「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing system capable of highly accurately controlling the line width of a pattern formed on a substrate.例文帳に追加

基板に形成するパターンの線幅を精度よく制御することができる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁

On the other hand, when the control point is moved in a region B on the opposite side, the route line is displayed with high transparency and large width.例文帳に追加

一方、反対側の領域Ｂに制御点が遷移しているときは透過率が高く線の太さが太い表示態様である。 - 特許庁

Positions of the bottoms 31, 32 are detected, based on the edge signal after a disturbance noise component is removed, to measure the line width of the mark.例文帳に追加

外乱ノイズ成分が除去された後のエッジ信号に基づいてボトム３１，３２の位置を検出し、マークの線幅を測定する。 - 特許庁

Therefor, separation of the rolling oil component does not occur and the oil concentration can be uniform to make 'cutting-off in width' possible in a practical line.例文帳に追加

このため圧延油の油分の分離がなく、油分濃度を均一とすることができるから、実ラインにおける「幅切り」が可能となる。 - 特許庁

By adjusting a channel width ratio of each transistor, a potential of a signal line S is controlled to the potential causing no visible display unevenness.例文帳に追加

また、各トランジスタのチャネル幅比を調節することにより信号線Ｓの電位を表示ムラが視認されない電位に調節する。 - 特許庁

Secondary, the airbag 11 is folded back along a folding line 42 extending on both sides thereof so that it matches the width dimensions of a case, thereby creating a deployment suppressing section 44.例文帳に追加

次いで、両側の側部折畳線42に沿って、ケース体の幅寸法に合わせて折り返し、展開抑制部44を形成する。 - 特許庁

The material pattern formation method by an ink-jet method gives a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加

本発明のインクジェット方式による材料パターン形成方法は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られる。 - 特許庁

The coordinates at the intersection point of the pattern 11 and the boundary 12 of the sub-fields is first determined and the line width W of the pattern in this place is determined.例文帳に追加

まず、パターン１１とサブフィールドの境界１２との交点の座標を求め、その場所におけるパターンの線幅Ｗを求める。 - 特許庁

In this case, a vehicle and a shadow are segmented with changed width and the number of frequencies of the gray levels equivalent to the line-shaped trap (S26).例文帳に追加

この際、ライン状トラップに当たるグレーレベルの変化幅及び頻度数でもって車両と影を区分することができる（Ｓ２６）。 - 特許庁

The resist pattern having a film thickness 1 to 100 μm and an aspect ratio (ratio of a line width to the film thickness of the resist pattern) ≥3.5 is formed.例文帳に追加

膜厚が１〜１００μｍであり、アスペクト比（レジストパターンの膜厚に対する線幅の比）が３．５以上であるレジストパターンとする。 - 特許庁

To perform an image processing such as line width control or image emphasis equivalent to a binary image to an image subjected to antialias processing (gray edge processing).例文帳に追加

アンチエイリアス処理された画像に対し、バイナリ画像と同等の線幅制御や画像強調などの画像処理を可能にする。 - 特許庁

To form a wiring pattern which is free from cracks and is superior in line width reproducibility, adhesion, and conductivity and furthermore is superior in decapping.例文帳に追加

ひび割れが発生しない、線幅再現性、接着性、導電性に優れ、更にはデキャップ性に優れる配線パターンを形成すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of electrodes of a PDP, in which a line width of the electrode can be reduced without increasing the resistance component of the electrode.例文帳に追加

本発明は電極の抵抗成分を増加させずに電極の線幅を減らせるＰＤＰの電極製造方法に関する。 - 特許庁

It is basically Osaka yakidashi (a temper pattern around the root of blade) which is added with Gonome (regular wavelike pattern) of a broad regular width which could reach the line of ridge. 例文帳に追加

-大坂焼き出しに焼き幅が鎬筋にかかる程広く、一定のリズムの互の目を交え、焼き幅が一定となるものを基本とする。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a fluid control device which further reduces an occupied space of a device by narrowing a width of a line.例文帳に追加

ラインの幅を狭くすることにより、装置の占有スペースをより一層減少することができる流体制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse-width control circuit, a scanning line drive circuit, and a semiconductor integrated circuit which operate with low power consumption and are small-sized and lightweight.例文帳に追加

低消費電力で動作し、小型・軽量なパルス幅制御回路、走査線駆動回路及び半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having small temperature and humidity dependence of letter line width in development and suitable for use in a photomechanical process.例文帳に追加

文字線幅の現像時の温湿度依存性が小さい、写真製版用途に好適な熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁

The width W0 of the refractive index waveguide 50 is made uniform in the extending direction of the projected line 40, 10 μm or more for example.例文帳に追加

屈折率導波路５０の幅Ｗ０は、突条部４０の延在方向において一様であり、例えば１０μｍ以上である。 - 特許庁

It is understood from an intersection A of both the corresponding lines (1), (2) that the allowable exposure threshold for making small the line-width variations of both the patterns (1), (2) is set to 0.423.例文帳に追加

両方のパターンで線幅変動を小さくするには、 と に対応する線の交点Ａから、閾値を0.423とすればよいことがわかる。 - 特許庁

To provide a drawing method of fine lines which eliminates a break of thin lines, improves the wettability, improves the throughput and narrows a line width.例文帳に追加

細線のとぎれを無くし、濡れ性を改善し、またスループットを向上させ、線幅を狭くする微細線の描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material that undergoes a small change in the line width of letters (practical sensitivity) independently of temperature and humidity conditions in development.例文帳に追加

現像時の温湿度条件による文字線幅（実技感度）の変動が小さい熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

