「Film processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce defective parts of an oxidation film in the substrate electrode of a plasma processing unit.例文帳に追加

プラズマ処理装置の基板電極における酸化皮膜の欠陥部を低減する。 - 特許庁

To provide substrate processing apparatus capable of forming a uniform metal thin film on a substrate.例文帳に追加

基板に均一な金属薄膜を形成できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a boring processing method of a flexible base board, a through-hole processing device to a thin film base board, and a manufacturing device of a thin film solar battery, capable of reducing product cost.例文帳に追加

製品コストを低減できる可撓性基板の穴あけ加工方法、薄膜基板への貫通孔加工装置、および薄膜太陽電池の製造装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF PRECESSING OBJECT, PROCESSING DEVICE, METHOD AND DEVICE OF FORMING THIN FILM例文帳に追加

被処理体の処理方法、処理装置、薄膜形成方法及び薄膜形成装置 - 特許庁

The organic compound thin film layer comprises a layer which is made of a carbon material obtained by processing at least an organic material.例文帳に追加

有機半導体層に有機物で処理した炭素材料を利用する。 - 特許庁

The processing blocks G1 to G4 perform film forming of the release agent onto the surface of the template T.例文帳に追加

処理ブロックＧ１〜Ｇ４は、テンプレートＴの表面に離型剤を成膜する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF THIN FILM, FREQUENCY ADJUSTING METHOD OF PIEZOELECTRIC RESONATOR, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

薄膜の加工方法、圧電振動子の周波数調整方法、及び電子デバイス - 特許庁

METHOD FOR FORMING INSULATING FILM, COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM, AND PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

絶縁膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および処理システム - 特許庁

LOW-TEMPERATURE MOCVD PROCESSING FOR MANUFACTURING PrxCa1-xMnO3 THIN FILM例文帳に追加

ＰｒｘＣａ１−ｘＭｎＯ３薄膜製造のための低温ＭＯＣＶＤ処理 - 特許庁

Anneal processing is applied to the gate insulation film 11 under an environment containing oxygen.例文帳に追加

酸素を含有する雰囲気中においてゲート絶縁膜１１をアニール処理する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING SILICON NITRIDE FILM, FORMING DEVICE, AND PROCESSING METHOD AND PROGRAM FOR THE DEVICE例文帳に追加

シリコン窒化膜の形成方法、形成装置、形成装置の処理方法及びプログラム - 特許庁

METHOD OF PROCESSING TRANSPARENT ELECTRODE LAYER, AND THIN FILM PHOTOELECTRIC CONVERTING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

透明電極層の加工方法およびそれを用いた薄膜光電変換装置 - 特許庁

THICK FILM CONDUCTOR COMPOSITION FOR MULTILAYERED ELECTRONIC CIRCUIT AND DEVICE, AND ITS PROCESSING TECHNOLOGY例文帳に追加

多層電子回路およびデバイス用の厚膜導体組成物およびその加工技術 - 特許庁

The number of substrates housed in the cassette is a common multiple of the number of processing substrates by the first film forming devices 22, 23 and the number of processing substrates by the second film forming devices 79, 80.例文帳に追加

カセットの基板収容枚数は、第１成膜装置２２，２３の基板処理枚数と第２成膜装置７９，８０の基板処理枚数との公倍数である。 - 特許庁

To improve productivity by making a film thickness of a thin film formed on an inner wall of a processing chamber thin in precoat processing performed after cleaning to prolong a cleaning cycle.例文帳に追加

クリーニング後に実施するプリコートにおいて、処理室内壁に形成される薄膜の膜厚を薄くさせ、これによりクリーニング周期を長くでき、生産性を向上させる。 - 特許庁

INTEGRATED TYPE THIN FILM SOLAR CELL, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND LASER PROCESSING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

集積型薄膜太陽電池とその製造方法及びそのレーザ加工方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING FUNCTIONAL FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING INKJET RECORDING HEAD USING THE SAME例文帳に追加

