H 2 O 2の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 50件
In chemical formula 1, X is an -S(=O)_2 group; Y is H or a monovalent cation; Z^1 and Z^2 are each an O or S atom; s1 is an integer of at least 1.例文帳に追加
化学式2において、Ar^1は二価の芳香族基、Z^3及びZ^4はそれぞれO又はS原子、s2は1以上の整数。 - 特許庁
The copper alloy rolled foil comprises 500-2,500 mass ppm Sn, 20 mass ppm or less oxygen, 2 mass ppm or less hydrogen, while satisfying [O]×[H]^2×[Sn]^1/2≤1,000, ([M] is a concentration of M by mass ppm), and the balance Cu with unavoidable impurities.例文帳に追加
500〜2500 mass ppmのSnを含有し,酸素含有量が20 mass ppm以下,水素含有量が2 mass ppm以下であり, [O]×[H]^2×[Sn]^1/2 ≦1000 ([M]はMのmass ppm単位の濃度)であり,残部Cu及び不可避的不純物からなる銅合金圧延箔 - 特許庁
R-O-(PO)_m-(EO)_n-H (1), and R1-O-[(PO)_x/(EO)_y]-SO3M (2).例文帳に追加
R−O−(PO)m−(EO)n−H(1)R1−O−[(PO)x/(EO)y]−SO3M(2) - 特許庁
The invention provides compounds of formula I, (wherein A_1 is O, S or -N(R_2)-, R_1 is H, an aryl, etc., R_2 is H, an aryl, etc., R_3 and R_4 are each independently H, a halogen atom etc.), and the pharmaceutical compositions comprising the compounds.例文帳に追加
式Iの化合物(ここで、A_1はO、Sまたは-N(R^2)-、R1は、-水素、-アリール等、R2は、-水素、-アリール等、R3およびR4は独立的に水素、ハロゲン等を示す。)および該化合物を含有する薬剤組成物。 - 特許庁
Assuming a distance between an outside surface 21 of the front face plate 2 and an outside surface 31 of the back face plate 3 as H, and the shortest distance between the neutral axis O_H in the thickness direction 191 of the shock absorbing member 1 and the outside surface 21 of the front face plate 2 as h, the relationship of 0.25≤h/H≤0.45 is satisfied.例文帳に追加
正面板2の外側面21と背面板3の外側面31との間の距離をHとし、衝撃吸収部材1の厚み方向191における中立軸O_Hと正面板2の外側面21との最短距離をhとすると、0.25≦h/H≦0.45という関係を満足する。 - 特許庁
The formula (1) is -[C(H,F)_2]_n-X-(CF_2)_m-SO_3H when X is O or a direct bond and n, m are respectively integers of 1 or more and 3 or less.例文帳に追加
−[C(H、F)_2]_n−X−(CF_2)_m−SO_3H ・・・(1) 但し、Xは、O又は直接結合、n、mは、それぞれ、1以上3以下の整数。 - 特許庁
In this time, in the above copper or the copper alloy, [H]2×[O] is to be 40, when content of hydrogen is to be 1.0 ppm or less, content of oxygen is to be 50 ppm or less, the content of hydrogen is to be [H] (ppm), and the content of oxygen is to be [O] (ppm).例文帳に追加
このとき、前記銅又は銅合金において、水素含有量を1.0ppm以下、酸素含有量を50ppm以下、水素含有量を[H](ppm)、酸素含有量を[O](ppm)とするとき、[H]^2×[O]を40以下とする。 - 特許庁
The method for producing the phosphorus compound represented by general formula (1) comprises reacting an isocyanide represented by the general formula (2): R^1NC with a di-substituted phosphine oxide represented by the general formula (3): R^2R^3P(O)H in the presence of a catalyst containing a transition metal of the group X.例文帳に追加
一般式(2) R^1NCで表されるイソシアニドと一般式(3)R^2R^3P(O)Hで表される二置換ホスフィンオキシドとを、10族遷移金属を含む触媒の存在下で反応させて一般式(1)で示されるリン化合物を製造する。 - 特許庁
