「PHOTOFABRICATION」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a photo-setting liquid resin composition useful for forming a three-dimensional formed article by inkjet photofabrication method.例文帳に追加

インクジェット光造形法による立体造形物形成用に有用な光硬化性液状樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The other side part of the fabricated article is molded on the metal plate 54 by the photofabrication method.例文帳に追加

そして金属板５４上に造形物の他方の側の部分５７を光造形の方法によって成形するようにしたものである。 - 特許庁

To provide an integrated circuit photofabrication mask which improves resolution, extends focal depth and reduces image shortening.例文帳に追加

解像性能を向上するとともに焦点深度を深くでき、イメージショートニングを低減できる集積回路用露光マスクを提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an electrostatic wobble motor which can be manufactured with a photofabrication process and rotates with an electrostatic force between a stator and a rotor, and also to provide a method of fabricating the same wobble motor.例文帳に追加

フォトファブリケーションプロセスにおいて製造され、ステータとロータ間の静電気力によって回転する静電ワブルモータおよびその製造方法。 - 特許庁

A crater shape or a rugged shape is formed on a transparent film surface by a photofabrication method using an ionization radiation curing resin composition.例文帳に追加

透明フィルム表面に電離放射線硬化型樹脂組成物を用いて光造形法によりクレーター形状または、凹凸形状を形成する。 - 特許庁

Applying a photofabrication process to a flat metal plate, an outer edge portion of a whole of a retainer 5 including a pocket 4 and a plurality of through holes 6 penetrating in a radial direction are collectively formed.例文帳に追加

扁平金属板にフォトファブリケーションを施して、ポケット４を含む保持器５全体の外縁部と、径方向に貫通する複数の貫通孔６とを一括に形成した。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use in an ultramicro-lithography process and another photofabrication process and ensuring improved edge roughness.例文帳に追加

超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができる、エッジラフネスが著しく改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The three-dimensional model of the molding member for creating the cement spacer is formed into the molding member for creating the cement spacer by a rapid prototyping technique such as photofabrication.例文帳に追加

このセメントスペーサー作成のための鋳型部材の３次元モデルを光造形などのラピッドプロトタイピング技術で製造したものが、セメントスペーサー作成用の鋳型部材となる。 - 特許庁

To provide a molding method by outsert molding using a photofabrication method which can be applied widely to various fabricated articles without being limited by the shape or structure of a fabricated article.例文帳に追加

造形物の形状あるいは構造に制限されることなく各種の造形物に広く適用可能な光造形法を利用したアウトサート成形による成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photofabrication method and an apparatus, which utilize, of UV contained in light from a light source, the UV of a predetermined wavelength that is effective to the curing of a photocurable resin composition and which prevent or suppress the degradation by UV of a liquid crystal drawing mask used in the photofabrication to prolong the service life of the mask.例文帳に追加

光源からの光に含まれる紫外線のうち、光硬化性樹脂組成物の硬化に有効な所定波長の紫外線を高効率で利用すると共に、光造形に使用する液晶描画マスクの紫外線による劣化を防止または抑制して、液晶描画マスクの使用可能寿命を延長させることのできる光造形方法および装置の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an optical element which transmits light and is free of damage due to chucking even when a photofabrication method used for semiconductor manufacture is used.例文帳に追加

半導体製造に使われているいわゆるフォトファブリケーション方法を用いても、製造した光学素子を光が透過し、かつチャッキングによる傷も発生しない、光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

DISTYRYLBENZENE DERIVATIVE AND MATERIAL FOR FORMING THREE DIMENSIONAL MEMORY, LIGHT LIMITING MATERIAL, CURING MATERIAL FOR PHOTOCURABLE RESIN FOR USE IN PHOTOFABRICATION, AND FLUORESCENT PIGMENT MATERIAL FOR USE IN TWO-PHOTON FLUORESCENT MICROSCOPE, EACH COMPRISING THE SAME例文帳に追加

ジスチリルベンゼン誘導体及びこれを用いた三次元メモリ材料、光制限材料、光造形用光硬化樹脂の硬化材料、並びに二光子蛍光顕微鏡用蛍光色素材料。 - 特許庁

The integrated circuit photofabrication mask is provided with a light-transmissive substrate 43 and a mask layer 45 which is formed on the light-transmissive substrate and in which a circuit pattern for exposing a photosensitive material is formed.例文帳に追加

集積回路用露光マスクは、光透過性基板４３と、この光透過性基板上に形成され、感光性材料を露光するための回路パターンが形成されたマスク層４５とを備えている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for stably forming a high-definition fine pattern for use in the production process of a semiconductor, in the production of a circuit substrate of liquid crystal, thermal head and the like or in other photofabrication processes.例文帳に追加

半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程等に使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition having improved dependence on a thin-dense pattern and usable in an ultramicrolithographic process and another photofabrication process for producing VLIS and high capacity microchips.例文帳に追加

疎密パターン依存性が改善され、超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケ−ションプロセスに使用することができる化学増幅型の感放射線性レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photofabrication method for manufacturing various molding objects of solids ranging from a small size to a large size with high molding accuracy, without causing poor appearances such as uneven cure, streaks and height differences, with a fast molding speed and with good productivity, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