機能膜の加工方法、及びそれを利用したインクジェット記録ヘッドの製造方法 - 特許庁

In time T1, a user 4 performs film processing in a filming space 2.例文帳に追加

時間Ｔ１において、撮影空間２では、ユーザ４が、撮影処理を行っている。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method of processing a compensation film for a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶デイスプレイ用コンペンセーションフィルムの加工装置及び方法を提供する。 - 特許庁

FILM FORMATION METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

成膜方法、半導体装置及びその製造方法、並びに基板処理装置 - 特許庁

To provide a focus ring having a heat conductive sheet having a film thickness suitable to plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理に適した膜厚の伝熱シートを有するフォーカスリングを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a positive type photosensitive resin composition in which the film thickness of the unexposed part is not reduced even in thick film processing and a high sensitivity pattern is obtained.例文帳に追加

厚膜加工においても未露光部の膜減りがなく高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

ADHESIVE FILM FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR, SEMICONDUCTOR WAFER, SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体加工用粘着フィルム、半導体ウエハ、半導体素子および半導体装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING PROTECTIVE FILM ON DEVICE-FORMED SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER DURING PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェハ加工における半導体ウェハのデバイス面保護膜形成方法 - 特許庁

To provide a film formation method and a substrate processing apparatus which can increase the number of substrates capable of processing at once, and improve productivity of a GaN epitaxial film.例文帳に追加

一度に処理する基板の枚数を増大させ、ＧａＮのエピタキシャル膜の生産性を向上させることができる膜の形成方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A member 5 (liquid repellent film 6) as a processing target and a photomask 7 are spaced to define a space between the liquid repellent film 6 formed on the processing target member 5 and the photomask 7.例文帳に追加

被処理部材５（撥液膜６）とフォトマスク７との間を離間させて、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間に空間を生じさせる。 - 特許庁

THIN FILM PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING FLUORINE RADICAL, AND SUPERCONDUCTING STRUCTURE例文帳に追加

フッ素ラジカルによる薄膜加工方法及び装置並びにその超伝導構造体 - 特許庁

With a semiconductor device manufacturing method according to an embodiment, a processing target film is formed on a semiconductor substrate 1 and a negative resist 3 is formed on the processing target film.例文帳に追加

実施形態の半導体装置の製造方法では、半導体基板１上方に被加工膜を形成し、前記被加工膜上にネガ型レジスト３を形成する。 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND THIN FILM FORMING METHOD例文帳に追加

半導体基板の表面処理方法、半導体基板、及び薄膜形成方法 - 特許庁

RESIN FILM EXCELLENT IN EMBOSSING PROCESSABILITY, EMBOSSING PROCESSING METHOD, AND DECORATIVE METAL SHEET例文帳に追加

エンボス加工性に優れた樹脂フィルム、エンボス加工処理方法及び化粧金属板 - 特許庁

The electron-beam processing is previously performed on the polyimide film surface so as to be activated.例文帳に追加

ポリイミドフィルム表面にはあらかじめ電子線処理を施して活性化しておく。 - 特許庁

An optical polymer film stretching machine 2 is a processing apparatus 3 and a tenter apparatus 4.例文帳に追加

光学用ポリマーフィルム延伸機２は、処理装置３とテンター装置４とを備える。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for suppressing collapse of a pattern, in a substrate having a metal film formed thereon.例文帳に追加

金属膜が形成された基板においてパターンの倒壊を抑制すること。 - 特許庁

This processing method for the synthetic resin film is constituted so as not only to cause slackening in the synthetic resin film after stretch processing but also to spray air controlled in temperature on the synthetic resin film on a truncated cone-shaped stretching roll to cool or heat the synthetic resin film.例文帳に追加

伸展加工後の合成樹脂フィルムに弛みを発生させると同時に、円錐台状の伸展ロール上の合成樹脂フィルムに対して温度制御された気体を吹き付けて冷却又は加熱する合成樹脂フイルムの加工方法。 - 特許庁