In compound (1), R^1 and R^2 are each H, a 1-8C alkyl group, or a 5-8C cycloalkyl group, R^3 is H or a 1-8C alkyl group, and X is a single bond, S, O, a 1-8C alkylidene group or a 5-8C cycloalkylidene group.例文帳に追加
(式中、R^1及びR^2は、H、C_1〜8アルキル基、C_5〜8シクロアルキル基を表し、R^3はH又はC_1〜8アルキル基を表す。Xは、単結合、S、O、C_1〜8アルキリデン基又はC_5〜8シクロアルキリデン基を表す。) - 特許庁
A compound is expressed by formula I (wherein: X^1 and X^2 are each independently H, halogen or the like; Y is CH2 or O; and R^1A, R^1B, R^2, and R^3 are each independently H, 1-3C alkyl or the like).例文帳に追加
式I[式中の、X^1、X^2はH、ハロゲンなど、YはCH2又はOであり、R^1A、R^1B、R^2、及びR^3はH又はC1−3アルキルなどを表す]で表される化合物。 - 特許庁
In the formula (I), R^1, R^2 are each independently H or its substituted group, and one of the plurality of substituted groups of R^1, R^2 is a group expressed by (R^3)_3-Si-O-.例文帳に追加
式(I)中、R^1,R^2はそれぞれ独立にHまたは置換基、複数個のR^1,R^2両者の置換基のうち1つは(R^3)_3−Si−O−で表される基。 - 特許庁
A sub seal 2 with a resin seal lip 3 is disposed on the high-pressure compressed side H of the O-ring 1 so that an opening recessed groove 4 may direct the O-ring 1.例文帳に追加
このOリング1に対してその高圧側Hに樹脂製シールリップ3付き副シール2を、その開口凹溝4がOリング1を向くように、配設する。 - 特許庁
By this, a space J more to a combustion pressure sensor 2 side than the O-ring 8 of the space between an inner side face 3i of the housing and the shaft 4 is airtightly maintained with respect to a space H more to a tip side than the O-ring 8.例文帳に追加
このため、ハウジング3の内側面3iと中軸4との間の空間のうちOリング8より燃焼圧センサ2側の空間Jは、Oリング8より先端側の空間Hに対して気密に保持されている。 - 特許庁
In the formula, R^1 represents H or methyl; R^2 represents methylene or ethylene; R^3 represents H or methyl; and X represents O or NH.例文帳に追加
式中、R^1は水素原子またはメチル基を、R^2はメチレンまたはエチレンを、R^3は水素原子またはメチル基を、XはOまたはNHを表わす。 - 特許庁
Materials constituting the respective members are so selected that a relation βh>βs>βo is formed among a coefficient of linear expansion βs of a pinion shaft 2 and an inner ring seat 17, a coefficient of linear expansion βh of a support cylinder 13a, and a coefficient of linear expansion βo of the outer ring seat 20.例文帳に追加
ピニオン軸2及び内輪間座17の線膨張率β_s と、支持筒部13aの線膨張率β_h と、上記外輪間座20の線膨張率β_o との間に、β_h >β_s >β_o の関係が成立する様に、これら各部材を構成する材料を選択する。 - 特許庁
This ink composition contains a urea derivative expressed by general formula(1): (R^1)NH-C(=O)-N(R^2)(R^3) [wherein, R^1, R^2 are each independently H or a 1-4C alkyl; and R^3 is a 1-4C alkyl or -C(=O)-NH_2 group].例文帳に追加
インク組成物は、一般式(1): (R^1)NH−C(=O)−N(R^2)(R^3) (1)〔式中、R^1及びR^2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基であり、R^3は、炭素原子数1〜4のアルキル基又は−C(=O)−NH_2基である〕で表される尿素誘導体を含む。 - 特許庁
Wherein, A is NR^4, CR^5R^6 or O; B is an alkylene or an alkenylene; R^1, R^2, R^4, R^5 and R^6 are each H, an alkyl, an alkenyl, an adamantylalkyl or the like; R^3 is an aryl or an unsaturated heterocycle; and X is O or S.例文帳に追加
