing the resin; (3) exposing the resin film after exposure to a high humidity environment; (4) developing and (5) drying the resin.例文帳に追加

少なくとも（１）基板上に感光性アルカリ水溶液現像型樹脂を塗布する工程、（２）露光する工程、（３）露光後の樹脂皮膜を高湿度雰囲気下に曝す現像前処理工程、（４）現像工程、（５）乾燥工程をこの順に有する樹脂パターンの製造方法。 - 特許庁

An ink containing an insulating material is applied by printing to at least the external peripheral part of metal exposing surfaces 3a, 4a unnecessary for solder bonding or mounting out of a metal exposing surface exposed on the surface of a package body 1a for housing a semiconductor element, thereby forming an insulating thin film layer 10.例文帳に追加

半導体素子を収納するパッケージ本体１ａの表面に露出する金属露出面のうち、半田接合又は実装に不必要な金属露出面３ａ、４ａの少なくとも外周部に、絶縁性材料を含むインクを印刷して絶縁薄膜層１０を形成する。 - 特許庁

A liquid w is supplied to a location between a projection optical system PL and the plano-convex lens 41, and an exposing light, among exposing lights incident to the liquid w from the projection optical system PL, incident to the light transmitting portion 44 is entered into the plano-convex lens 41 and converged without passing through gas.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと平凸レンズ４１との間には液体ｗが供給され、投影光学系ＰＬから液体ｗに入射した露光光のうち、光透過部４４に入射した露光光は、気体中を通過せずに平凸レンズ４１に入射して収束される。 - 特許庁

First image data are obtained by exposing an imaging device for a first exposure time (T1) while opening an optical path opening/closing means, and second image data are obtained by exposing the imaging device for a second exposure time (Ta) while closing the optical path opening/closing means.例文帳に追加

光路開閉手段を開いた状態で撮像素子を第１の露光時間（Ｔ１）露光させることにより第１の画像データを得るとともに光路開閉手段を閉じた状態で撮像素子を第２の露光時間（Ｔａ）露光させることにより第２の画像データを得る。 - 特許庁

To provide a surface position detecting apparatus and method capable of accurately detecting the surface position to be detected, a method of adjusting the focusing apparatus which enables accurate calibration manipulation, an exposing apparatus which can improve the exposing accuracy and a method of effectively manufacturing device of the high integration density.例文帳に追加

より正確な被検面位置の検出が可能な面位置検出装置及びその方法、より正確な較正操作が可能な合焦装置の調整方法、露光精度が向上可能な露光装置、高集積度のものを効率よく製造可能なデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

An exposure method includes a step of performing a first sequence for exposing the perfect shot of a wafer 1 and a step of performing a second sequence for exposing the edge shots of regions A and B predetermind to be arranged in parallel to an X-axis direction in the wafer 1 apart from the first sequence.例文帳に追加

露光方法は、ウェハー１の完全なショットを露光する第１シーケンスを実行するステップと、第１シーケンスとは別に、ウェハー１にＸ軸方向に並ぶように規定された領域Ａ、Ｂのエッジショットを露光する第２シーケンスを実行するステップとを備えている。 - 特許庁

In addition, the main controller 70 controls the transmission factor T of the output attenuating mechanism 50 based on a signal showing a target pulse energy Pt transmitted from an exposing apparatus 200, in order to accord the output energy of the laser apparatus 1 to the target pulse energy Pt (smaller than the target pulse energy PL) required by the exposing apparatus 200.例文帳に追加

また、レーザ装置１の出力エネルギを、露光装置２００で要求される目標パルスエネルギＰt（＜目標パルスエネルギＰL）に一致させるべく、露光装置２００から送信された目標パルスエネルギＰtを示す信号に基づき、出力減衰機構５０の透過率Ｔを制御する。 - 特許庁

The sheet post-processing device 7 comprises a paper discharge tray 19 for stacking sheets discharged from an image forming unit 3 for forming an image, and further comprises a shutter member 47 which is movable to the covering position for covering the paper discharge tray 19 and the exposing position for exposing the paper discharge tray.例文帳に追加

画像を形成する画像形成部３から排紙されたシートを積載する排紙トレイ１９を備えているシート後処理装置７において、排紙トレイ１９を覆う被覆位置と排紙トレイを露出する露出位置とに移動可能なシャッタ部材４７を設けた。 - 特許庁

The image forming device includes an image carrying member 1 using an organic photoreceptor of a function separation type, a primary electrostatic charger 2 for uniformly electrostatically charging the member 1 by exposing the member 1, a laser exposure device 3 for forming an electrostatic latent image by exposing the member 1, and a two-component contact developing device 4 which develops the electrostatic latent image to a sensible image.例文帳に追加

機能分離型の有機感光体を用いた像担持体１と、像担持体１を均一に帯電する一次帯電器２と、像担持体１を露光して静電潜像を形成するレーザ露光装置３と、静電潜像を顕画化する２成分接触現像装置４とを有する。 - 特許庁

To provide a driving offense exposure system technology having a simple regulation device installed in a short time when regulating automobiles, efficiently and appropriately exposing a person driving without a license, and easily exposing a stolen car.例文帳に追加

自動車取締りを実施する際に、簡易な取締り機器で短時間に設置が可能で、自動車に対して無免許運転者の摘発を効率的かつ的確に行うことができ、また、盗難車等の摘発も容易に行うことができる違反運転摘発システム技術を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming device by which a color image free from color slurring is obtained, in canceling effect of fluctuation of range between an exposing surface of a photosensitive drum and exposing means in consequence of eccentricity by detecting phase of respective photosensitive drums, and making write out timing of respective images to coincide.例文帳に追加

各感光ドラムの偏心の位相を検出し、画像の書き出しタイミングを合わせることにより、偏心による感光ドラムの露光面と露光手段間の距離の変動の影響を相殺し、色ずれのないカラー画像を得ることを可能とした画像形成装置にある。 - 特許庁

The magnetic element also has: an external conductor 40 fitted on the external surfaces 21b and 21d of the core member 20 and electrically connected to the first exposing section; and a terminal electrode 50 electrically connected to the second exposing section and formed on the external surface of the core member 20.例文帳に追加

また、コア部材２０の外面２１ｂ，２１ｄに設けられ、第１の露出部分に電気的に接続される外部導体４０を有していて、さらに第２の露出部分に対して電気的に接続され、コア部材２０の外面に形成される端子電極５０と、を具備している。 - 特許庁

In this case, the structure can be provided on the front face of the display panel 41 without exposing the support member to the outside so as to improve the external appearance.例文帳に追加

この場合、支持部材を外部にさらすことなく表示パネル４１前面に構造物を設けることができ、外観を向上できる。 - 特許庁

A projected part 9a for engaging to the stopper 13 is provided at a flank of the film pack 9 to execute positioning in a vertical direction to a film exposing surface 11a.例文帳に追加

フイルムパック９の側面にストッパ１３と係合する凸部９ａを設け、フイルム露光面１１ａに垂直方向の位置決めを行う。 - 特許庁

Further, the uppermost plating layer 5 constituting the uppermost surface is formed on the ground surface plating layer 4 by exposing the water repellent particles 3b.例文帳に追加

さらに、下地めっき層４上には、撥水性粒子３ｂを露出させつつ最上面をなす最上めっき層５が形成されている。 - 特許庁