小型から大型に至る各種の立体造形物を、高い造形精度で硬化ムラやスジ、段差等の外観不良を生ずることなく、速い造形速度で生産性良く製造するための光造形方法および装置の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which solves the problem of the occurrence of development defects and scum in development in micro-photofabrication using far ultraviolet light and which is capable of giving a resist pattern excellent in adhesion to a substrate.例文帳に追加

遠紫外光を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、現像の際の現像欠陥発生及びスカムの発生の問題を解消し、更には基板密着性に優れたレジストパターンを与え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A photoresist composition is especially useful for chemical amplification type photoresist compositions, and can suitably be used for wide uses such as fine processing of semiconductors, liquid crystals, the production of circuit boards for thermal heads and the like, and other photofabrication processes.例文帳に追加

フォトレジスト組成物は、特に、化学増幅型フォトレジスト組成物に有用であり、半導体の微細加工、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程等、広範な用途に好適に利用することができる。 - 特許庁

In this needle-like body manufacturing method, needle-like body division parts are formed by exposing a light curable resin solution using a photofabrication apparatus, and the needle-like body division parts are bonded outside the light curable resin solution.例文帳に追加

本発明の針状体製造方法は、光造型装置を用いて光硬化性樹脂溶液を露光することで針状体分割部位を形成し、該光硬化性樹脂溶液の外で、該針状体分割部位を接合することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which is used to manufacture a circuit board of a semiconoductor element such as an IC, a liquid crystal display device, a thermal head, etc., and further for lithography processes of other photofabrication, and is not apt to have film reduction and pattern collapse, and a pattern forming method.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use in an ultramicro-lithographic process for manufacturing VLSI or a high capacity microchip and in another photofabrication process, and having improved PEB temperature dependency, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップ製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ＰＥＢ温度依存性が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive composition having a large exposure margin and small thinness-denseness dependency, which is used in a process of manufacturing a semiconductor such as an IC, in manufacture of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、露光マージンが広く、疎密依存性が小さい優れた感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which has superior resolution and excellent line edge roughness, the positive photoresist composition being a photosensitive composition used for a process of manufacturing a semiconductor such as an IC, manufacture of liquid crystal, the circuit board of a thermal head, etc., other photofabrication processes, etc.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、解像力に優れ、且つ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for use in manufacturing steps of a semiconductor, such as an IC, for the manufacture of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and for other photofabrication steps, the positive resist composition superior in resolution, superior in the margin of exposure amount and PEB temperature dependence.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるレジスト組成物であり、解像力に優れ、露光量マージン、ＰＥＢ温度依存性にも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in resolution, development defects and outgassing and a pattern forming method using the same, which are a positive resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像力、現像欠陥、アウトガスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for improving the performance of essential micro-photofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and also to provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays which suppresses pattern collapse or LER (line edge roughness).例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、パターン倒れ性、ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）が抑制できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for ceramic molding by a photofabrication method which can constantly obtain good thixotropy and coating properties even with varied number average particle diameters and compounding ratios of inorganic fine particles of the component of the composition, and can prepare a high-precision, three-dimensional fabricated article.例文帳に追加

光造形法によるセラミック成形に用いるための組成物であって、該組成物の成分である無機系微粒子の数平均粒径及び配合割合を変えても、常に良好なチクソトロピー性及び塗布性を得ることができ、高精度の立体造形物を作製しうる光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution, line edge roughness and side lobe margin and a pattern forming method using the same, which is a resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像性、ラインエッジラフネス、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and giving a resist pattern free from residue on development and having no density dependency even when an acid decomposable resin containing an introduced alicyclic hydrocarbon part is used in micro- photofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、脂環式炭化水素部位が導入された酸分解性樹脂を用いたときでも、十分な感度及び解像力を有し、現像残査及び疎密依存性のないレジストパターンを与えるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A measuring cell is constituted by bonding glass substrates 1, 2 and a flow channel groove 6 is formed in the bonding surface of the glass substrate 1 by photofabrication technique and wet etching technique and through- holes 9, 10 for introducing and discharging a liquid sample are formed in the glass substrate 2 and an optically opaque Si film 3 is formed in the bonding surface as a slit by a sputtering method.例文帳に追加

ガラス基板１、２を接合して構成され、ガラス基板１の接合面にはフォトファブリケーション技術およびウェットエッチング技術により流路溝６が形成されるとともに、ガラス基板２には液体試料導入および排出のための貫通孔９、１０が形成され、接合面にスパッタ法等により光学的に不透明なＳｉ膜３をスリットとして形成する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition that is used for processes of manufacturing semiconductors such as an IC, manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and for other photofabrication processes, and to provide a patterning method that uses the composition, wherein superior line width roughness (LWR) performance can be obtained.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能を得ることを可能にしたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in pattern shapes, PEB temperature dependency and exposure latitude, and to provide a pattern forming method using the positive photosensitive composition, in the positive photosensitive composition and a pattern forming method using the positive photosensitive composition to be used for production processes of semiconductors such as ICs, production of circuit boards for liquid crystals, thermal heads or the like, and other photofabrication processes.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、ＰＥＢ温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