式中、Aは−(NR^4)−、−(CR^5R^6)−または−O−を、Bはアルキレンまたはアルケニレン基を、R^1、R^2、R^4、R^5およびR^6は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アダンチルアルキル基などを、R^3はアリ−ル基または不飽和の複素環を、Xは酸素原子または硫黄原子をそれぞれ示す。 - 特許庁
The anti-HIV agent includes a compound represented by formula I [in the formula, R^1 is H, and R^2 is an alkoxy group having one to three carbons, or R^1 and R^2 together form a -O-(CH_2)_2-O-ring, and R^3 is H or a 1-3C alkyl group].例文帳に追加
式I[式中、R^1はHであり、且つR^2は炭素数1〜3個のアルコキシ基であり、又はR^1及びR^2が一緒になって、−O−(CH_2)_2−O−の環を形成し、R^3はH又は炭素数1〜3個のアルキル基である]で表される化合物を含有する抗HIV薬。 - 特許庁
This sulfonyl compound represented by formula (I) (R^1 is 3-6C fluoroalkyl; R^2 is 1-5C fluoroalkyl; Q is O or NR^3; R^3 is H or 1-4C alkyl).例文帳に追加
式(I)〔式中、R^1はC3−C6フルオロアルキル基を表し、R^2はC1−C5フルオロアルキル基を表し、Qは酸素原子又はNR^3を表し、R^3は水素原子又はC1−C4アルキル基を表す。 - 特許庁
This medicine comprises an N,N'-disubstituted urea or thiourea compound expressed by formula (1) (wherein, R^1 is H or a halogen atom; R^2 is O or S; and n is an integer of 1 to 3) or a salt thereof or a hydrate thereof as an effective component.例文帳に追加
一般式(1)(式中、R^1はH、ハロゲン原子、R^2はOまたはS;nは1〜3の整数)で示されるN,N'−ジ置換ウレアまたはチオウレア化合物又はその塩若しくはその水和物を有効成分とする医薬。 - 特許庁
In the rear structure of a vehicle body 1, the upper wall 3a of a bumper beam extension 3 is set at a height H2 which is located at the middle of the height H between the center line O-O of a rear frame 2 and the upper wall 2a thereof and the height H4 between the center line O-O and the upper wall 4a of a bumper beam 4.例文帳に追加
車体1の後部車体構造において、バンパビームエクステンション3の上壁3aは、リヤフレーム2の中心線O−Oから上壁2aまでの高さHと、中心線O−Oからバンパビーム4の上壁4aの高さH4との中間の高さH2に、バンパビームエクステンション3の上壁3aが設定されている。 - 特許庁
The herbicide composition contains a compound of formula (I) [Z is a halogen atom or cyano; A is O or NH; R^1 is hydroxy group, a 1-7C alkoxy group or a 1-7C alkylamino group; and R^2 is H or methyl] and ethyl 2-(4-chloro-6-methoxypyrimidin-2-ylcarbamoylsulfamoyl) benzoate as active components.例文帳に追加
下記式(I) [式中、Zはハロゲン原子またはシアノ基を表し、Aは酸素原子またはNH基を表し、R^1は、ヒドロキシル基、C1〜C7アルコキシ基C1〜C7アルキルアミノ基を表し、R^2は水素原子またはメチル基を表す。 - 特許庁
In the formulas, R^1, R^2, R^3 and R^5 are each H or an organic residue; R^4 is an organic residue; X^1 is O, S or NH; and one of R^6, R^7, R^8 and R^9 is R^5 and the others are H.例文帳に追加
(式中R^1,R^2,R^3,R^5は水素原子又は有機残基を示し,R^4は有機残基を示し,X^1はO、S又はNHを示し,R^6,R^7,R^8,R^9はその内1つがR^5を示し,残りは水素原子を示す。) - 特許庁
In the formulas, R_1 to 2 is H, alkyl group, aralkyl group, aryl group or heterocyclic group and may form a cyclic amino group via N; Z is O or S; (m) is 0 or 1.例文帳に追加
式中、R_1〜2はH、アルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基、Nを介して環状アミノ基を形成してもよく、ZはO又はS、mは0又は1。 - 特許庁
In the formula, X is methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, O or S; Q^F is a polyfluoro divalent organic group; R is H, F or a polyfluoro monovalent organic group; and (k) is 0, 1 or 2.例文帳に追加