Since the number of metallic fine particles 6 in the first insulating film 2 can be controlled based on the film thickness of the first insulating film 2 and conditions of implantation of a metal element into the first insulating film 2 and annealing, the manufacturing is not restricted by the minimum processing dimension of fine processing.例文帳に追加

第１絶縁膜２中の金属微粒子６の数を、第１絶縁膜２の膜厚と、第１絶縁膜２への金属元素の注入及びアニール条件とで制御できるので、微細加工の最小加工寸法の制約を受けない。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing apparatus, wherein a film of good quality can be obtained by minimizing an impurity concentration of a thin film formed by a microwave plasma processing apparatus including a dielectric for introducing an electromagnetic wave into a processing chamber.例文帳に追加

電磁波を処理室へ導入するための誘電体を備えたマイクロ波プラズマ処理装置において成膜された薄膜の不純物濃度を低く抑え、良質な膜を得ることが可能なプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The laser processing method comprises: a pasting stage where a protective film for laser processing is pasted on the surface of the material to be processed; and a laser processing stage where the material to be processed is irradiated with laser light via a protective film for laser processing.例文帳に追加

他の発明であるレーザー加工方法は、レーザー加工用の保護膜を被加工材料表面に貼り合わせる貼合工程と、レーザー加工用の保護膜を介して被加工材料にレーザー光を照射するレーザー加工工程を有するものである。 - 特許庁

By the configuration, since the need of providing the adhesion enhancement processing part in processing blocks other than the development processing block 20 is eliminated, the number of processing parts (a heat processing unit for performing heat processing after applying an antireflection film, for instance) to perform the processing of relatively long processing time is increased accordingly.例文帳に追加

この構成によると、現像処理ブロック２０以外の他の処理ブロックに密着強化処理部を設ける必要がなくなるので、処理時間が比較的長い処理を行う処理部（例えば、反射防止膜を塗布後の熱処理を行う熱処理ユニット）の個数をその分だけ増加させることができる。 - 特許庁

A thin plate of a minute thin film different from a target sample is transferred and fixed to a processing position in place of the focusing ion beam assist deposition (FIBAD) film fabricated on the surface of the sample during sample processing to be used as a protective film.例文帳に追加

試料加工の際に試料表面に作製していた集束イオンビームアシストデポジション（FIBAD）膜の代わりに、対象試料とは別の微小な薄膜の薄板を加工位置に移設固定して保護膜とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method, capable of processing a substrate at a low temperature so that a barrier film is able to have film thickness that ensures sufficient barrier performance, while suppressing evaporation of moisture in an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜中の水分の蒸発を抑制しつつ、バリア膜に、充分なバリア性を確保するための膜厚を得ることが可能となるように、基板を低温で処理できる基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming method includes: (a) forming a film using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film; and (c) processing the exposed film using an organic processing liquid.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes a step (S1) of placing a wafer having a processed film in a processing chamber and a step (S2) of measuring an initial film thickness of the processed film before processing.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被処理膜を有するウエハを処理チャンバー内に載置する工程（ステップＳ１）と、処理前における被処理膜の初期膜厚を測定する工程（ステップＳ２）とを有する。 - 特許庁

To provide a film processing apparatus for acquiring image data with a wide dynamic range without losing an excellent aspect of the film processing apparatus wherein a series of processes from the development of an undeveloped photo film to the acquisition of image data can automatically be implemented.例文帳に追加

未現像写真フィルムの現像から画像データの取得までの一連の処理を自動的に行う良好な面を損なうことなく、広いダイナミックレンジの画像データを取得するフィルム処理装置を構成する。 - 特許庁

Each processing of developing, fixing, washing and drying the exposed X-ray film is performed by the automatic developing machine 1 while carrying the exposed X-ray film.例文帳に追加

自動現像機１は、撮影済みのＸ線フィルムを搬送しながら、現像、定着、水洗、乾燥の各処理を行う。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of executing proper film forming processing, even when the rotation speed of a turntable is increased.例文帳に追加

回転テーブルの回転速度を高めた場合でも良好な成膜処理を行うことができる成膜装置を提供すること。 - 特許庁