The resist film is subjected to exposure processing according to a conventional method and then developed to form a resist pattern 18 of a specified line width.例文帳に追加

次いで、従来の方法に従ってレジスト膜に露光処理を施し、現像して、所定線幅のレジストパターン１８を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel, with which no portion with a locally widened line width of a sealing material is produced.例文帳に追加

局所的にシール材の線幅が大きくなった部分が発生しないような液晶液晶パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The lower limit value of the line width of the actual segment is set, so that the image being up to the expectations of the operator is formed.例文帳に追加

実際の線分の線幅の下限値を設定することができるので、操作者が期待するとおりの画像を形成することができる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method and a charged particle beam exposure system in which nonuniformity of CD (line width of pattern) due to fogging is improved.例文帳に追加

かぶりによるＣＤの不均一性を改善した荷電粒子ビーム露光方法及び荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

Reading is enabled while fixing the number of pixels in the main scan direction by the line sensor 303 regardless of the difference in the width of the film.例文帳に追加

フィルムの幅寸法の違いにかかわらずラインセンサ３０３により主走査方向の画素数が一定の読み取りが実現できる。 - 特許庁

To surely form a circuit board that discharges minute droplets and has an electronic circuit provided with a line width which is finer than several tens of micrometers.例文帳に追加

微細な液滴を吐出し、数十[μｍ]よりも更に微細な線幅の電子回路を備えた回路基板を確実に形成する。 - 特許庁

A tip portion of paper rewound from a paper supply section 40 is cut along a straight line inclined with respect to a width direction of the paper.例文帳に追加

用紙供給部４０から巻き解かれた用紙の先端を、用紙の幅方向に対して傾斜した直線に沿って切断する。 - 特許庁

To obtain a high frequency transmission line which ensures high slow-wave effect without enlarging the occupied area in the width direction.例文帳に追加

幅方向の占有面積を拡大することなく、高い遅波効果を得ることができる高周波伝送線路を得ることを目的とする。 - 特許庁

The contraction flow part 5 is formed so that the radius of curvature R of the cross-section including the axial line P is larger than the width (d) of the throttle part 6.例文帳に追加

縮流部５は軸線Ｐを含む断面において曲率半径Ｒが絞り部６の幅ｄより大きく形成されている。 - 特許庁

To improve temporal stability and pattern forming property after preparation and to suppress variation in the line width of a pattern due to variation in light exposure.例文帳に追加

調製後の経時安定性及びパターン形成性を向上し、露光量変動によるパターンの線幅変動を抑制する。 - 特許庁

A main controller 28 changes a control factor of the system 100 contributing to the throughput, in response to a minimum line width of the pattern.例文帳に追加

また、主制御装置２８が、パターンの最小線幅に応じてスループットに寄与する露光システム１００の制御ファクタを変更する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves the profile of a resist pattern and suppresses a variation of line width due to laying in a vacuum chamber.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型レジスト組成物が提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of giving a pattern in which a change in the line width is low, while maintaining high sensitivity even when a recycled developing solution is used.例文帳に追加

リサイクル現像液を用いても、高感度を維持しながら、線幅変化が低いパターンを与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition showing good LWR (line width roughness), a pattern profile and extremely superior performance in pattern-falling resistance.例文帳に追加

良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Inspection units 10 and 20 performing macro defect inspection or line width measurement of a pattern are disposed in the indexer ID.例文帳に追加

マクロ欠陥検査やパターンの線幅測定等を行う検査ユニット１０および検査ユニット２０はインデクサＩＤの内部に配置している。 - 特許庁

To manufacture easily an electromagnetic wave shielding type light transmission window material having a mesh conductive pattern with small line width and high numerical aperture.例文帳に追加

線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を容易に製造する。 - 特許庁

A carriage reference line is interposed between the two sensors 150 separated from each other by a space wider than the width of the notch 12 of the wafer 10.例文帳に追加

二つのセンサー１５０は搬送基準軸を挟んでウエハ１０のノッチ１２の幅より広い間隔を置いて配置されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that enables an Au-series fine metal wire to be formed with proper line width controllability.例文帳に追加

Ａｕ系微細金属配線を線幅制御性良く形成することを可能とする半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the polygon mirror 25 is fast rotated, an oscillation wavelength which still has a narrow line width is scanned rapidly in a broad band.例文帳に追加

ポリゴンミラー２５を高速で回転させた場合に、狭線幅のままで発振波長を高速に広帯域に走査させることができる。 - 特許庁

Namely, the correlation between the pitch of the pattern and correction quantities (bias quantity) of the line width and length of the shifter part is assumed and put in a table.例文帳に追加

つまり、パターンのピッチと、シフタ部の線幅、線長の補正量（以下、バイアス量と言う）との相関関係を規定し、テーブル化する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method which controls line width variations among sparse and dense wiring portions formed in an etching object layer.例文帳に追加

エッチング対象層に形成される疎密配線部間の線幅ばらつきを小さく抑えることができるプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The biggest roof-tile kiln currently in service in Japan is a tunnel kiln whose dimensions are 110m in length and one line and 12 rows of flat-type tiles in width. 例文帳に追加

日本国内で現在稼働している最大の瓦窯は、容積としては長さ110m×幅F形12列1段のトンネル窯である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

If two arcs join correctly and if the line-width is greater than zero and the arcs intersect, XDrawArc and XDrawArcs do not draw a pixel more than once.例文帳に追加

正しく接続している2つの弧の幅が 0 より大きく、弧が交わっている場合には、XDrawArcとXDrawArcsは、1つのピクセルを1度しか描画しない。 - XFree86