ただし、Xはメチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、酸素原子または硫黄原子を、Q^Fはポリフルオロ2価有機基を、Rは水素原子、フッ素原子またはポリフルオロ1価有機基を、kは0、1または2を、示す。 - 特許庁
(A) a hydroxy-terminated organopolysiloxane represented by the formula (1) H-[O-Si(R_2)]_n-OH, (B) a functional group-containing organoalkoxysilane, (C) a surfactant and (D) water.例文帳に追加
(A)一般式(1) H−[O-Si(R)_2]_n-OHで示される末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン、(B)官能基含有オルガノアルコキシシラン、(C)界面活性剤、(D)水。 - 特許庁
The activated carbon has a specific surface area of 400 to 3,000 m^2/g, and in which O/C (atomic ratio) is ≥0.035, and also, H/C (atomic ratio) is ≥0.250.例文帳に追加
比表面積が400〜3000m^2/gであり、O/C(原子比)が0.035以上であり、かつH/C(原子比)が0.250以上であることを特徴とする活性炭。 - 特許庁
Further, 'Y', 'U', 'I', 'O' and 'P' are arrayed on the 5 keys in the top row, 'H', 'J', 'K', and 'L' are arrayed on the 4 keys in the intermediate row, and 'N' and 'M' are arrayed on the 2 keys in the bottom row.例文帳に追加
また、上段1列の5個のキーに「Y」、「U」、「I」、「O」、「P」も配列し、中段1列の4個のキーに「H」、「J」、「K」、「L」も配列し、下段1列の2個のキーに「N」、「M」も配列する。 - 特許庁
The invention provides quinazoline compounds represented by formula (1) (wherein R_1 is F or the like; R_2 is H, F or the like; R_3 is alkyl or the like; R_4 is -(CH_2)m-Het; m is 1, 2 or 3; and X is O or the like).例文帳に追加
式(式中、R1はF等、R2はH又はF等、R3はアルキル基等、R4は-(CH2)m-Hetであり、mは1〜3の整数であり、XはO等である。)のキナゾリン化合物。 - 特許庁
To construct a structure from the series connections shown in Figure 2, connections of A-Q, A-H, B-S, C-G, D-T, E-L, F-J, I-P, K-O, M-T, and N-R are made.例文帳に追加
図2の直列連結体から構造物を構築するに当たってA−Q、A−H、B−S、C−G、D−T、E−L、F−J、I−P、K−O、M−T、N−Rが連結される。 - 特許庁
(RO)2P(O)H... (1), (RO)nP(OH)3-n... (2), (where, n is an integer of 1-3, R is a straight chain of 7-25C or a saturated or nonsaturated alkyl group having a branch).例文帳に追加
(RO)2P(O)H ・・・・・・・・・・(1) (RO)nP(OH)3−n・・・・・・・・・(2) (但し、nは1〜3の整数、Rは炭素数7〜25の直鎖又は分岐を有する飽和又は不飽和アルキル基である。) - 特許庁
The photosensitive resin composition comprises (A) a polyimide precursor having a repeating structural unit represented by formula (1) (where X and Y are each a single bond, -O-, -CH_2-,-CO-, -Si(CH_3)_2-, -C(CH_3)_2-,-C(CF_3)_2-, -C(CH_3)(CF_3)-, -Si(OCH_3)_2-, -C(OCH_3)_2-, -C(OCF_3)_2- or -C(OCH_3)(OCF_3)-; Z is a divalent organic group; and each R_1 is H, a 1-10C alkyl or a photosensitive group), (B) a sensitizer and (C) an aromatic diamine compound.例文帳に追加
また、前記の感光性重合体組成物を用いたレリーフパターンの製造法は、高い解像度と良好なパタ−ン形状が得られ、容易に半導体素子等の表面保護膜、層間絶縁膜等に適用でき、電子部品の高密度化、高信頼度化及び小型、軽量化を達成できる。 - 特許庁
This monomer is a polycyclic compound represented by formula (1) or (2) (wherein R^1 and R^2 are each H or an alkyl or alkoxycarbonyl group; R^3 and R^4 are each H or an alkyl group; and X is a methylene or ethylene group, O or S).例文帳に追加
下記一般式(1)又は(2)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物 (R^1及びR^2は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボニル基を示す。R^3ないしR^7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xはメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。) - 特許庁
The compound of formula I is, for example, obtained by reacting a compound of formula II (L is an eliminable groupe) with a compound of the formula: R3-A-X.例文帳に追加
(A:置換基を有していてもよい低級アルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又シクロアルキレン、X:NR^4、CONR^4、NR^4CO、O又はS、R^1、R^4:H、低級アルキル、−CO−低級アルキル又は−SO_2−低級アルキル、R^2:H、低級アルキル、ハロゲン、ハロゲンで置換された低級アルキル、−O−低級アルキル、−S−低級アルキル、−O−アリール、−O−低級アルキレン−アリール、−S−低級アルキレン−アリール、ニトロ又はシアノ基、R^3:−CO_2H、−CO_2−低級アルキル、−低級アルキレン−CO_2H、−低級アルキレン−CO_2−低級アルキル、−CONHOH、−CONHO−低級アルキル、−低級アルキレン−CONHOH、−NH_2、−(プロドラッグ化されたNH_2、) - 特許庁
Horizontal rolls 2 and 3 are screwed down to a horizontal actual roll gap h with hydraulic cylinder units 8 and 9 additional reference value o' is set to the hydraulic cylinder units 8 and 9 and, based on this additional reference value, the horizontal rolls 2 and 3 are vertically moved in the same direction and at the same value.例文帳に追加
水平ロール(2,3)を、液圧シリンダユニット(8,9)を介して、水平実際ロール間隙(h)に圧下すること、及び液圧シリンダユニット(8,9)に付加基準値(o’)を設定し、この付加基準値に基づいて、水平ロール(2,3)を同方向に同じ値で垂直に変位させることによる。 - 特許庁
The floor member 2 and the opening 8 are formed as square so that the plane shape has a rotational-symmetry, as clearly indicated in a drawing 1(b) and the drain trap 3 for the washing machine is fitted at an position deviated from the center O of the floor member 2 by a distance H.例文帳に追加
床部材2及び開口8は図1(b)でよくわかるように、平面形状が回転対称性を有するように、正方形に形成してあるとともに、洗濯機排水トラップ3は、床部材2の中心Oから距離Hだけ偏芯した位置に取り付けてある。 - 特許庁
An aqueous gas reaction then takes place using the carbonized material 20 as a catalyst within the pyrolysis furnace 2, whereby carbon (C) of the carbonized material 20 combines with oxygen (O) of water (H_2O) to generate hydrogen (H), so as to generate a decomposition gas comprising carbon monoxide (CO), carbon dioxide (CO_2), and hydrogen (H) components within the pyrolysis furnace 2.例文帳に追加
すると、炭化物20が触媒となって、熱分解炉2内において水性ガス反応が起こり、炭化物20の炭素(C)と、水(H_2O)の酸素(O)が化合して水素(H)が生成され、熱分解炉2内において、一酸化炭素(CO)、二酸化炭素(CO_2)、水素(H)の成分からなる分解ガスを発生させるようにした。 - 特許庁
After H ions and He ions are implanted into a silicon substrate with acceleration energy of 5-40 keV, temperature of the silicon substrate is raised to about 500°C and then O ions are implanted with acceleration energy of 30-180 keV thus forming an ion implantation layer 2.例文帳に追加
シリコン基板にHイオン又はHeイオンを、加速エネルギが5keV以上40keV未満で注入した後、該シリコン基板を略500℃に昇温し、それにOイオンを、加速エネルギが30keV以上180keV以下で注入し、イオン注入層2を形成する。 - 特許庁
(where R^1 represents 1-4C alkyl group, phenyl group, H or OH; R^2 represents 1-4C alkyl group or phenyl group; A represents OH, 1-4C alkyl group, or -O- involving in crosslinking; m_1 and m_2 each represent an integer of 1-10; and n represents an integer of 1-20.)例文帳に追加
(R^1は炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、H又はOH、R^2は炭素数1〜4のアルキル基、又はフェニル基、AはOH、炭素数1〜4のアルキル基、又は架橋に関与する−O−であり、m_1,m_2はそれぞれ1〜10の整数、nは1〜20の整数) - 特許庁
The level value o of the target picture element is supplied to a multiplier 9 and it is multiplied with a random gain set value α, the multiplied value is supplied to an adder 5 and it is added with the level values a to h from the output ports 3 of a selecting circuit 2, and the added value is supplied to an analog divider 7.例文帳に追加
さらに注目画素のレベル値oが乗算器9に供給され、任意のゲイン設定値αと乗算され、この乗算値が加算器5に供給されて選択回路2の出力ポート3からのレベル値a〜hと加算されて加算値が除算器7に供給される。 - 特許庁
The [acylaminopyrazinato-O, N] boron derivative is represented by the general formula of the figure (wherein R^1, R^2, R^3, and R^4 are each independently H, alkyl, or the like; R^5 and R^6 are each independently halogen, alkyl or the like).例文帳に追加
[アシルアミノピラジナト−O,N]ボロン誘導体は、一般式(式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は、それぞれ独立に水素原子、又はアルキル基等、R^5及びR^6は、それぞれ独立に、ハロゲン基、アルキル基等を示す。)で表される。 - 特許庁
As a plasma operating gas, a gaseous mixture of Ar-H2 contg. 2 to 20 vol.% H2 is used, active H atoms produced by the dissociation of H2 are reacted with impurities in the metallic material, and C, N and O are converted into CH4, NH3 and H2O respectively and are removed.例文帳に追加
プラズマ作動ガスとしてAr−H_2混合ガスであって2〜20容積%のH_2を含有するガスを使用し、H_2 の解離によって生じた活性なH原子と金属材料中の不純物とを反応させて、C,NおよびOを、それぞれCH_4,NH_3およびH_2O に転化させて除去する。 - 特許庁
The aluminum nitride-based powder comprises combined particles in each of which a coating layer is formed on the surface of an aluminum nitride particle and is characterized in that (1) the coating layer contains Si, O, H, and an alkyl group and (2) the amount of organic carbon contained in the powder is 0.02-1.0 wt.%.例文帳に追加
窒化アルミニウム粒子の表面に被覆層が形成された複合粒子からなる粉末であって、(1)前記被覆層がSi、O、H及びアルキル基を含み、(2)前記粉末の有機炭素量が0.02〜1.0重量%である、ことを特徴とする窒化アルミニウム系粉末。 - 特許庁
The new carbazole derivative fluorescence-luminescent substance is a compound of formula 1 [wherein A is an electron-donating group such as an alkyl group or the like; B is an electron-attractive group such as a group of formula 2 (wherein Z is H, cyano or an ester group, and at least one o them is cyano or an ester group)].例文帳に追加
式1の新規カルバゾール誘導体蛍光発光物質(式1中Aはアルキル等の電子供与性基、Bは例えば式2で示される電子吸引性基。式2中ZはH、シアノ基、エステル基であり少なくとも1つはシアノ基又はエステル基)。 - 特許庁
In the formula, R^1, R^2 are each independently H, F, a ≤3C alkyl group or a ≤3C fluoroalkyl group, Q is O, NR^3 (R^3 is H, ≤6C alkyl group, an alkylcarbonyl group or a tosyl group) or a divalent organic group optionally having a functional group.例文帳に追加
CF_2=CR^1−Q−CR^2=CH_2 ・・・(1)(ただし、R^1、R^2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数3以下のアルキル基または炭素数3以下のフルオロアルキル基、Qは酸素原子、NR^3(R^3は水素原子、炭素数6以下のアルキル基、アルキルカルボニル基またはトシル基を表す)または官能基を有していてもよい2価の有機基、を表す。) - 特許庁
The photosensitive layer contains at least one of the compounds shown by formula (I), wherein R^1 and R^4 each represent H, alkyl or aryl; R^2 represents halogen, alkyl or alkoxy; R^3 represents H, alkyl, aryl or a heterocyclic group; n represents an integer of 0 to 5; X represents O or S; and a substituent of each group is halogen, aryl or alkoxy.例文帳に追加
感光層が、下記一般式(I)、(式(I)中、R^1およびR^4は、水素原子、アルキル基、またはアリール基を表し、R^2は、ハロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基を表し、R^3は水素原子、アルキル基、アリール基、または複素環基を表し、nは0〜5の整数を表し、Xは酸素原子またはイオウ原子を表し、置換基はハロゲン原子、アリール基またはアルコキシ基を表す)で示される化合物の少なくとも一種を含有する。 - 特許庁
This composition contains a sulfoxide compound represented by formula (1) (wherein R^1 to R^8 are each H, a halogen or a 1-6C alkyl group; X^1 and X^2 are each independently O or S; and n is a mean repeat number, being a real number of 0-10).例文帳に追加
下記一般式(1); (式中、R^1〜R^8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を示す。X^1、X^2は、それぞれ独立して、酸素原子または硫黄原子を示す。nは、平均繰り返し数であり、0〜10の実数を示す。)で表されるスルホキシド化合物を含む硬化性樹脂組成物。 - 特許庁
In the handling method of an alcohol raw material to be reacted with alkylene oxide, the alcohol raw material contains an unsaturated alcohol represented by the following general formula (1): CH_2=CR^1-(R^2)_n-O-(R^3O)_m-H as a main ingredient, and a water content of the alcohol raw material is controlled at ≤2,000 ppm.例文帳に追加
アルキレンオキサイドと反応させるアルコール原料を取り扱う方法であって、該アルコール原料は、下記一般式(1):CH_2=CR^1−(R^2)_n−O−(R^3O)_m−H (1)で表される不飽和アルコールを主成分として含み、該アルコール原料中の水分含有量を2000ppm以下に制御することを特徴とするアルコール原料の取り扱い方法。 - 特許庁
The ultraviolet-curing composition used as the laminating adhesive contains 0.01-5 mass% thioether compound of the formula: S-(CH_2-CH_2-COO-R_1)_2 (wherein S, C, H and O are sulfur, carbon, hydrogen and oxygen atoms, respectively; and R_1 is an alkyl group) based on the composition.例文帳に追加
貼り合わせ用・接着剤としての紫外線硬化型組成物を、下記一般式(Ι)S−(CH_2−CH_2−COO−R_1)_2 (Ι)(ここで、S、C、H、Oは、それぞれ、イオウ、炭素、水素、酸素の各原子を、また、R_1はアルキル基を表す)で表されるチオエーテル系化合物を、組成物に対して、0.01〜5質量%含有したものとする。 - 特許庁
The method for producing a fluoropolymer includes polymerizing a fluoromonomer in an aqueous medium in the presence of a compound (I) represented by the general formula (1): Rf^1O(Rf^2O)P(O)OM, wherein Rf^1 and Rf^2 are different from each other and each a 3-4C fluoroalkyl group, and M represents H, Na or NH_4.例文帳に追加
水性媒体中で、一般式(1)Rf^1O(Rf^2O)P(O)OM (1)(Rf^1及びRf^2は、互いに異なって、それぞれ炭素数が3〜4のフルオロアルキル基であり、Mは、H、Na又はNH_4を表す。)で表される化合物(I)の存在下でフルオロモノマーを重合することを特徴とするフルオロポリマーの製造方法。 - 特許庁
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